本實(shí)用新型涉及鍍膜機(jī)領(lǐng)域，尤其涉及一種帶有鍍膜基膜放置臺(tái)及鍍膜機(jī)。

背景技術(shù)：

目前，鍍膜機(jī)按照其應(yīng)用領(lǐng)域很廣泛，可以分為電子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺射鍍膜機(jī)、等離子鍍膜機(jī)、射頻鍍膜機(jī)、關(guān)學(xué)鍍膜機(jī)設(shè)備等等，但是他們的結(jié)構(gòu)差不多：主要有三大部分組成：真空主體——真空腔，輔助排氣系統(tǒng)(包括排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng))、蒸發(fā)系統(tǒng)(包括坩堝及回轉(zhuǎn)控制系統(tǒng)、電子槍柜)、成膜控制系統(tǒng)。主要用于五金件、玻璃工藝品、陶瓷工藝品等，如手表、手機(jī)金屬殼、電腦、潔具、刀具、模型、電子產(chǎn)品、塑料制品、亞克力板材、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、化妝包等、工藝品、塑料手機(jī)殼、電子產(chǎn)品、建料等行業(yè)、燈具、手機(jī)視窗、眼睛、舞臺(tái)燈光等。在電容的制造過程中也需要進(jìn)行鍍膜處理?，F(xiàn)在多采用基膜處理，再在基膜上進(jìn)行金屬鍍膜處理，后處理之后，得到成品。有的需要進(jìn)行金屬加厚處理，有的成品需要鍍單邊金屬，有的需要鍍雙面金屬。其中膜的均勻性會(huì)直接影響電容的性能?，F(xiàn)有的鍍膜基膜放置臺(tái)大多是一個(gè)直接的旋轉(zhuǎn)臺(tái)，可以實(shí)現(xiàn)單邊鍍膜；或者直接使用卷繞方式，實(shí)現(xiàn)雙邊鍍膜。這樣會(huì)造成單邊鍍膜與雙邊鍍膜需要進(jìn)行分開處理，而造成成本增加。與此同時(shí)，大多數(shù)的單邊鍍膜的旋轉(zhuǎn)臺(tái)無(wú)法精確控制旋轉(zhuǎn)角度，很難靈活的控制基膜的鍍膜位置，實(shí)現(xiàn)精確鍍膜。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于：針對(duì)上述有單邊鍍膜與雙邊鍍膜的所需處理臺(tái)的結(jié)構(gòu)不一致而導(dǎo)致的機(jī)器成本增加的問題，本實(shí)用新型提供一種可以實(shí)現(xiàn)單邊鍍膜也可以實(shí)現(xiàn)雙邊鍍膜的鍍膜基膜放置臺(tái)以及帶有鍍膜基膜放置臺(tái)的鍍膜機(jī)。

本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下：

一種鍍膜基膜放置臺(tái),包括呈圓臺(tái)狀的固定臺(tái)，固定臺(tái)上呈同心圓設(shè)置的圓柱形旋轉(zhuǎn)臺(tái)，固定臺(tái)內(nèi)部設(shè)置有用于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，旋轉(zhuǎn)臺(tái)沿徑向開設(shè)有凹槽，凹槽內(nèi)設(shè)置有左限位塊與右限位塊，旋轉(zhuǎn)臺(tái)開設(shè)有孔，支撐架通過螺栓固定在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，支撐架上固定有至少兩個(gè)卷繞棍。

旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)可以是步進(jìn)電機(jī)和絲杠組成，也可以選用其他驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)即可。當(dāng)需要進(jìn)行單邊鍍膜時(shí)，可以直接將基膜置于左右限位塊之間就可以。即使在密閉空間，每個(gè)位置的溫度存在區(qū)別；鍍膜時(shí)候進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，可以使得基膜受熱均勻，這樣能提高鍍膜的均勻度。旋轉(zhuǎn)臺(tái)上開設(shè)有孔，支撐架通過螺栓來(lái)固定在旋轉(zhuǎn)臺(tái)的孔上，通常需要四個(gè)孔，而具體的位置長(zhǎng)度可以根據(jù)實(shí)際基膜的大小來(lái)確定。支架上固定有兩個(gè)卷繞棍，卷繞棍的運(yùn)方向不同，從而實(shí)現(xiàn)雙邊鍍膜。同時(shí)操作起來(lái)也比較簡(jiǎn)單，不容易出錯(cuò)。也可以設(shè)置多個(gè)卷繞棍，合理設(shè)置位置以及運(yùn)行情況，實(shí)現(xiàn)雙邊鍍膜。

一種帶有鍍膜基膜放置臺(tái)的鍍膜機(jī)，包括鍍膜罐體，鍍膜罐體的下方設(shè)置有基膜放置臺(tái)，罐體的頂端設(shè)置有法蘭罩，罐體的底端設(shè)置有真空接入系統(tǒng)以及蒸發(fā)源；基膜放置臺(tái)包括呈圓臺(tái)的固定臺(tái)，固定臺(tái)上設(shè)置有呈同心圓設(shè)置的圓柱形旋轉(zhuǎn)臺(tái)，固定臺(tái)內(nèi)部設(shè)置有用于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，旋轉(zhuǎn)臺(tái)沿徑向開設(shè)有凹槽，凹槽內(nèi)設(shè)置有左限位塊與右限位塊，旋轉(zhuǎn)臺(tái)開設(shè)有孔，支撐架通過螺栓固定在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，支撐架上固定有至少兩個(gè)卷繞棍。法蘭罩實(shí)現(xiàn)密封，同時(shí)也可以在需要的時(shí)候取出；真空接入系統(tǒng)主要是維持罐體內(nèi)的真空情況；蒸發(fā)源主要提供金屬氣化，然后金屬氣化之后進(jìn)入到基膜上，實(shí)現(xiàn)鍍膜。

具體地，罐體上設(shè)置有多個(gè)進(jìn)氣孔，進(jìn)氣孔配套設(shè)置有進(jìn)氣裝置。有時(shí)候，需要進(jìn)行通氣，在罐體上開設(shè)多個(gè)孔，可以增大進(jìn)氣量，更好的提高鍍膜的均勻度。

具體地，基膜放置臺(tái)上的左限位塊與右限位塊與凹槽之間設(shè)置有沿徑向設(shè)置有可調(diào)節(jié)螺栓?？烧{(diào)節(jié)螺栓可以調(diào)節(jié)左右限位塊的位置，這樣可以放置不同大小的基膜，同時(shí)也可以更好的將基膜夾在凹槽中。

具體地，旋轉(zhuǎn)臺(tái)與固定臺(tái)上均設(shè)置有刻度線，刻度零點(diǎn)起始位置相同，旋轉(zhuǎn)臺(tái)上的刻度比固定臺(tái)的刻度多。一般的旋轉(zhuǎn)會(huì)在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上設(shè)置刻度，但是當(dāng)運(yùn)動(dòng)振動(dòng)等會(huì)造成誤差。利用游標(biāo)卡尺的讀數(shù)原理，將固定臺(tái)與旋轉(zhuǎn)臺(tái)同直徑位置處相應(yīng)設(shè)置刻度。兩個(gè)刻度結(jié)合，實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)度的精確讀數(shù)，可以精確的控制基膜的旋轉(zhuǎn)位置，實(shí)現(xiàn)精確鍍膜，從而提高鍍膜的均勻度。

具體地，罐體內(nèi)部還設(shè)置有金屬回收箱。金屬回收箱主要用于回收被鍍金屬，實(shí)現(xiàn)資源回收。

具體地，蒸發(fā)室包括依次連接的蒸發(fā)器，氣壓表和蒸發(fā)出口。

綜上所述，由于采用了上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型的有益效果是：

1.本實(shí)用新型巧妙的設(shè)置旋轉(zhuǎn)臺(tái)，在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上增設(shè)限位塊與導(dǎo)輥，從而實(shí)現(xiàn)單邊鍍膜與雙邊鍍膜；同時(shí)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作簡(jiǎn)單，不易出錯(cuò)。鍍膜時(shí)候均旋轉(zhuǎn)，提高鍍膜的膜的均勻度。

2.在罐體上開設(shè)多個(gè)孔，可以增大進(jìn)氣量，更好的提高鍍膜的均勻度。

3.可調(diào)節(jié)螺栓可以調(diào)節(jié)左右限位塊的位置，可以增加旋轉(zhuǎn)臺(tái)的適用范圍，同時(shí)也可以更好的固定基膜。

4.將固定臺(tái)與旋轉(zhuǎn)臺(tái)同直徑位置處相應(yīng)設(shè)置刻度。兩個(gè)刻度結(jié)合，實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)度的精確讀數(shù)，可以精確的控制基膜的旋轉(zhuǎn)位置，實(shí)現(xiàn)精確鍍膜，從而提高鍍膜的均勻度。

5.罐體內(nèi)部還設(shè)置有金屬回收箱。金屬回收箱主要用于回收被鍍金屬，實(shí)現(xiàn)資源回收。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型基膜放置臺(tái)的結(jié)構(gòu)圖；

圖2是本實(shí)用新型基膜放置臺(tái)的俯視圖；

圖3是本實(shí)用新型帶有基膜放置臺(tái)鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)圖；

圖中標(biāo)記：1-蒸發(fā)器；2-氣壓表；3-蒸發(fā)出口；4-進(jìn)氣孔；5-基膜放置臺(tái)；6-金屬回收箱；7-支撐柱；8-罐體；9-真空接入系統(tǒng)；10-支撐架；11-1-左限位塊；11-2-右限位塊；13-旋轉(zhuǎn)臺(tái)；14-固定臺(tái)；15-可調(diào)節(jié)螺栓；17-卷繞棍；101-旋轉(zhuǎn)臺(tái)刻度；102-固定臺(tái)刻度。

具體實(shí)施方式

本說(shuō)明書中公開的所有特征，除了互相排斥的特征和/或步驟以外，均可以以任何方式組合。

下面結(jié)合圖1、圖2、圖3對(duì)本發(fā)明作詳細(xì)說(shuō)明。

實(shí)施例1

一種鍍膜基膜放置臺(tái),包括圓臺(tái)狀的固定臺(tái)14，固定臺(tái)14上呈同心圓設(shè)置的圓柱形旋轉(zhuǎn)臺(tái)13，固定臺(tái)14內(nèi)部設(shè)置有用于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)13旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，旋轉(zhuǎn)臺(tái)(13)沿徑向開設(shè)有凹槽，凹槽內(nèi)設(shè)置有左限位塊11-1與右限位塊11-2，旋轉(zhuǎn)臺(tái)13開設(shè)有孔，支撐架10通過螺栓固定在旋轉(zhuǎn)臺(tái)13上，支撐架10上固定有兩個(gè)卷繞棍17。

實(shí)施例2

在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，一種帶有鍍膜基膜放置臺(tái)的鍍膜機(jī)，包括鍍膜罐體8，罐體8的下方設(shè)置有基膜放置臺(tái)5，罐體8的頂端設(shè)置有法蘭罩，罐體8的底端設(shè)置有真空接入系統(tǒng)9以及蒸發(fā)室；基膜放置臺(tái)5包括呈圓臺(tái)狀的固定臺(tái)14，固定臺(tái)14上有呈同心圓設(shè)置的圓柱形旋轉(zhuǎn)臺(tái)13，固定臺(tái)14內(nèi)部設(shè)置有用于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)13旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，旋轉(zhuǎn)臺(tái)13沿徑向開設(shè)有凹槽，凹槽內(nèi)設(shè)置有左限位塊11-1與右限位塊11-2，旋轉(zhuǎn)臺(tái)13開設(shè)有孔，支撐架10通過螺栓固定在旋轉(zhuǎn)臺(tái)13上，支撐架10上固定有兩個(gè)卷繞棍17，固定臺(tái)14與支撐柱7相連，支撐柱設(shè)置在罐體8底端。

實(shí)施例3

在實(shí)施例2的基礎(chǔ)上，罐體8上設(shè)置有8個(gè)進(jìn)氣孔4，進(jìn)氣孔4配套設(shè)置有進(jìn)氣裝置。

實(shí)施例4

在實(shí)施例1或2或3的基礎(chǔ)上，限位塊與凹槽之間設(shè)置有沿徑向設(shè)置有可調(diào)節(jié)螺栓15。

實(shí)施例5

在實(shí)施例1或2或3或4的基礎(chǔ)上，旋轉(zhuǎn)臺(tái)13與固定臺(tái)14上在直徑相同處分別設(shè)置有旋轉(zhuǎn)臺(tái)刻度101與固定臺(tái)刻度102，刻度零點(diǎn)起始位置相同，旋轉(zhuǎn)臺(tái)刻度101上的刻度數(shù)比固定臺(tái)刻度102的刻度數(shù)多。

實(shí)施例6

在實(shí)施例2或3的基礎(chǔ)上，罐體8內(nèi)部還設(shè)置有金屬回收箱6。

實(shí)施例7

在實(shí)施例1或2或6的基礎(chǔ)上，蒸發(fā)室包括依次連接的蒸發(fā)器1，氣壓表2和蒸發(fā)出口3。