本發(fā)明涉及精密加工技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種拋光方法。
背景技術(shù):
相關(guān)技術(shù)中,針對(duì)高硬度材料如cvd金剛石,是以金剛石砂輪拋光,由于材料硬度高,耗材消耗量大,且拋光時(shí)間長(zhǎng),生產(chǎn)效率低。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。為此,本發(fā)明提出一種拋光方法,所述拋光方法的拋光效率提高,成本降低。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光方法,所述拋光方法包括:將兩片待拋光物的待拋光面對(duì)向放置并在兩個(gè)待拋光面之間放入拋光液,使兩個(gè)待拋光物相對(duì)移動(dòng)進(jìn)行拋光。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光方法,通過使兩個(gè)待拋光物相對(duì)移動(dòng)有利于保證拋光過程的順利進(jìn)行,并且可同時(shí)拋光兩個(gè)待拋光物的兩個(gè)平面,由此,可以提高生產(chǎn)效率,減少耗材使用,降低成本。
另外,根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的拋光方法還具有如下附加的技術(shù)特征:
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例,拋光過程中兩個(gè)所述待拋光物分別自轉(zhuǎn)和相對(duì)平移。
進(jìn)一步地,兩個(gè)所述待拋光物每分鐘進(jìn)行10到20次相對(duì)平移。
可選地,兩個(gè)所述待拋光面均為圓形,且一個(gè)所述待拋光物最大平移距離不小于所述待拋光面直徑的兩倍。
在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,兩個(gè)所述待拋光物相對(duì)平移過程中添加所述拋光液。
在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,兩個(gè)所述待拋光物的自轉(zhuǎn)速度不同和/或自轉(zhuǎn)方向相反。
具體地,兩個(gè)所述待拋光物的自轉(zhuǎn)速度均為50rpm~160rpm且自轉(zhuǎn)方向相反。
可選地,兩個(gè)所述待拋光物相對(duì)平移的同時(shí)各自自轉(zhuǎn)。
在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,兩個(gè)所述待拋光物相對(duì)平移的同時(shí)各自自轉(zhuǎn)。可選地,所述拋光液的磨料包括金剛石、碳化硅、碳化硼、氧化鋁以及氧化硅中的至少一種。
可選地,所述拋光液中磨料的比例為5%~20%。
本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出,部分將從下面的描述中變得明顯,或通過本發(fā)明的實(shí)踐了解到。
附圖說明
本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解,其中:
圖1是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光方法的一個(gè)流程圖。
具體實(shí)施方式
下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例,所述實(shí)施例的示例在附圖中示出,其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的,旨在用于解釋本發(fā)明,而不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
在本發(fā)明的描述中,需要理解的是,術(shù)語(yǔ)“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“水平”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。此外,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個(gè)或者更多個(gè)該特征。在本發(fā)明的描述中,除非另有說明,“多個(gè)”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)以上。
在本發(fā)明的描述中,需要說明的是,除非另有明確的規(guī)定和限定,術(shù)語(yǔ)“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解,例如,可以是固定連接,也可以是可拆卸連接,或一體地連接;可以是機(jī)械連接,也可以是電連接;可以是直接相連,也可以通過中間媒介間接相連,可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言,可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本發(fā)明中的具體含義。
針對(duì)高硬度材料如cvd金剛石,相關(guān)技術(shù)中是以金剛石砂輪拋光或者傳統(tǒng)的單面拋光設(shè)備。一次只能拋光一個(gè)平面,由于材料(例如金剛石等)的硬度高,導(dǎo)致耗材消耗量大,且拋光時(shí)間長(zhǎng),生產(chǎn)效率低。
本發(fā)明提供的拋光方法可同時(shí)拋光兩片晶圓的兩個(gè)平面,大大提高生產(chǎn)效率,減少耗材使用。本發(fā)明提出的拋光方法主要用于cvd金剛石拋光,也可應(yīng)用于其他硬度較高的材料如碳化硅。
下面描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光方法。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光方法,拋光方法包括:將兩片待拋光物的待拋光面對(duì)向放置并在兩個(gè)待拋光面之間放入拋光液,使兩個(gè)待拋光物相對(duì)移動(dòng)進(jìn)行拋光。也就是說,在拋光的過程中,將兩片待拋光物(例如晶圓等)的待拋光面對(duì)向放置(例如,在上下方向上相對(duì)放置),其中,兩個(gè)待拋光物采用接觸拋光的方式(必要時(shí)可采用加壓拋光),并在兩個(gè)待拋光面之間放入拋光液,使兩個(gè)待拋光物相對(duì)移動(dòng)進(jìn)行拋光。通過拋光液可以起到促進(jìn)化學(xué)反應(yīng),增大摩擦力等作用,通過使兩個(gè)待拋光物相對(duì)移動(dòng)有利于保證拋光過程的順利進(jìn)行,并且可同時(shí)拋光兩個(gè)待拋光物的兩個(gè)平面,大大提高生產(chǎn)效率,減少耗材使用。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光方法,通過使兩個(gè)待拋光物相對(duì)移動(dòng)有利于保證拋光過程的順利進(jìn)行,并且可同時(shí)拋光兩個(gè)待拋光物的兩個(gè)平面,由此,可以提高生產(chǎn)效率,減少耗材使用,降低成本。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例,拋光過程中兩個(gè)待拋光物分別自轉(zhuǎn)和相對(duì)平移。換言之,在拋光過程中,兩個(gè)待拋光物可以分別各自旋轉(zhuǎn),并且兩個(gè)待拋光物可以相對(duì)平移。例如,下拋光頭及其上安裝的待拋光物可以轉(zhuǎn)動(dòng),上拋光頭及其上的待拋光物可以既轉(zhuǎn)動(dòng)又?jǐn)[動(dòng)(移動(dòng))。由此,有利于提高拋光效率,保證拋光效果。
為了便于描述,將上拋光頭上安裝的待拋光物記為上晶圓,下拋光頭上安裝的待拋光物記為下晶圓。然而,這并不能理解為對(duì)發(fā)明的限制。
進(jìn)一步地,兩個(gè)待拋光物每分鐘進(jìn)行10到20次相對(duì)平移。這樣可以進(jìn)一步保證拋光效果,縮短拋光時(shí)間,提高拋光效率。例如,兩個(gè)待拋光物每分鐘可以進(jìn)行10次、15次或20次相對(duì)平移。
在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,兩個(gè)待拋光物相對(duì)平移過程中添加所述拋光液。也就是說,在兩個(gè)待拋光物相對(duì)平移時(shí)例如上拋光頭上固定的待拋光物相對(duì)下拋光頭上固定的待拋光物進(jìn)行平移時(shí),可以向兩個(gè)待拋光面之間放入拋光液。這樣有利于保證拋光效果。
可選地,兩個(gè)待拋光面均為圓形,并且一個(gè)所述待拋光物最大平移距離不小于(例如大于或等于)所述待拋光面直徑的兩倍。由此,通過上拋光頭上的上晶圓可以更好地對(duì)下拋光頭上的下晶圓進(jìn)行拋光,且有利于加入拋光液,保證拋光效果。
例如,上拋光頭夾持上晶圓以第一預(yù)定速度轉(zhuǎn)動(dòng),下拋光頭夾持下晶圓以第二預(yù)定速度轉(zhuǎn)動(dòng),同時(shí),上拋光頭以預(yù)定頻率和預(yù)定幅度相對(duì)下拋光頭往復(fù)運(yùn)動(dòng)。所述預(yù)定頻率為10至20次/mim,所述預(yù)定幅度為所述上晶圓直徑的2倍。有利于縮短拋光時(shí)間,保證拋光效率。
在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,兩個(gè)待拋光物的自轉(zhuǎn)速度不同和/或自轉(zhuǎn)方向相反。換句話說,兩個(gè)待拋光物的自轉(zhuǎn)速度不同和/或兩個(gè)待拋光物的自轉(zhuǎn)方向相反。包括兩個(gè)待拋光物的自轉(zhuǎn)速度不同;兩個(gè)待拋光物的自轉(zhuǎn)方向相反;以及兩個(gè)待拋光物的自轉(zhuǎn)速度不同和兩個(gè)待拋光物的自轉(zhuǎn)方向相反三種技術(shù)方案。由此,有利于根據(jù)拋光精度適應(yīng)性選擇兩個(gè)待拋光物的自轉(zhuǎn)速度和自轉(zhuǎn)方向。
具體地,兩個(gè)待拋光物的自轉(zhuǎn)速度均為50rpm~160rpm且自轉(zhuǎn)方向相反。也就是說,兩個(gè)待拋光物的自轉(zhuǎn)速度均為50rpm~160rpm,并且兩個(gè)待拋光物的自轉(zhuǎn)方向可以相反。由此,有利于提高拋光效率,保證拋光效果。
其中,兩個(gè)待拋光物的自轉(zhuǎn)速度均可以為50rpm、80rpm、100rpm、120rpm、150rpm或160rpm等。兩個(gè)待拋光物的自轉(zhuǎn)速度可以按需選擇。
可選地,兩個(gè)所述待拋光物相對(duì)平移的同時(shí)各自自轉(zhuǎn)。也就是說,在兩個(gè)待拋光物相對(duì)平移的同時(shí),兩個(gè)待拋光物還各自轉(zhuǎn)動(dòng),由此,有利于提高拋光效率,保證拋光效果。
可選地,拋光液的磨料可以包括金剛石、碳化硅、碳化硼、氧化鋁以及氧化硅中的至少一種,并且拋光液中磨料的比例可以為5%~20%。由此,可以更好地拋光高硬度材料,還有利于提高拋光效率。
其中,拋光液中磨料的比例可以為5%、8%、10%、15%或20%等。
本發(fā)明闡述的拋光方法是一種用于高硬度材料的拋光方法,該工藝方法包括下述步驟:將兩片晶圓對(duì)向放置拋光,上晶圓相對(duì)下晶圓做往復(fù)運(yùn)動(dòng),兩片晶圓同時(shí)以一定速度轉(zhuǎn)動(dòng),在往復(fù)運(yùn)動(dòng)間隙滴入拋光液。通常情況兩片晶圓直徑相同。上拋光頭夾持一片晶圓,以50~160rpm的速度轉(zhuǎn)動(dòng),下拋光頭夾持一片晶圓,以50~160rpm的速度轉(zhuǎn)動(dòng),同時(shí)上拋光頭以10~20次/min往復(fù)移動(dòng),上拋光擺動(dòng)(移動(dòng))幅度為2*晶圓直徑(晶圓直徑的兩倍)。拋光所用拋光液的磨料包括金剛石、碳化硅、碳化硼、氧化鋁、氧化硅,拋光液中磨料的比例為5~20%。
本發(fā)明提供的拋光方法可同時(shí)拋光兩片晶圓的兩個(gè)平面,提高生產(chǎn)效率,減少耗材使用。此拋光方法也可應(yīng)用于其他硬度較高的材料如碳化硅。
下面描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光方法的幾個(gè)具體實(shí)施例。
實(shí)施例1:
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,上拋光頭夾持一片2inc晶圓(晶圓直徑為2英寸),以50rpm的速度轉(zhuǎn)動(dòng),下拋光頭夾持一片2inc晶圓,以120rpm的速度轉(zhuǎn)動(dòng),同時(shí)上拋光頭以15次/min、上拋光頭擺動(dòng)幅度為100mm相對(duì)下拋光頭往復(fù)移動(dòng)。拋光所用拋光液的磨料為金剛石,拋光液中磨料的比例為5%。
實(shí)施例2:
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,上拋光頭夾持一片2inc晶圓,以100rpm的速度轉(zhuǎn)動(dòng),下拋光頭夾持一片2inc晶圓,以50rpm的速度轉(zhuǎn)動(dòng),同時(shí)上拋光頭以12次/min、上拋光擺動(dòng)幅度為100mm相對(duì)下拋光頭往復(fù)移動(dòng)。拋光所用拋光液的磨料為金剛石,拋光液中磨料的比例為8%。
實(shí)施例3:
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,上拋光頭夾持一片4inc晶圓,以50rpm的速度轉(zhuǎn)動(dòng),下拋光頭夾持一片4inc晶圓,以120rpm的速度轉(zhuǎn)動(dòng),同時(shí)上拋光頭以15次/min、上拋光擺動(dòng)幅度為200mm相對(duì)下拋光頭往復(fù)移動(dòng)。拋光所用拋光液的磨料為碳化硅,拋光液中磨料的比例為15%。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光方法的其他構(gòu)成以及操作對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言都是已知的,這里不再詳細(xì)描述。
在本說明書的描述中,參考術(shù)語(yǔ)“一個(gè)實(shí)施例”、“一些實(shí)施例”、“示例”、“具體示例”或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實(shí)施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)包含于本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施例或示例中。在本說明書中,對(duì)上述術(shù)語(yǔ)的示意性表述不必須針對(duì)的是相同的實(shí)施例或示例。而且,描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)可以在任一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例或示例中以合適的方式結(jié)合。此外,在不相互矛盾的情況下,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以將本說明書中描述的不同實(shí)施例或示例以及不同實(shí)施例或示例的特征進(jìn)行結(jié)合和組合。
盡管上面已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實(shí)施例,可以理解的是,上述實(shí)施例是示例性的,不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在本發(fā)明的范圍內(nèi)可以對(duì)上述實(shí)施例進(jìn)行變化、修改、替換和變型。