1.一種低氮的合金涂層，其特征在于，所述合金涂層含有cr-zr-n合金材料，所述cr-zr-n合金材料的化學(xué)式為(crxzrynz)ma，m為摻雜元素，其中，x、y、z和a各自獨(dú)立地為原子比，41.3≤x≤61.4，33.2≤y≤40.0，5.4≤z≤25.5，且0≤a/(x+y+z+a)≤0.05。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合金涂層，其特征在于，x、y和z三者之和為100。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合金涂層，其特征在于，1.8y-19.7≤x≤-1.1y+98.5。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的合金涂層，其特征在于，所述合金涂層滿足如下兩個(gè)特征：
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的合金涂層，其特征在于，所述合金涂層的x射線衍射圖在30°～50°范圍內(nèi)至少一個(gè)2θ(°)衍射峰的半高寬滿足≥3.5°。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的合金涂層，其特征在于，所述合金涂層的選區(qū)電子衍射花樣圖對(duì)應(yīng)的徑向強(qiáng)度剖面圖，在范圍內(nèi)至少一個(gè)衍射峰的半高寬滿足≥
7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的合金涂層，其特征在于，所述合金涂層的厚度為dmin～6μm，其中，dmin選自10nm～50nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的合金涂層，其特征在于，dmin為10nm、20nm、25nm、30nm、40nm或50nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的合金涂層，其特征在于，a＝0或者0<a/(x+y+z+a)≤0.02。
10.根據(jù)權(quán)利要求1～9中任一項(xiàng)所述的合金涂層，其特征在于，所述摻雜元素為非金屬元素、金屬元素或者其組合；
11.一種cr-zr-n合金材料，其特征在于，如權(quán)利要求1-6、9-10任一項(xiàng)中所定義。
12.一種鍍膜制品，其特征在于，包括基體以及權(quán)利要求1～10中任一項(xiàng)所述的合金涂層；其中，所述合金涂層位于所述基體的至少一側(cè)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的鍍膜制品，其特征在于，所述基體的表面材質(zhì)為合金、單質(zhì)型金屬和無機(jī)非金屬材料中的一種；
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的鍍膜制品，其特征在于，所述基體的表面材質(zhì)為輕合金中的一種或不銹鋼合金中的一種；
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的鍍膜制品，其特征在于，滿足如下特征中的一個(gè)或多個(gè)：
16.權(quán)利要求15所述的cr-zr-n合金材料在制備硬質(zhì)耐腐蝕涂層中的應(yīng)用，或者權(quán)利要求1～10中任一項(xiàng)所述合金涂層用作硬質(zhì)耐腐蝕涂層至少一部分層的應(yīng)用，或者權(quán)利要求11～14所述的鍍膜制品在制備具有硬質(zhì)耐腐蝕涂層的產(chǎn)品中的應(yīng)用。
17.一種合金涂層的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：采用氣相沉積技術(shù)將所述合金涂層的組成元素按照預(yù)設(shè)原子比沉積于基體的至少一部分表面，形成權(quán)利要求1～11中任一項(xiàng)所述合金涂層。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的制備方法，其特征在于，所述合金涂層的制備方法包括如下步驟：在通入包含氬氣和含氮?dú)怏w的混合氣體的條件下，使用包括鉻和鋯的一種或多種靶材，在所述基體的至少一部分表面上濺射沉積所述合金涂層的組成元素，形成所述合金涂層。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的制備方法，其特征在于，滿足如下特征中的一個(gè)或多個(gè)：