1.一種提煉高純金屬的真空蒸餾裝置，包括真空壓蓋(1)、冷凝室(3)、真空蒸餾室(5)和底板(6)，其特征在于：所述底板(6)頂端的一端安裝有真空蒸餾爐(2)，所述真空蒸餾爐(2)的底端安裝有真空蒸餾室(5)，且真空蒸餾室(5)上安裝有冷凝室(3)，所述冷凝室(3)的一側(cè)均勻設(shè)有觀察窗(4)，所述真空蒸餾爐(2)的內(nèi)部豎向安裝有蒸餾管(15)，且蒸餾管(15)依次貫穿于冷凝室(3)和真空蒸餾室(5)，所述蒸餾管(15)的頂端安裝有真空壓蓋(1)，所述底板(6)頂端的另一端安裝有機(jī)械泵(12)，且機(jī)械泵(12)與真空蒸餾室(5)之間的底板(6)上安裝有控制箱(11)，所述控制箱(11)頂端的一端安裝有擴(kuò)散泵(8)，且控制箱(11)頂端的另一端安裝有穩(wěn)壓罐(9)，所述穩(wěn)壓罐(9)的頂端通過連接管與擴(kuò)散泵(8)靠近穩(wěn)壓罐(9)的一側(cè)連接，所述穩(wěn)壓罐(9)遠(yuǎn)離擴(kuò)散泵(8)一側(cè)通過第二導(dǎo)氣管(10)與機(jī)械泵(12)的頂端連接，所述真空壓蓋(1)的頂端通過第一導(dǎo)氣管(7)與擴(kuò)散泵(8)的頂端連接，所述真空蒸餾室(5)內(nèi)部的蒸餾管(15)的兩側(cè)均安裝有碳化硅管(18)，且真空蒸餾室(5)內(nèi)部的蒸餾管(15)的內(nèi)部安裝有石墨坩堝(17)，所述冷凝室(3)內(nèi)部的蒸餾管(15)內(nèi)均勻固定有冷凝管(14)，且冷凝管(14)之間均通過石墨塔板(13)連接，所述冷凝室(3)內(nèi)部的蒸餾管(15)的兩側(cè)均安裝有碳化硅管(18)，所述石墨坩堝(17)的頂端通過石墨塔板(13)與冷凝管(14)連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提煉高純金屬的真空蒸餾裝置，其特征在于：所述真空蒸餾室(5)與冷凝室(3)之間設(shè)有絕熱板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提煉高純金屬的真空蒸餾裝置，其特征在于：所述真空蒸餾室(5)和冷凝室(3)與蒸餾管(15)之間均填充有隔熱填充層(16)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提煉高純金屬的真空蒸餾裝置，其特征在于：所述碳化硅管(18)內(nèi)設(shè)有加熱電阻絲，且加熱電阻絲呈螺旋狀固定于碳化硅管(18)內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提煉高純金屬的真空蒸餾裝置，其特征在于：所述石墨坩堝(17)的縱截面呈梯形。