本發(fā)明涉及拋光設備的
技術領域：
，特別涉及一種圓盤式拋光機。
背景技術：
：圓盤式拋光機作為常用的拋光設備，廣泛應用在2.5d/3d曲面玻璃以及其他硬、脆材料的異形表面的拋光打磨中。傳統(tǒng)的圓盤式拋光機大都通過將工件放置在下圓盤上，通過上拋光盤的下壓，然后轉(zhuǎn)動上拋光盤或(下圓盤)對工件進行拋光。這種拋光機因下圓盤中心處的線速度與下圓盤外側(cè)的線速度不一致，對工件拋光的一致性差，良品率低。為了克服上述問題，人們對傳統(tǒng)的圓盤式拋光機進行了改進，通過在下圓盤上設置呈圓周排列的工件盤，通過在下圓盤中加入可以使得工件盤自轉(zhuǎn)的機構(gòu)，從而改變拋光機對靠近下圓盤中間的工件與下圓盤外側(cè)的工件拋光不一致的問題，并取得了良好的效果。然而，無論是傳統(tǒng)的還是改進后的圓盤式拋光機，其加工連續(xù)性均較差。因為每次對工件表面加工完畢后，都需要停機一段時間進行更換新的工件或?qū)⒐ぜM行翻轉(zhuǎn)，這就影響了拋光機對工件表面的加工效率，難以實現(xiàn)對工件進行高效率、高良品率的拋光。技術實現(xiàn)要素：針對現(xiàn)有技術存在的問題，本發(fā)明的主要是提供一種圓盤式拋光機，其加工連續(xù)性好，可實現(xiàn)對工件高效率、高良品率的拋光。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提出的圓盤式拋光機，其包括：支架，上拋光盤，下圓盤，第一驅(qū)動組件，第二驅(qū)動組件。該支架包括兩相對設置的支撐板以及設于兩支撐板上的平板。第一驅(qū)動組件設于平板上，上拋光盤位于平板的下側(cè)，第一驅(qū)動組件用于驅(qū)動上拋光盤上下運動，上拋光盤用于對工件進行拋光。下圓盤用于承載工件，第二驅(qū)動組件用于驅(qū)動下圓盤轉(zhuǎn)動。下圓盤上設有若干工件盤，且若干工件盤呈圓周分布在下圓盤的外側(cè)。每一工件盤的上均設有第一轉(zhuǎn)軸，該第一轉(zhuǎn)軸的第一端設于與其對應的工件盤的中心，該第一轉(zhuǎn)軸的第二端均穿過下圓盤，且其第二端設有第一傳動輪。若干第一傳動輪圍成的外圓周上設有第一環(huán)形傳動件，余下一第一傳動輪的外側(cè)設有避讓輪，該避讓輪下方設有用于驅(qū)動避讓輪轉(zhuǎn)動的第三電機。第一環(huán)形傳動件靠近避讓輪的部分與避讓輪配合傳動，以使得當任意一第一傳動輪轉(zhuǎn)動到避讓輪相鄰的位置時，脫離第一環(huán)形傳動件。上拋光盤設有缺口，缺口位于避讓輪內(nèi)側(cè)對應的工件盤的正上方，以便于工人在缺口位置取放工件。優(yōu)選地，第一傳動輪與避讓輪均為鏈輪，第一環(huán)形傳動件為鏈條。優(yōu)選地，第一傳動輪與避讓輪均為皮帶輪或同步帶輪，第一環(huán)形傳動件為皮帶或同步帶。優(yōu)選地，工件盤包括治具盤與真空盤。治具盤上設有若干用于放置工件的軟質(zhì)的吸附墊，真空盤設于治具盤的底面。每一吸附墊上設有真空槽，真空槽與真空盤連通。每一第一轉(zhuǎn)軸內(nèi)設有與其對應的真空盤連通的通道。每一第一轉(zhuǎn)軸的通道均通過軟管與真空發(fā)生裝置連接。優(yōu)選地，上拋光盤與下圓盤相對的一面設有拋光毛輪，上拋光盤與平板相對的一面設有與拋光毛輪一一對應的第一電機；若干拋光毛輪圓周分布在上拋光盤的外側(cè)；每一第一電機固定在上拋光盤上，且每一第一電機的輸出軸固定在與其對應的拋光毛輪的中心，用于驅(qū)動與其對應的拋光毛輪轉(zhuǎn)動。優(yōu)選地，第一驅(qū)動組件包括升降氣缸，其通過安裝板固定在支架的平板上，其推頭與上拋光盤連接固定。優(yōu)選地，第一驅(qū)動組件還包括四垂直于上拋光盤的導向軸，且四導向軸呈矩形分布；每一導向軸的第一端均通過回型框架與升降氣缸的推頭連接，每一導向軸的的軸承固定在平板上，每一導向軸的第二端穿過平板與上拋光盤連接固定。優(yōu)選地，第二驅(qū)動組件包括：第二轉(zhuǎn)軸，以及用于驅(qū)動第二轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動的第二電機；第二電機通過第二環(huán)形傳動件與第二轉(zhuǎn)軸的第一端配合傳動；第二轉(zhuǎn)軸的第二端依次穿過下圓盤、上拋光盤以及平板三者的中心，且下圓盤與第二轉(zhuǎn)軸連接固定。優(yōu)選地，上拋光盤的外側(cè)與下圓盤的外側(cè)均環(huán)設有用于防止拋光液飛濺的遮擋罩。優(yōu)選地，上拋光盤上設有與兩支撐板一一對應的限位條，限位條的第一端固定在上拋光盤上，其第二端向與其相對的支撐板延伸，并穿過該支撐板；支撐板上設有供限位條穿過的腰形孔，限位條的第二端可在腰形孔內(nèi)移動；腰形孔的底部設有限位塊，且該限位塊上設有調(diào)節(jié)螺絲。本發(fā)明技術方案通過在工件盤上設置第一轉(zhuǎn)軸，在第一轉(zhuǎn)軸上設置第一傳動輪，在若干第一傳動輪圍成的圓上套設第一環(huán)形傳動件，在余下一第一傳動輪的外側(cè)設置避讓輪。將第一環(huán)形傳動件靠近避讓輪的部分套在避讓輪的上，并設置用于驅(qū)動避讓輪轉(zhuǎn)動的第三電機。通過第二驅(qū)動組件驅(qū)動下圓盤轉(zhuǎn)動，使得工件盤繞下圓盤的軸心作公轉(zhuǎn)，通過第三電機驅(qū)動避讓輪帶動第一環(huán)形傳動件正反轉(zhuǎn)，從而驅(qū)動工件盤正反轉(zhuǎn)，使得上拋光盤可以對工件進行充分的拋光，提高了對工件拋光的效果，保證了對工件拋光的一致性。同時，通過設置避讓輪，使得任意一第一傳動輪隨下圓盤轉(zhuǎn)動到避讓輪相鄰的位置時脫離第一環(huán)形傳動件，從而使得第一傳動輪對應的工件盤停止自轉(zhuǎn)。由此，使得工人可以在下圓盤持續(xù)轉(zhuǎn)動情況下，即在上拋光盤對其他工件盤上的工件進行拋光的過程中，更換避讓輪內(nèi)側(cè)的第一傳動輪對應的工件盤上的工件，實現(xiàn)連續(xù)不停機更換工件，保證了加工的連續(xù)性，提高了對工件拋光打磨的效率。附圖說明為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。圖1為本發(fā)明圓第一實施例的正面的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明圓第一實施例的反面的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為圖1中a處的局部放大圖；圖4為圖1中b處的局部放大圖；圖5為工件盤的爆炸示意圖；圖6為本發(fā)明圓第二實施例的正面的結(jié)構(gòu)示意圖；附圖標號說明：標號名稱標號名稱標號名稱100支架402導向軸602第一傳動輪101支撐板500第二驅(qū)動組件700避讓輪102平板501第二轉(zhuǎn)軸701第一環(huán)形傳動件200上拋光盤502第二電機702第三電機210缺口503第二環(huán)形傳動件800限位條201拋光毛輪600工件盤801限位塊202第一電機610治具盤802調(diào)節(jié)螺絲300下圓盤611吸附墊900遮擋罩400第一驅(qū)動組件620真空盤401升降氣缸601第一轉(zhuǎn)軸本發(fā)明目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結(jié)合實施例，參照附圖做進一步說明。具體實施方式本發(fā)明提出一種圓盤式拋光機。參照圖1至4，圖1為本發(fā)明圓第一實施例的正面的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為本發(fā)明圓第一實施例的反面的結(jié)構(gòu)示意圖，圖3為圖1中a處的局部放大圖，圖4為圖1中b處的局部放大圖。在本發(fā)明實施例中，該圓盤式拋光機包括：支架100、上拋光盤200、下圓盤300、第一驅(qū)動組件400、以及第二驅(qū)動組件500。其中，該支架100包括兩相對設置的支撐板101以及設于兩支撐板101上的平板102。第一驅(qū)動組件400設于平板102上，上拋光盤200位于平板102的下側(cè)，第一驅(qū)動組件400用于驅(qū)動上拋光盤200上下運動，上拋光盤200用于對工件進行拋光。下圓盤300用于承載工件，第二驅(qū)動組件500用于驅(qū)動下圓盤300轉(zhuǎn)動。下圓盤300上設有若干工件盤600，且若干工件盤600呈圓周分布在下圓盤300的外側(cè)。每一工件盤600的上均設有第一轉(zhuǎn)軸601，該第一轉(zhuǎn)軸601的第一端設于與其對應的工件盤600的中心。該第一轉(zhuǎn)軸601的第二端均穿過下圓盤300，且其第二端設有第一傳動輪602。若干第一傳動輪602圍成的外圓周上設有第一環(huán)形傳動件701，余下一第一傳動輪602的外側(cè)設有避讓輪700。該避讓輪700下方設有用于驅(qū)動避讓輪轉(zhuǎn)動700的第三電機702。如圖3所示，第一環(huán)形傳動件701靠近避讓輪700的部分與避讓輪700配合。當任意一第一傳動輪602隨下圓盤300轉(zhuǎn)動到避讓輪700相鄰的位置時，會脫離第一環(huán)形傳動件701。在上拋光盤200還設有缺口210，該缺口210位于避讓輪700內(nèi)側(cè)對應的工件盤600的正上方。對工件進行拋光時，第一驅(qū)動組件400驅(qū)動上拋光盤200下降擠壓工件表面，第二驅(qū)動組件500驅(qū)動下圓盤300轉(zhuǎn)動，使得工件盤600繞下圓盤300的軸心作公轉(zhuǎn)，從而對工件表面進行拋光。在下圓盤300轉(zhuǎn)動的同時，通過第三電機702驅(qū)動避讓輪700帶動第一環(huán)形傳動件701轉(zhuǎn)動，從而帶動工件盤600進行自轉(zhuǎn)，保證上拋光盤200對工件盤600上不同位置的工件的拋光的一致性，避免由于線速度不一致導致的拋光的精度不一致。同時，通過第三電機702還可控制工件盤600轉(zhuǎn)動的速率，從而控制上拋光盤200對工件的拋光次數(shù)，達到更好的拋光效果。此外，第三電機702也可驅(qū)動避讓輪700正反轉(zhuǎn)，使得工件盤600也進行正反轉(zhuǎn)。由此，可實現(xiàn)對工件表面同一部位進行順時針、逆時針兩個不同方向上的拋光，提高對工件的拋光的精細度。每當?shù)谌姍C702調(diào)轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)動方向時，第一驅(qū)動組件400會帶動上拋光盤200上升一定的距離，從而減少工件盤600反向轉(zhuǎn)動的阻力，并保護工件不被過度擠壓。在上拋光盤200對工件拋光的過程中，當任意一第一傳動輪602隨下圓盤300轉(zhuǎn)動到避讓輪700相鄰的位置時，會脫離第一環(huán)形傳動件701，從而使得該第一傳動輪602對應的工件盤600停止自轉(zhuǎn)。加之上拋光盤200對應停止轉(zhuǎn)動的工件盤600的位置設置有缺口210，使得工人可在停止自轉(zhuǎn)的工件盤600上更換工件。在工人更換工件的過程中，上拋光盤200可保持運行，從而實現(xiàn)對工件連續(xù)不停機的拋光加工，保證了加工的連續(xù)性，完成對工件高效、不間斷的拋光打磨。本發(fā)明的技術方案通過在工件盤600上設置第一轉(zhuǎn)軸601，在第一轉(zhuǎn)軸601上設置第一傳動輪602，并在若干第一傳動輪602圍成的圓上套設第一環(huán)形傳動件701。在余下一第一傳動輪602的外側(cè)設置避讓輪700，將第一環(huán)形傳動件701靠近避讓輪700的部分套在避讓輪700上，使得第一傳動輪602隨下圓盤300轉(zhuǎn)動到與避讓輪700的相鄰的位置時脫離第一傳動輪602。由此，使得第一傳動輪602對應的工件盤600停止自轉(zhuǎn)，方便工人在停止自轉(zhuǎn)的工件盤600上更換工件，其他工件盤600保持自轉(zhuǎn)。并在上拋光盤200與避讓輪700內(nèi)側(cè)對應的工件盤600的位置設置缺口210，使得上拋光盤200可以在更換工件的期間保持對工件的拋光加工。相比現(xiàn)有技術，本發(fā)明的有益之處在于：既可實現(xiàn)工件的連續(xù)不停機的拋光加工，提高對工件的拋光效率；又可使得工件盤600可以同時進行公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)，避免工件位置的不同導致的拋光效果的不同，保證了拋光的一致性，提高了對工件拋光良品率。并且，通過第三電機702驅(qū)動工件盤600正反轉(zhuǎn)，還實現(xiàn)對工件在順、逆時針兩個不同方向上的拋光，提高對工件拋光的精細度。在本實施例中，第一傳動輪602與避讓輪700均采用鏈輪，第一環(huán)形傳動件701采用鏈條。通過鏈條與鏈輪配合傳動的方式，其傳動比大，效率高，準確性好。在本實施例的另一實施方式中，第一傳動輪602與避讓輪700可采用皮帶輪或同步帶輪，第一環(huán)形傳動件701可采用皮帶或同步帶。通過皮帶傳動或同步帶進行傳動，其傳動慣性小，且傳動平穩(wěn)噪音小，易維護。如圖5所示，在本實施例中，工件盤600包括治具盤610與真空盤620。治具盤610上設有若干用于放置工件的軟質(zhì)的吸附墊611，真空盤620設于治具盤610的底面。每一吸附墊611上設有真空槽，真空槽與真空盤620連通。每一第一轉(zhuǎn)軸601內(nèi)設有與其對應的真空盤620連通的通道，且每一第一轉(zhuǎn)軸601的通道均通過軟管與真空發(fā)生裝置連接。當工件放置在吸附墊611上時，通過真空發(fā)生裝置吸走真空槽內(nèi)的空氣，從而使得工件可以牢牢固定在吸附墊611上，可有效避免工件在拋光的過程中的發(fā)生移動，從而保證對工件良好的加工。軟質(zhì)的吸附墊611可以保護工件，避免刮傷。如圖2所示，在本實施例中，上拋光盤200與下圓盤300相對的一面設有拋光毛輪201，上拋光盤200與平板102相對的一面設有與拋光毛輪201一一對應的第一電機202。若干拋光毛輪201圓周分布在上拋光盤200的外側(cè)。每一第一電機202固定在上拋光盤200上，且每一第一電機202的輸出軸固定在與其對應的拋光毛輪201的中心，用于驅(qū)動與其對應的拋光毛輪201轉(zhuǎn)動。在工件盤600自轉(zhuǎn)時，通過第一電機202驅(qū)動拋光毛輪201正反轉(zhuǎn)，從而實現(xiàn)對工件表面均勻拋光。在本實施例中，工件盤600與拋光毛輪201同時切換轉(zhuǎn)動方向，以避免拋光毛輪201的毛刷向一側(cè)傾斜而影響拋光效果，同時，還可使得拋光毛輪201的毛刷的損耗更加均勻，提高了拋光毛刷201的利用率。如圖1所示，在本實施例中，第一驅(qū)動組件400包括升降氣缸401，該升降氣缸401通過安裝板固定在支架100的平板102上，其推頭與上拋光盤200連接固定。相比現(xiàn)有通過絲杠、直線模組驅(qū)動上拋光盤200移動的方式，通過升降氣缸401拉動上拋光盤200上下移動的成本更低。在本實施例中，為了防止上拋光盤200在移動時向兩側(cè)偏離，該第一驅(qū)動組件400還包括四垂直于上拋光盤200的導向軸402，且四導向軸402呈矩形分布。每一導向軸402的第一端均通過回型框架與升降氣缸401的推頭連接。每一導向軸402的軸承固定在平板102上。每一導向軸402的第二端穿過平板102與上拋光盤200連接固定。由此，通過四導向軸402對上拋光盤200的移動進行導向，避免了其兩側(cè)偏移，提高了拋光機的可靠性。如圖3所示，在本實施例中，該第二驅(qū)動組件500包括：第二轉(zhuǎn)軸501，以及用于驅(qū)動第二轉(zhuǎn)軸501轉(zhuǎn)動的第二電機502。其中，第二電機502通過第二環(huán)形傳動件503與第二轉(zhuǎn)軸501的第一端配合傳動。具體地，第二環(huán)形傳動件503可采用鏈條、或皮帶、或同步帶。第二轉(zhuǎn)軸501的第二端依次穿過下圓盤300、上拋光盤200以及平板102三者的中心，且下圓盤300與第二轉(zhuǎn)軸501連接固定。通過將第二轉(zhuǎn)軸501穿過下圓盤300、上拋光盤200以及平板102三者的中心，以使得上拋光盤200始終位于下圓盤300的正上方，避免下圓盤300在運行時的晃動導致上拋光盤200上的拋光毛輪201對工件拋光的不均勻。在本實施例中，第二轉(zhuǎn)軸501上還套設一內(nèi)設有若干真空通道的連接塊(圖中未示出)，該連接塊與第二轉(zhuǎn)軸501轉(zhuǎn)動配合，每一第一轉(zhuǎn)軸601均通過軟管與該連接塊的真空通道連接，該連接塊的真空通道均與真空發(fā)生裝置連接。通過設置連接塊，可以簡化第一轉(zhuǎn)軸501與真空發(fā)生裝置的連接。如圖1與圖4所示，為了避免上拋光盤200造下降的時候?qū)ぜ斐蛇^度擠壓，優(yōu)選地，在本實施例中，上拋光盤200上設有與兩支撐板101一一對應的限位條800，該限位條800的第一端固定在上拋光盤200上，其第二端向與其相對的支撐板101延伸，并穿過該支撐板101。支撐板101上設有供限位條800穿過的腰形孔，限位條800的第二端可在腰形孔內(nèi)移動，腰形孔的底部設有限位塊801。當上拋光盤200在下降的過程中，限位條800會抵接在限位塊801上，從而避免了上拋光盤200上的拋光毛輪201對工件表面造成過度的擠壓。進一步地，限位塊801上設有調(diào)節(jié)螺絲802。通過調(diào)整調(diào)節(jié)螺絲802的高度，從而改變上拋光盤200與工件盤600之間的距離，以適用不同厚度工件的拋光。參照圖6，圖6為本發(fā)明圓第二實施例的正面的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖6所示，在第二實施例中，上拋光盤200與下圓盤300的外側(cè)均環(huán)設有遮擋罩900。相應地，在上拋光盤200的遮擋罩900上設有與缺口210對應的斷裂口，方便工人取放工件。通過設置遮擋罩900，以防止拋光液飛濺到工作人員身上。以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是在本發(fā)明的發(fā)明構(gòu)思下，利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接/間接運用在其他相關的
技術領域：
均包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。當前第1頁12