本申請(qǐng)涉及鍍膜，特別是涉及一種鍍膜設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、鍍膜技術(shù)是在腔體內(nèi)通過(guò)熱蒸發(fā)或?yàn)R射等方法在柔性基材(可卷繞)上制備一層或者多層具有一定功能的薄膜的技術(shù)?，F(xiàn)有的大多數(shù)鍍膜設(shè)備在一次鍍膜階段時(shí)僅僅能夠?qū)倪M(jìn)行單面鍍膜(如申請(qǐng)?zhí)?01510068222.1的公開(kāi)文獻(xiàn)，專(zhuān)利名稱(chēng)：一種單面往復(fù)連續(xù)鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機(jī))。當(dāng)需要對(duì)基材進(jìn)行雙面鍍膜時(shí)，鍍膜設(shè)備需要經(jīng)過(guò)二次鍍膜階段。其中，“一次鍍膜階段”是指鍍膜設(shè)備經(jīng)營(yíng)造腔體內(nèi)部環(huán)境(如抽真空)后開(kāi)始鍍膜至鍍膜結(jié)束的處理過(guò)程，一次鍍膜階段僅需一次營(yíng)造腔體內(nèi)部環(huán)境。

2、目前的鍍膜設(shè)備大多僅能夠在基材的單面進(jìn)行鍍膜，當(dāng)需要在基材雙面鍍?cè)O(shè)多層材料時(shí)，需要打開(kāi)腔體調(diào)換基材對(duì)基材進(jìn)行翻面，也需要兩次營(yíng)造腔體內(nèi)部環(huán)境，生產(chǎn)效率較低。

3、為此，在相關(guān)技術(shù)中(如申請(qǐng)?zhí)?02010053715.9的公開(kāi)文獻(xiàn)，專(zhuān)利名稱(chēng)”一種鍍膜機(jī))，其針對(duì)上述技術(shù)問(wèn)題，提出了一種不需要打開(kāi)真空腔體就能夠?qū)崿F(xiàn)單腔體鍍膜機(jī)的基材的雙面上同時(shí)鍍上不同材料的鍍膜機(jī)，但是該鍍膜機(jī)在雙面鍍?cè)O(shè)多層膜層時(shí)，需要停機(jī)以通過(guò)回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)切換冷卻輥位置，生產(chǎn)效率仍舊較低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、鑒于上述問(wèn)題，本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N鍍膜設(shè)備，能夠解決鍍膜設(shè)備生產(chǎn)效率低的問(wèn)題。

2、第一方面，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N鍍膜設(shè)備，包括兩組鍍膜組，兩組鍍膜組布置于同一基材的走帶路徑上，每一鍍膜組均包括多個(gè)冷卻輥和多個(gè)鍍膜機(jī)構(gòu)，且每一鍍膜機(jī)構(gòu)均與一個(gè)冷卻輥相對(duì)且間隔設(shè)置以供基材穿設(shè)。其中之一鍍膜組中，冷卻輥用于與基材的第一面相接觸，鍍膜機(jī)構(gòu)用于對(duì)基材的第二面鍍膜。另一鍍膜組中，冷卻輥用于與第二面相接觸，鍍膜機(jī)構(gòu)用于對(duì)第一面鍍膜。

3、本申請(qǐng)實(shí)施例的技術(shù)方案中，通過(guò)設(shè)置兩組鍍膜組，能夠在一次鍍膜階段中分別對(duì)同一基材的不同兩個(gè)鍍膜面進(jìn)行鍍膜，能夠大大提高鍍膜設(shè)備的鍍膜效率。而且，各組鍍膜組均包括多對(duì)冷卻輥和鍍膜機(jī)構(gòu)，可對(duì)基材的某一鍍膜面進(jìn)行多層鍍膜，進(jìn)一步提高了鍍膜設(shè)備的鍍膜效率。

4、在一些實(shí)施例中，沿各鍍膜機(jī)構(gòu)的鍍膜次序，相鄰的兩個(gè)鍍膜機(jī)構(gòu)所裝載的鍍膜材料不同。此時(shí)，將在鍍膜次序上相鄰的兩個(gè)鍍膜機(jī)構(gòu)所裝載的鍍膜材料不同，使得相鄰的兩個(gè)鍍膜機(jī)構(gòu)能夠在基材上鍍?cè)O(shè)形成材料不同的膜層，可以利用不同材料的膜層間的物理化學(xué)性質(zhì)不同來(lái)提高鍍膜后的基材的物理化學(xué)性能，進(jìn)而提高基材的鍍膜質(zhì)量。

5、在一些實(shí)施例中，各鍍膜組中，沿基材的走帶方向，各鍍膜機(jī)構(gòu)的布置順序按照對(duì)應(yīng)的鍍膜次序布置。此時(shí)，隨著基材的行走，其中一組鍍膜組的各鍍膜機(jī)構(gòu)依次對(duì)基材的第一面進(jìn)行鍍膜，另一組鍍膜組的各鍍膜機(jī)構(gòu)依次對(duì)基材的第二面進(jìn)行鍍膜，當(dāng)基材的各部分走完對(duì)應(yīng)路徑時(shí)，基材的第一面和第二面全部被鍍膜，也就是說(shuō)，基材僅需一次走帶即可完成雙面鍍膜，鍍膜效率高。

6、在一些實(shí)施例中，各鍍膜組均包括至少兩個(gè)鍍膜機(jī)構(gòu)，沿鍍膜機(jī)構(gòu)的次序，至少兩個(gè)鍍膜機(jī)構(gòu)被配置為用于在基材上依次鍍?cè)O(shè)陶瓷打底層和金屬層。此時(shí)，基材的各鍍膜面途徑各鍍膜組的各鍍膜機(jī)構(gòu)時(shí)，能夠順次被鍍?cè)O(shè)上陶瓷打底層和金屬層，利用陶瓷打底層直接鍍?cè)O(shè)在基材上，可以提高膜層在基材上的附著力，同時(shí)將金屬層鍍?cè)O(shè)在打底層上，可以改善金屬層的鍍?cè)O(shè)缺陷(如針孔、孔洞)。另外，陶瓷打底層的導(dǎo)熱性能好，散熱速度快，可以放置基材在鍍膜機(jī)構(gòu)所產(chǎn)生的高溫下過(guò)快變形。

7、在一些實(shí)施例中，各鍍膜組均包括至少三個(gè)鍍膜機(jī)構(gòu)，沿鍍膜機(jī)構(gòu)的鍍膜次序，至少三個(gè)鍍膜機(jī)構(gòu)被配置為用于在基材上依次鍍?cè)O(shè)陶瓷打底層、金屬層和陶瓷鈍化層。此時(shí)，基材的各鍍膜面途徑各鍍膜組的各鍍膜機(jī)構(gòu)時(shí)，能夠順次被鍍?cè)O(shè)上陶瓷打底層、金屬層和陶瓷鈍化層，利用陶瓷打底層直接鍍?cè)O(shè)在基材上，可以提高膜層在基材上的附著力，同時(shí)將金屬層鍍?cè)O(shè)在打底層上，可以改善金屬層的鍍?cè)O(shè)缺陷(如針孔、孔洞)。而且，陶瓷打底層的導(dǎo)熱性能好，散熱速度快，可以放置基材在鍍膜機(jī)構(gòu)所產(chǎn)生的高溫下過(guò)快變形。另外，在金屬層外鍍?cè)O(shè)陶瓷鈍化層，可避免金屬層出現(xiàn)氧化及腐蝕情況。

8、在一些實(shí)施例中，鍍膜設(shè)備還包括兩個(gè)收放卷機(jī)構(gòu)，在基材的走帶路徑上，兩組鍍膜組位于兩個(gè)收放卷機(jī)構(gòu)之間。各收放卷機(jī)構(gòu)均被構(gòu)造為能夠在收卷狀態(tài)和放卷狀態(tài)之間切換，且當(dāng)其中之一收放卷機(jī)構(gòu)處于收卷狀態(tài)時(shí)，另一收放卷機(jī)構(gòu)處于放卷狀態(tài)。通過(guò)改變收放卷機(jī)構(gòu)的工作狀態(tài)來(lái)實(shí)現(xiàn)基材的多層膜的鍍?cè)O(shè)，相鄰兩層膜的鍍?cè)O(shè)間隔時(shí)間較長(zhǎng)，如此可以給各膜層預(yù)留一定的沉積時(shí)間，待各膜層沉積好之后再沉積別的膜層，可減小其他膜層在鍍?cè)O(shè)時(shí)對(duì)前一膜層的影響，使得各膜層沉積更為均勻且更加致密，可以提高薄膜質(zhì)量。

9、在一些實(shí)施例中，冷卻輥被配置為能夠連通負(fù)偏壓。當(dāng)冷卻輥上加載有負(fù)偏壓，冷卻輥與基材接觸，使得基材帶負(fù)偏壓。當(dāng)基材帶負(fù)偏壓，可以提高膜層與基材的附著力及膜層致密性。

10、在一些實(shí)施例中，鍍膜設(shè)備還包括除靜電機(jī)構(gòu)，在基材的走帶路徑上，各鍍膜組的下游均布置有除靜電機(jī)構(gòu)，用于對(duì)對(duì)鍍膜后的所述第一面和鍍膜后的所述第二面除靜電。由于冷卻輥被加壓負(fù)偏壓，使得基材帶負(fù)電，當(dāng)鍍膜結(jié)束后，利用除靜電機(jī)構(gòu)對(duì)基材進(jìn)行除靜電，可防止相關(guān)人員接觸鍍膜后的基材而觸電。

11、在一些實(shí)施例中，各鍍膜機(jī)構(gòu)包括蒸鍍?cè)?，蒸鍍?cè)磁c冷卻輥相對(duì)且間隔設(shè)置。此時(shí)，鍍膜機(jī)構(gòu)通過(guò)蒸鍍?cè)村兡?，蒸鍍?cè)吹哪映练e速度快，有利于提高鍍膜效率，同時(shí)其價(jià)格較低，可以降低鍍膜設(shè)備的使用成本。

12、在一些實(shí)施例中，至少一個(gè)鍍膜機(jī)構(gòu)還包括濺射源，鍍膜機(jī)構(gòu)被配置為可選擇地從蒸鍍?cè)春蜑R射源中擇一對(duì)基材鍍膜。濺射源所形成的膜層具有成膜質(zhì)量好，與基材結(jié)合牢固的優(yōu)點(diǎn)。實(shí)際應(yīng)用時(shí)，可以靈活選擇使用蒸鍍?cè)椿驗(yàn)R射源，使得鍍膜設(shè)備可以適應(yīng)于各種鍍膜工藝。

13、在一些實(shí)施例中，鍍膜設(shè)備還包括離子清洗機(jī)構(gòu)，在基材的走帶路徑上，各鍍膜組的上游均布置有離子清洗機(jī)構(gòu)。此時(shí)，在各鍍膜組的上游布置有離子清洗機(jī)構(gòu)，基材在鍍膜前其鍍膜面能夠被離子清洗機(jī)構(gòu)清洗和活化，可以提高鍍膜質(zhì)量。

14、在一些實(shí)施例中，鍍膜設(shè)備還包括測(cè)厚機(jī)構(gòu)，在基材的走帶路徑上，兩組鍍膜組間隔布置，各鍍膜組的下游均布置有測(cè)厚機(jī)構(gòu)。此時(shí)，在各鍍膜組的下游布置測(cè)厚機(jī)構(gòu)，可以測(cè)量鍍膜后的基材的厚度，有助于實(shí)現(xiàn)對(duì)鍍膜過(guò)程的監(jiān)控，保證鍍膜質(zhì)量。

15、上述說(shuō)明僅是本申請(qǐng)技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本申請(qǐng)的技術(shù)手段，而可依照說(shuō)明書(shū)的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本申請(qǐng)的上述和其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉本申請(qǐng)的具體實(shí)施方式。

技術(shù)特征：

1.一種鍍膜設(shè)備，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，各所述鍍膜組中，沿基材的走帶方向，各所述鍍膜機(jī)構(gòu)的布置順序按照所對(duì)應(yīng)的鍍膜次序布置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，各所述鍍膜組均包括至少兩個(gè)所述鍍膜機(jī)構(gòu)，沿所述鍍膜機(jī)構(gòu)的鍍膜次序，且至少兩個(gè)所述鍍膜機(jī)構(gòu)被配置為用于在所述基材上依次鍍?cè)O(shè)陶瓷打底層和金屬層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，各所述鍍膜組均包括至少三個(gè)所述鍍膜機(jī)構(gòu)，沿所述鍍膜機(jī)構(gòu)的鍍膜次序，至少三個(gè)所述鍍膜機(jī)構(gòu)被配置為用于在所述基材上依次鍍?cè)O(shè)陶瓷打底層、金屬層和陶瓷鈍化層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述鍍膜設(shè)備還包括兩個(gè)收放卷機(jī)構(gòu)，在所述基材的走帶路徑上，所述兩組鍍膜組位于所述兩個(gè)收放卷機(jī)構(gòu)之間；

6.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述冷卻輥被配置為能夠連通負(fù)偏壓。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述鍍膜設(shè)備還包括除靜電機(jī)構(gòu)，在所述基材的走帶路徑上，各所述鍍膜組的下游均布置有所述除靜電機(jī)構(gòu)，用于對(duì)鍍膜后的所述基材的第一面和鍍膜后的所述基材的第二面除靜電。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，各所述鍍膜機(jī)構(gòu)包括蒸鍍?cè)?，所述蒸鍍?cè)磁c所述冷卻輥相對(duì)且間隔設(shè)置。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，至少一個(gè)所述鍍膜機(jī)構(gòu)還包括濺射源，所述鍍膜機(jī)構(gòu)被配置為可選擇地從所述蒸鍍?cè)磁c所述濺射源中擇一對(duì)所述基材鍍膜。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述鍍膜設(shè)備還包括離子清洗機(jī)構(gòu)，在所述基材的走帶路徑上，各所述鍍膜組的上游均布置有所述離子清洗機(jī)構(gòu)。

11.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述鍍膜設(shè)備還包括測(cè)厚機(jī)構(gòu)，在所述基材的走帶路徑上，所述兩組鍍膜組間隔布置；

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)涉及一種鍍膜設(shè)備，包括：兩組鍍膜組，布置于同一基材的走帶路徑上，每一鍍膜組均包括多個(gè)冷卻輥和多個(gè)鍍膜機(jī)構(gòu)，且每一鍍膜機(jī)構(gòu)均與一個(gè)冷卻輥相對(duì)且間隔設(shè)置以供基材穿設(shè)。其中之一鍍膜組中，冷卻輥用于與基材的第一面相接觸，鍍膜機(jī)構(gòu)用于對(duì)基材的第二面鍍膜。另一鍍膜組中，冷卻輥用于與第二面相接觸，鍍膜機(jī)構(gòu)用于對(duì)第一面鍍膜。本申請(qǐng)的鍍膜設(shè)備，通過(guò)設(shè)置兩組鍍膜組，可實(shí)現(xiàn)基材的雙面鍍膜，能夠大大提高鍍膜設(shè)備的鍍膜效率。而且，各組鍍膜組均包括多對(duì)冷卻輥和鍍膜機(jī)構(gòu)，可對(duì)基材的某一鍍膜面進(jìn)行多層鍍膜，進(jìn)一步提高了鍍膜設(shè)備的鍍膜效率。

技術(shù)研發(fā)人員：尚鯤鵬,伍平生,雷克武,薛顏同,王岳利
受保護(hù)的技術(shù)使用者：寧德時(shí)代新能源科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20221021
技術(shù)公布日：2024/12/26