本公開涉及玻璃基板研磨領(lǐng)域，具體地，涉及一種玻璃基板研磨機構(gòu)。

背景技術(shù)：

在液晶玻璃基板研磨機加工過程中，研磨輪與玻璃基板相對運動而對玻璃基板的邊緣部進行研磨，在研磨過程中，大量的粉末飛塵殘留在研磨槽內(nèi)，造成研磨輪的磨削力下降，并且由于研磨碎屑堵塞，又導致冷卻水不能進入輪槽與玻璃基板的研磨位置，使研磨過程中產(chǎn)生的熱量不能及時散去，既限制了研磨輪的使用壽命，又容易造成玻璃基板邊燒現(xiàn)象。為避免該問題，在實際生產(chǎn)中，每加工2-3小時就需要停機，并使用修復石對研磨槽進行修復，每次作業(yè)耗時較長，嚴重制約生產(chǎn)效率。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本公開的目的是提供一種玻璃基板研磨機構(gòu)，該玻璃基板研磨機構(gòu)研磨效率高，能夠有效降低研磨不良率，提升玻璃基板研磨成品品質(zhì)。

為了實現(xiàn)上述目的，本公開提供一種玻璃基板研磨機構(gòu)，具有研磨輪和設置在所述研磨輪上方的防護罩，玻璃基板的邊部進入沿所述研磨輪周向延伸的研磨槽內(nèi)，所述防護罩上安裝有研磨冷卻裝置，用于冷卻所述研磨輪與所述玻璃基板接觸的研磨位置，所述玻璃基板研磨機構(gòu)還包括與所述研磨冷卻裝置間隔設置的研磨槽沖洗裝置，所述研磨槽沖洗裝置在所述研磨槽上的作用位置與所述研磨位置沿周向間隔設置。

可選地，所述研磨槽沖洗裝置包括噴水管，該噴水管的出水口朝向所述研磨槽且沿所述研磨輪的徑向方向出水。

可選地，所述出水口為圓形，其直徑為2-3mm。

可選地，所述出水口到所述研磨槽的最近距離為20-30mm。

可選地，所述噴水管包括水管本體，所述水管本體的一端與水源連通，另一端封閉，所述水管本體的管壁上還連接有支水管，所述支水管的端口形成為所述出水口。

可選地，所述研磨槽沖洗裝置通過固定裝置安裝在所述防護罩上，所述固定裝置包括連接于所述防護罩的底板和分別設置在所述底板兩端的兩個側(cè)板以形成倒U型夾槽，所述兩個側(cè)板上分別開設有同軸的安裝孔，所述水管本體的兩端分別穿過所述安裝孔并使得所述支水管位于所述兩個側(cè)板之間，并且所述出水口突出于該兩個側(cè)板。

可選地，所述水管本體可鎖定地轉(zhuǎn)動設置在所述安裝孔內(nèi)。

可選地，所述水管本體與所述安裝孔間隙配合，所述兩個側(cè)板上分別開設有與所述安裝孔連通的緊固孔，緊固件穿過所述緊固孔鎖定所述水管本體。

通過上述技術(shù)方案，在研磨過程中，利用研磨槽沖洗裝置清潔使用中的研磨槽，以去除大量附著在研磨槽內(nèi)的研磨碎屑，避免研磨槽堵塞，既能夠保持研磨輪的磨削力，延長研磨輪的使用壽命，又能保證研磨槽內(nèi)有足夠的容水空間，提升研磨冷卻裝置的冷卻效果，進一步地，由于研磨槽沖洗裝置在研磨槽上的作用位置與研磨位置沿周向間隔設置，由此能夠形成對研磨槽的二次冷卻，進一步強化清洗和冷卻效果，有效避免玻璃基板邊燒；除此之外，由于研磨槽沖洗裝置能夠持續(xù)工作，因此在生產(chǎn)過程中無需停機修復，從而大幅提高研磨作業(yè)效率。

本公開的其他特征和優(yōu)點將在隨后的具體實施方式部分予以詳細說明。

附圖說明

附圖是用來提供對本公開的進一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面的具體實施方式一起用于解釋本公開，但并不構(gòu)成對本公開的限制。在附圖中：

圖1是本公開具體實施方式提供的一種玻璃基板研磨機構(gòu)的俯視示意圖；

圖2是本公開具體實施方式提供的一種玻璃基板研磨機構(gòu)的主視示意圖；

圖3是本公開具體實施方式提供的一種玻璃基板研磨機構(gòu)的噴水管的示意圖；

圖4是本公開具體實施方式提供的一種玻璃基板研磨機構(gòu)的固定裝置與噴水管的配合示意圖。

具體實施方式

以下結(jié)合附圖對本公開的具體實施方式進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的具體實施方式僅用于說明和解釋本公開，并不用于限制本公開。

在本公開中，在未作相反說明的情況下，使用的方位詞如“上、下、”通常是指本公開提供的玻璃基板研磨機構(gòu)在實際使用時，各部件相對位置的上和下。

如圖1至圖4所示，本公開具體實施方式提供了一種玻璃基板研磨機構(gòu)10，具有研磨輪2和設置在研磨輪2上方的防護罩3，玻璃基板1的邊部進入沿研磨輪2周向延伸的研磨槽21內(nèi)，防護罩3上安裝有研磨冷卻裝置4，用于冷卻研磨輪2與玻璃基板1接觸的研磨位置，玻璃基板研磨機構(gòu)10還包括與研磨冷卻裝置4間隔設置的研磨槽沖洗裝置5，研磨槽沖洗裝置5在研磨槽21上的作用位置與研磨位置沿周向間隔設置。

在研磨過程中，利用研磨槽沖洗裝置清潔使用中的研磨槽，以去除大量附著在研磨槽內(nèi)的研磨碎屑，避免研磨槽堵塞，既能夠保持研磨輪的磨削力，延長研磨輪的使用壽命，又能保持研磨槽內(nèi)有足夠的容水空間，提升研磨冷卻裝置的冷卻效果，進一步地，由于研磨槽沖洗裝置在研磨槽上的作用位置與研磨位置沿周向間隔設置，由此能夠形成對研磨槽的二次冷卻，進一步強化清洗和冷卻效果，有效避免玻璃基板邊燒；除此之外，由于研磨槽沖洗裝置能夠持續(xù)工作，因此在生產(chǎn)過程中無需停機修復，從而能夠大幅提高研磨作業(yè)的效率。

具體地，研磨槽沖洗裝置5包括噴水管50，研磨過程中，該噴水管50的出水口51朝向研磨槽21噴水，以沖擊殘留在研磨槽內(nèi)的研磨碎屑，為了獲得最佳的沖洗效果，進一步地，噴水管50沿研磨輪2的徑向方向出水，以有效沖擊附著在研磨槽內(nèi)的研磨碎屑，獲得最佳的清潔效果。

詳細地，出水口51的形狀和尺寸可以根據(jù)實際需要任意設置，例如出水口51可以形成為圓形，其直徑為2-3mm。

具體地，出水口51到研磨槽的距離可以根據(jù)流量和出水壓力等參數(shù)設置，例如，在出水壓力在0.4Mpa時，可以設置出水口51到研磨槽21的最近距離為20-30mm。

進一步地，噴水管50可以具有任意適當?shù)男螤詈徒Y(jié)構(gòu)，例如在圖3所示的實施方式中，噴水管50包括水管本體52，水管本體52的一端與水源連通，另一端封閉，水管本體52的管壁上還連接有支水管53，支水管53的端口形成為出水口51。

在研磨過程中，研磨輪通常沿玻璃基板的邊線往復移動，為了保持穩(wěn)定的沖洗作用，研磨槽沖洗裝置5可以通過固定裝置6安裝在防護罩3上，以能夠隨研磨輪同步運動。在實際使用中，研磨槽沖洗裝置5還可以安裝在其他與研磨輪同步移動的結(jié)構(gòu)上，如研磨架上。

固定裝置6可以具有任意適當?shù)慕Y(jié)構(gòu)，例如圖4所示，作為一種可能的實施方式，固定裝置6可以包括連接于防護罩3的底板61和分別設置在底板61兩端的兩個側(cè)板62以形成倒U型夾槽以適應噴水管50的形狀。進一步地，兩個側(cè)板62上分別開設有同軸的安裝孔63，水管本體52的兩端分別穿過安裝孔63并使得支水管53位于兩個側(cè)板62之間，并且出水口51突出于該兩個側(cè)板62。

進一步地，水管本體52可鎖定地轉(zhuǎn)動設置在安裝孔63內(nèi)，因此，在使用過程中，可以根據(jù)需要調(diào)節(jié)噴水管50相對于研磨槽21的出水角度，以獲得理想的沖洗效果。

具體地，水管本體52與安裝孔63間隙配合以能夠在安裝孔63內(nèi)自由轉(zhuǎn)動，兩個側(cè)板62上分別開設有與安裝孔63連通的緊固孔64，緊固件穿過緊固孔64鎖定水管本體52，詳細地，緊固孔64可以為螺紋孔，相應的緊固件為與該緊固孔64配合的螺栓或螺釘，由此能夠通過拆卸緊固件完成對噴水管50出水方向的調(diào)整。

本公開的發(fā)明人通過實驗證實，使用傳統(tǒng)的玻璃基板研磨機構(gòu)，并在研磨過程中采用停機修復研磨輪的方式進行研磨，其成品的研磨不良率(指具有邊燒情況的玻璃基板占研磨總量的比例)達1.5％，使用本公開提供的玻璃基板研磨機構(gòu)，研磨過程無需定期停機修復研磨，其成品不良率降至0.8％，由此充分體現(xiàn)了本公開的有益效果。

以上結(jié)合附圖詳細描述了本公開的優(yōu)選實施方式，但是，本公開并不限于上述實施方式中的具體細節(jié)，在本公開的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)，可以對本公開的技術(shù)方案進行多種簡單變型，這些簡單變型均屬于本公開的保護范圍。

另外需要說明的是，在上述具體實施方式中所描述的各個具體技術(shù)特征，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進行組合，為了避免不必要的重復，本公開對各種可能的組合方式不再另行說明。

此外，本公開的各種不同的實施方式之間也可以進行任意組合，只要其不違背本公開的思想，其同樣應當視為本公開所公開的內(nèi)容。