本實(shí)用新型涉及一種控制系統(tǒng)，具體是涉及一種真空烤盤爐控制系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

MOCVD(Metal-organic Chemical Vapor Deposition)即金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積，是制備化合物半導(dǎo)體薄膜的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)。MOCVD設(shè)備是研發(fā)世界先進(jìn)水平的S、C、X、K和Q等波段的氮化鎵大功率電子器件和高壓大功率固體開關(guān)器件、高端激光器件及效率可達(dá)40％以上的太陽(yáng)電池等光電子器件不可或缺的。它利用較易揮發(fā)的有機(jī)物作為較難揮發(fā)的金屬原子的源反應(yīng)物，通過載氣攜帶到反應(yīng)器內(nèi)，在適當(dāng)?shù)臍鈮?、溫度等條件發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在加熱的襯底基片上外延生長(zhǎng)出薄膜。為了達(dá)到良好的生長(zhǎng)效果，一般需要對(duì)MOCVD進(jìn)行有效的控制，包括氣氛條件、尾料處理等，現(xiàn)有的技術(shù)難以滿足上述控制。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本實(shí)用新型的主要目的是提供了一種真空烤盤爐控制系統(tǒng)。

本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為：

一種真空烤盤爐控制系統(tǒng)，包括

連接真空烤盤爐的預(yù)裝室，與預(yù)裝室連接的手套室；

連接真空烤盤爐的主抽閥，該主抽閥的前端管路上設(shè)置有壓力計(jì)，其后端的管路上依次設(shè)置有魯式泵和機(jī)械泵；

連接真空烤盤爐的尾料處理系統(tǒng)，該尾料處理系統(tǒng)包括顆粒過濾器、端閥、動(dòng)力泵以及多級(jí)過濾網(wǎng)，所述顆粒過濾器與真空烤盤爐之間設(shè)置有依次連接的第一球閥和第二球閥，所述顆粒過濾器通過第三球閥與端閥連接，所述端閥連接動(dòng)力泵，所述動(dòng)力泵的后端設(shè)置有多級(jí)過濾網(wǎng)。

優(yōu)選的，所述真空烤盤爐的上端分別設(shè)置有充氣閥、備壓閥以及分壓閥，所述充氣閥、備壓閥以及分壓閥構(gòu)成氣氛控制系統(tǒng)，該氣氛控制系統(tǒng)用于真空烤盤爐內(nèi)提供氣氛或者制程氣氛。

優(yōu)選的，所述顆粒過濾器包括兩個(gè)并聯(lián)的顆粒過濾器，一用一備。

本實(shí)用新型的有益效果為：

1.可以有效的解決尾料處理，收集的尾料可以再次利用，尾氣凈化后直接排出；

2.可以有效的進(jìn)行氣氛控制，保證真空烤盤爐不漏氣；

3.采用連續(xù)性給料的預(yù)裝室，保證生長(zhǎng)原料的供給。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型的系統(tǒng)框架原理圖。

其中，附圖中的標(biāo)記名稱及標(biāo)記如下:

真空烤盤爐1、預(yù)裝室2、手套室3、主抽閥4、魯式泵5、機(jī)械泵6、壓力計(jì)7、第一球閥8、第二球閥9、顆粒過濾器10、第三球閥11、端閥12、動(dòng)力泵13、多級(jí)過濾網(wǎng)14、充氣閥15、備壓閥16以及分壓閥17。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合附圖以及具體實(shí)施例來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型，在此本實(shí)用新型的示意性實(shí)施例以及說(shuō)明用來(lái)解釋本實(shí)用新型，但并不作為對(duì)本實(shí)用新型的限定。

參照?qǐng)D1，本實(shí)用新型公開了一種真空烤盤爐控制系統(tǒng)，包括

連接真空烤盤爐1的預(yù)裝室2，與預(yù)裝室2連接的手套室3；

連接真空烤盤爐1的主抽閥4，該主抽閥4的前端管路上設(shè)置有壓力計(jì)7，其后端的管路上依次設(shè)置有魯式泵5和機(jī)械泵6；

連接真空烤盤爐1的尾料處理系統(tǒng)，該尾料處理系統(tǒng)包括顆粒過濾器10、端閥12、動(dòng)力泵13以及多級(jí)過濾網(wǎng)14，所述顆粒過濾器10包括兩個(gè)并聯(lián)的顆粒過濾器，一用一備。顆粒過濾器10與真空烤盤爐1之間設(shè)置有依次連接的第一球閥8和第二球閥9，所述顆粒過濾器10通過第三球閥11與端閥12連接，所述端閥12連接動(dòng)力泵13，所述動(dòng)力泵13的后端設(shè)置有多級(jí)過濾網(wǎng)14。

所述真空烤盤爐1的上端分別設(shè)置有充氣閥15、備壓閥16以及分壓閥17，所述充氣閥15、備壓閥16以及分壓閥17構(gòu)成氣氛控制系統(tǒng)，該氣氛控制系統(tǒng)用于真空烤盤爐內(nèi)提供氣氛或者制程氣氛，其氣體主要為氮?dú)饣蛘邭錃狻?/p>

由于石墨的導(dǎo)熱性和耐熱性，真空烤盤爐1內(nèi)的爐壁幾乎全部采用石墨材料，加熱系統(tǒng)也采用石墨加熱，烘烤過程中可以采用氮?dú)饣蛘邭錃膺M(jìn)行輔助烘烤，采用氣氛控制系統(tǒng)可以有效的提供氣氛或者制程氣氛，尾氣通過動(dòng)力泵13抽出，在抽出過程中采用多級(jí)球閥進(jìn)行流量控制，同時(shí)將尾氣中夾雜的尾料進(jìn)行有效的過濾，其過濾裝置采用顆粒過濾器10，顆粒過濾器10采用并聯(lián)式，一用一備，在出現(xiàn)故障或者需要清理時(shí)，無(wú)需將整個(gè)生產(chǎn)系統(tǒng)停用，提高了生產(chǎn)的效率，同時(shí)，可以有效的解決尾料處理，收集的尾料可以再次利用，尾氣凈化后直接排出。

真空烤盤爐1的壓力主要來(lái)源于動(dòng)力泵13前端的氣流量和尾氣后端端閥12的共同作用，氣壓通過壓力計(jì)7顯示?？梢杂行У倪M(jìn)行氣氛控制，保證真空烤盤爐不漏氣。

本使用新型采用連續(xù)性給料的預(yù)裝室，保證生長(zhǎng)原料的供給。以上對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例所公開的技術(shù)方案進(jìn)行了詳細(xì)介紹，本文中應(yīng)用了具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例的原理以及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例的說(shuō)明只適用于幫助理解本實(shí)用新型實(shí)施例的原理；同時(shí)，對(duì)于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例，在具體實(shí)施方式以及應(yīng)用范圍上均會(huì)有改變之處，綜上所述，本說(shuō)明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。