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一種磁流變浮動(dòng)拋光裝置與方法與流程

文檔序號(hào):11207356閱讀:1041來源:國知局
一種磁流變浮動(dòng)拋光裝置與方法與流程

本發(fā)明涉及一種新型智能材料的應(yīng)用,屬于光整加工領(lǐng)域,特別是一種利用磁流變液對工件進(jìn)行平面均勻拋光的裝置與方法。



背景技術(shù):

磁流變是一種智能材料,它在常態(tài)下是液體,當(dāng)加磁場時(shí),它會(huì)發(fā)生液-固相變,去除磁場后,會(huì)發(fā)生固-液相變,這種相變能在極短的時(shí)間內(nèi)(一般為毫秒級(jí))平穩(wěn)、快速完成轉(zhuǎn)換。在一定的磁場強(qiáng)度內(nèi),磁流變液的表觀粘度與磁場強(qiáng)度有關(guān)。這種現(xiàn)象稱為磁流變效應(yīng)。磁流變材料具有良好的力學(xué)性能,并且可以通過調(diào)整磁場強(qiáng)度來改變其性能,利用磁流變效應(yīng),將磨粒與磁流變混合,通過控制實(shí)時(shí)磁場強(qiáng)度,在拋光區(qū)域形成與拋光工件表面相吻合的拋光磨頭,而且其硬度可調(diào),實(shí)現(xiàn)對工件表面的拋光,其具有極高的拋光精度與近無殘余應(yīng)力等顯著特點(diǎn)。

現(xiàn)有的磁流變拋光裝置對工件進(jìn)行拋光時(shí),需要精確設(shè)計(jì)拋光軌跡,才能實(shí)現(xiàn)對拋光工件材料的均勻去除。

申請者獲得授權(quán)的發(fā)明專利z1201410440862.6《一種磁流變拋光方法及拋光工具》,使用三層同心圓環(huán)形電磁鐵改變拋光區(qū)域的磁場分布,從而達(dá)到工件材料的均勻去除。

該拋光工具由于電磁鐵也進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),達(dá)到需要的磁場強(qiáng)度,該拋光工具體積較大,其多層電磁鐵也不能保證磁場強(qiáng)度與線速度能夠保證定值,其磨頭是針對局部加工,其拋光效果不夠理想,且加工效率不高。

申請者獲得授權(quán)的發(fā)明專利201110116955.x《一種去除率模型可控的磁流變均勻拋光方法與裝置》,使用三只尖錐狀給的電磁鐵改變拋光區(qū)域的磁場分布,從而達(dá)到工件材料的均勻去除。這種拋光方法需要根據(jù)面型變化,計(jì)算合適的磁場分布,然后調(diào)用與之近似的磁場分布,但是實(shí)踐中磁場計(jì)算復(fù)雜,只能從數(shù)據(jù)庫調(diào)用相似的磁場,拋光效果不夠理想。

廣東工業(yè)大學(xué)的發(fā)明專利(專利zl200620155638.3)公開了一種磁流變效應(yīng)平面研磨拋光裝置,該方法將工件置于旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)上,磁性研磨工具類似于磨床的研磨頭,安裝在工件上方,可繞主軸旋轉(zhuǎn),可沿x和y方向移動(dòng),磁性研磨工具可配置點(diǎn)陣式的磁場或環(huán)形分布式的磁場,磁流變液用噴嘴加注到磁性研磨工具和工件之間,發(fā)生流變反應(yīng)之后形成陣列磁流變效應(yīng)研磨刷或連續(xù)磁流變效應(yīng)研磨帶,達(dá)到高效率研磨加工平面的效果,該方法實(shí)現(xiàn)了一種面接觸式的拋光,拋光效率高,但所產(chǎn)生的磁場不均勻,要實(shí)現(xiàn)大尺寸平面元件的大面積均勻拋光,要求工件的運(yùn)動(dòng)方式比較復(fù)雜,使得設(shè)備的結(jié)構(gòu)復(fù)雜化,且加工完成后,不易消磁,磁流變液將粘附在磁性研磨工具上。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明的目的在于提供一種浮動(dòng)磁流變拋光裝置與方法,實(shí)現(xiàn)對工件工表面材料的均勻去除,加工精度高的磁流變液自適應(yīng)平面加工系統(tǒng)。

本發(fā)明的目的可以通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):由磁場發(fā)生裝置、拋光頭、磁流變液循環(huán)系統(tǒng)等組成。所述裝置的下半部分是有3組相同的部分組成,所以在此只介紹其中一組,其他兩組完全一樣。所述磁場發(fā)生裝置包括電磁鐵、位于電磁鐵下方的彈簧、套在電磁鐵外圍的導(dǎo)軌、在導(dǎo)軌下方的導(dǎo)軌底座、在電磁鐵下方的位移傳感器組成。所述的拋光頭是由主軸,主軸下方的不導(dǎo)的磁夾具,以及夾具下方所夾持的工件組成。所述磁流變液循環(huán)系統(tǒng)主要是用于磁流變液的噴射與收集,在專利不作詳述,只用位于電磁鐵側(cè)面的3個(gè)噴頭表示磁流變液的噴射,用于磁流變拋光。

其中,電磁鐵上方設(shè)有拋光墊,以增加磁流變液和電磁鐵之間的粘附力,在圖中沒有畫出。

一種基于上述拋光裝置的拋光方法,包括如下步驟:

步驟一、調(diào)整拋光頭與磁極之間的距離,距離在3-5mm;

步驟二、將工件安裝在不導(dǎo)磁夾持器下表面,啟動(dòng)主軸,使主軸帶動(dòng)拋光槽轉(zhuǎn)動(dòng);

步驟三、啟動(dòng)控制系統(tǒng),采集位移傳感器信號(hào),并控制合理的電流輸出,來達(dá)到控制磁場強(qiáng)弱,從而控制在三個(gè)噴射頭附近形成所需要的去除率,本控制系統(tǒng)采用單片機(jī)進(jìn)行控制;

步驟四、啟動(dòng)磁流變液循環(huán)系統(tǒng),讓磁流變液在噴射頭連續(xù)不斷的噴射出,進(jìn)行拋光作業(yè)。

下面結(jié)合設(shè)計(jì)原理對本發(fā)明作進(jìn)一步說明:

本發(fā)明采用三個(gè)可以浮動(dòng)的磁場裝置,它們可以根據(jù)工件表面自適應(yīng),即當(dāng)電磁鐵組上方的工件表面較凸,則工件與電磁鐵組的間隙較小,形成的壓力也較大,由于電磁鐵組下方有彈簧,可浮動(dòng)的磁場發(fā)生裝置則會(huì)發(fā)生微小的下移,此時(shí),控制系統(tǒng)通過位移傳感器采集到信號(hào),控制系統(tǒng)則控制電流發(fā)生裝置輸出較大的電流,來產(chǎn)生較大的磁場產(chǎn)生更大的切削力;表面較凹時(shí),則相反。本發(fā)明采用了3組,使它們的工作區(qū)域沿著半徑越來越大的方向進(jìn)行布置。工件安裝在不導(dǎo)磁夾持器的下表面,隨著主軸一起旋轉(zhuǎn)。分布在3個(gè)電磁鐵的噴頭在循環(huán)系統(tǒng)的作用下,連續(xù)不斷的噴射出磁流變液。這樣就可以實(shí)現(xiàn)沿著半徑方向的材料的去除率達(dá)到穩(wěn)定。

與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果為:

本發(fā)明的裝置及方法可實(shí)現(xiàn)超光滑大尺寸平面元件沿半徑方向的大面積均勻拋光,有效提高拋光效率;可降低工件運(yùn)動(dòng)方式的復(fù)雜程度,從而簡化設(shè)備結(jié)構(gòu)。

附圖說明

圖1為本發(fā)明磁流變液浮動(dòng)拋光裝置的三維立體圖;

圖2為本發(fā)明磁流變液浮動(dòng)拋光裝置的爆炸視圖;

圖3三組電磁鐵組的分布圖以及它們的加工區(qū)域圖;

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)說明。具體實(shí)施例僅是對本發(fā)明的進(jìn)一步詳細(xì)說明及解釋,并不以此限定本發(fā)明專利要求保護(hù)范圍。

本發(fā)明的目的可以通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):由磁場發(fā)生裝置、拋光頭、磁流變液循環(huán)系統(tǒng)等組成。如圖2所示,所述裝置的下半部分是有3組相同的部分組成,所以在此只介紹其中一組,其他兩組完全一樣。磁場發(fā)生裝置包括電磁鐵(其由線圈7以及電磁鐵鐵心及框架8組成)、位于電磁鐵下方的彈簧10、套在電磁鐵外圍的導(dǎo)軌9、在導(dǎo)軌下方的導(dǎo)軌底座11、在電磁鐵下方的位移傳感器組成。所述的拋光頭是由主軸5,主軸下方的不導(dǎo)的磁夾具4,以及夾具下方所夾持的工件3組成。所述磁流變液循環(huán)系統(tǒng)主要是用于磁流變液的噴射與收集,在專利不作詳述,只用位于電磁鐵側(cè)面的噴頭6表示磁流變液的噴射,用于磁流變拋光。

其中,電磁鐵上方設(shè)有拋光墊,以增加磁流變液和電磁鐵之間的粘附力,在圖中沒有畫出。

其中,如圖2所示,此裝置的此裝置的下半部分是由3組相同的部分組成,雖然結(jié)構(gòu)相同,但是它們的擺放位置是不同的。如圖3所示,3組的工作區(qū)域是不同的,每一組都有自己的工作區(qū)域,它們的工作區(qū)域特點(diǎn)是沿著半徑方向逐漸增大的方向布置。電磁鐵組1工作在區(qū)域1,電磁鐵組2工作在區(qū)域2,電磁鐵3工作在區(qū)域3。

本磁流變浮動(dòng)拋光裝置的工作原理是:

本發(fā)明采用三個(gè)可以浮動(dòng)的磁場裝置,即電磁鐵組1,電磁鐵組2,電磁鐵組3。它們可以根據(jù)工件表面自適應(yīng),即當(dāng)電磁鐵組上方的工件表面較凸,則工件與電磁鐵組的間隙較小,形成的壓力也較大,由于電磁鐵組下方由有彈簧,可浮動(dòng)的磁場發(fā)生裝置則會(huì)發(fā)生微小的下移,此時(shí),控制系統(tǒng)通過位移傳感器采集到信號(hào),控制系統(tǒng)則控制電流發(fā)生裝置輸出較大的電流,來產(chǎn)生較大的磁場產(chǎn)生更大的切削力;表面較凹時(shí),則相反。本發(fā)明采用了3組,使它們的工作區(qū)域沿著半徑越來越大的方向進(jìn)行布置,如圖2所示。工件安裝在不導(dǎo)磁夾持器的下表面,隨著主軸一起旋轉(zhuǎn)。分布在3個(gè)電磁鐵的噴頭在循環(huán)系統(tǒng)的作用下,連續(xù)不斷的噴射出磁流變液。這樣就可以實(shí)現(xiàn)沿著半徑方向的材料的去除率達(dá)到穩(wěn)定。

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