本發(fā)明涉及真空鍍膜，尤其涉及蒸發(fā)裝置、真空鍍膜設(shè)備及真空鍍膜方法。

背景技術(shù)：

1、在真空蒸發(fā)鍍膜等鍍膜過程中，鍍膜材料的補給和預(yù)加熱是真空鍍膜前的重要準(zhǔn)備工序?，F(xiàn)有技術(shù)中，為了向真空鍍膜工位補充鍍膜材料，往往需要將鍍膜室破真空；并且，在鍍膜材料預(yù)加熱過程中，真空鍍膜室中通常無法同時進(jìn)行真空鍍膜。在前述情況下，真空鍍膜的生產(chǎn)效率低下，且不利于鍍膜品質(zhì)提升；尤其對于需長時間預(yù)加熱的鍍膜材料，鍍膜材料預(yù)加熱過程成為影響鍍膜效率的重要因素之一。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于提供蒸發(fā)裝置、真空鍍膜設(shè)備及真空鍍膜方法，借助加熱件和承載盤的配合，得以使物料在等待蒸發(fā)時進(jìn)行預(yù)熔操作，從而加快物料的蒸發(fā)速度，提高成膜效果和鍍膜效率。

2、為達(dá)此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

3、蒸發(fā)裝置，包括承載盤和蒸發(fā)源主體；所述承載盤能夠繞切換軸線旋轉(zhuǎn)，所述承載盤上設(shè)有多個工作位，多個所述工作位繞所述切換軸線周向分布；所述蒸發(fā)源主體安裝于所述承載盤，每個所述蒸發(fā)源主體均位于一個所述工作位，所述承載盤能帶動每個所述蒸發(fā)源主體移動至任一所述工作位；所述蒸發(fā)源主體設(shè)有用于容納物料的料瓶本體以及套設(shè)于所述料瓶本體的料瓶防護(hù)殼，所述料瓶防護(hù)殼包括加熱件，所述加熱件能將所述料瓶本體內(nèi)的所述物料加熱至預(yù)熔溫度或蒸發(fā)溫度；所述蒸發(fā)溫度高于所述預(yù)熔溫度。

4、作為蒸發(fā)裝置的優(yōu)選技術(shù)方案，所述料瓶防護(hù)殼還包括防護(hù)殼主體，所述加熱件設(shè)置于所述料瓶本體的外側(cè)壁，所述防護(hù)殼主體為管狀件，套設(shè)于所述加熱件。

5、作為蒸發(fā)裝置的優(yōu)選技術(shù)方案，所述料瓶防護(hù)殼還包括冷卻管線，所述冷卻管線設(shè)置于所述防護(hù)殼主體的內(nèi)側(cè)壁，所述冷卻管線內(nèi)可容納冷卻液。

6、作為蒸發(fā)裝置的優(yōu)選技術(shù)方案，所述蒸發(fā)裝置還包括冷卻液儲存單元，所述冷卻液儲存單元的排出端與所述承載盤上的冷卻液入口相連通，所述冷卻液儲存單元的接收端與所述承載盤上的冷卻液出口相連通，所述冷卻液從所述冷卻液入口流入所述冷卻管線，并從所述冷卻液出口流出所述冷卻管線。

7、作為蒸發(fā)裝置的優(yōu)選技術(shù)方案，所述蒸發(fā)裝置還包括中空旋轉(zhuǎn)軸，所有的所述蒸發(fā)源主體均安裝于所述承載盤的上盤面，所述中空旋轉(zhuǎn)軸插接于所述承載盤的下盤面，所述中空旋轉(zhuǎn)軸的通孔連通所述承載盤的上盤面和所述承載盤的下盤面，所述中空旋轉(zhuǎn)軸與所述切換軸線同軸，所述中空旋轉(zhuǎn)軸上套設(shè)有旋轉(zhuǎn)密封件，所述中空旋轉(zhuǎn)軸能相對所述旋轉(zhuǎn)密封件匹配轉(zhuǎn)動。

8、作為蒸發(fā)裝置的優(yōu)選技術(shù)方案，所述蒸發(fā)裝置還包括電極連接件，所述電極連接件設(shè)于所述中空旋轉(zhuǎn)軸遠(yuǎn)離所述承載盤的一端，通過電連接線纜與所述加熱件電連接，所述電連接線纜穿過所述中空旋轉(zhuǎn)軸的通孔。

9、作為蒸發(fā)裝置的優(yōu)選技術(shù)方案，所述蒸發(fā)裝置還包括驅(qū)動輪，所述驅(qū)動輪與所述中空旋轉(zhuǎn)軸傳動連接，用于帶動所述中空旋轉(zhuǎn)軸繞所述切換軸線旋轉(zhuǎn)。

10、作為蒸發(fā)裝置的優(yōu)選技術(shù)方案，所述承載盤的上盤面固接有裝置定位架，所述裝置定位架與所述蒸發(fā)源主體的數(shù)量相同，且每個所述蒸發(fā)源主體均活動安裝于一個所述裝置定位架上。

11、真空鍍膜設(shè)備，包括用于對基板治具進(jìn)行鍍膜的鍍膜室，所述鍍膜室內(nèi)設(shè)置有至少一個上述的蒸發(fā)裝置，多個所述工作位中的一個被定義為蒸發(fā)位，其余的所述工作位被定義為預(yù)熔位，所述鍍膜室內(nèi)還安裝有預(yù)熔擋板和鍍膜擋板，且所述預(yù)熔擋板用于遮擋位于所述預(yù)熔位的所述蒸發(fā)源主體的料瓶本體的開口，所述鍍膜擋板用于遮擋位于所述蒸發(fā)位的所述蒸發(fā)源主體的所述料瓶本體的開口。

12、真空鍍膜方法，應(yīng)用于上述的真空鍍膜設(shè)備，包括以下步驟：

13、s10：將所述基板治具定位于所述鍍膜室內(nèi)；

14、s20：將位于預(yù)熔位的所述蒸發(fā)源主體內(nèi)的所述物料加熱至預(yù)熔溫度，將位于蒸發(fā)位的所述蒸發(fā)源主體內(nèi)的所述物料加熱至蒸發(fā)溫度；

15、s30：當(dāng)位于所述蒸發(fā)位的所述蒸發(fā)源主體內(nèi)的所述物料少于預(yù)設(shè)值時，所述承載盤帶動其他所述蒸發(fā)源主體移動至所述蒸發(fā)位，直至所述基板治具鍍膜完成。

16、本發(fā)明的有益效果：

17、該蒸發(fā)裝置借助能夠繞切換軸線旋轉(zhuǎn)的承載盤，實現(xiàn)了蒸發(fā)源主體在不同工作位之間的切換，進(jìn)而得以達(dá)到將任一蒸發(fā)源主體移動到對應(yīng)位置的目的。蒸發(fā)源主體由料瓶本體、料瓶防護(hù)殼和加熱件組成的結(jié)構(gòu)設(shè)計，使得每個料瓶本體的加熱操作都相互獨立，提升了對蒸發(fā)源主體加熱的靈活性，有助于蒸發(fā)裝置達(dá)成不同的工作目的。通過將物料加熱至預(yù)熔溫度的方式，得以對等待蒸發(fā)的物料進(jìn)行預(yù)熔加熱，通過將物料加熱至蒸發(fā)溫度的方式，得以對物料進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜，由此改進(jìn)有助于對鍍膜材料靈活地實現(xiàn)不同的加熱目的。該蒸發(fā)裝置加快了物料的蒸發(fā)速度，提高了物料的蒸發(fā)效率，進(jìn)而滿足了真空鍍膜設(shè)備對基板治具上的基板的成膜效果和鍍膜效率的需求。

18、該真空鍍膜設(shè)備通過限定蒸發(fā)位和預(yù)熔位的方式，得以對位于不同工作位的蒸發(fā)源主體進(jìn)行不同溫度的加熱操作；位于預(yù)熔位的蒸發(fā)源主體內(nèi)的物料被加熱至預(yù)熔溫度，且料瓶本體的開口可在預(yù)熔過程中被預(yù)熔擋板遮擋，以上設(shè)計使得物料充分預(yù)熔，且受限于溫度以及蒸發(fā)路徑受阻的因素而無法進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜，從而使位于預(yù)熔位的蒸發(fā)源主體在切換至蒸發(fā)位后即可快速滿足蒸發(fā)鍍膜條件而開始蒸發(fā)，進(jìn)而使更換蒸發(fā)源主體后的等待時間急劇縮短，由此得以明顯地縮短真空鍍膜操作的無效工作時間，提高鍍膜過程的并行性，從而盡可能地提高物料蒸發(fā)的效率。以上改進(jìn)大幅提升了鍍膜的效率，同時還有助于改善成膜的效果。鍍膜擋板選擇性封閉位于蒸發(fā)位的蒸發(fā)源主體開口的設(shè)計能夠?qū)崿F(xiàn)對物料蒸發(fā)的快速控制，從而在達(dá)到鍍膜厚度或發(fā)現(xiàn)操作失誤后能夠盡可能快的抑制物料蒸發(fā)到鍍膜基板上，從而確保鍍膜過程的可控性。

19、該真空鍍膜方法通過區(qū)分預(yù)熔位和蒸發(fā)位方式，為待蒸發(fā)的蒸發(fā)源主體增加預(yù)熔步驟，從而使蒸發(fā)物料的預(yù)熔和蒸發(fā)可同步進(jìn)行，提升了蒸發(fā)鍍膜效率。對位于蒸發(fā)位的蒸發(fā)源主體內(nèi)的物料量進(jìn)行監(jiān)測，得以在一個蒸發(fā)源主體內(nèi)的物料小于預(yù)設(shè)值后及時更換另一個蒸發(fā)源主體以繼續(xù)蒸發(fā)，以上設(shè)計使得真空鍍膜設(shè)備能夠在不浪費物料的前提下盡可能實現(xiàn)持續(xù)蒸發(fā)鍍膜，從而使真空鍍膜設(shè)備的無效工作時間顯著縮短，物料蒸發(fā)效率明顯提高。

技術(shù)特征：

1.蒸發(fā)裝置，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)裝置，其特征在于，所述料瓶防護(hù)殼還包括防護(hù)殼主體，所述加熱件設(shè)置于所述料瓶本體的外側(cè)壁，所述防護(hù)殼主體為管狀件，套設(shè)于所述加熱件。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸發(fā)裝置，其特征在于，所述料瓶防護(hù)殼還包括冷卻管線，所述冷卻管線設(shè)置于所述防護(hù)殼主體的內(nèi)側(cè)壁，所述冷卻管線內(nèi)可容納冷卻液。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸發(fā)裝置，其特征在于，所述蒸發(fā)裝置還包括冷卻液儲存單元(540)，所述冷卻液儲存單元(540)的排出端與所述承載盤(510)上的冷卻液入口(511)相連通，所述冷卻液儲存單元(540)的接收端與所述承載盤(510)上的冷卻液出口(512)相連通，所述冷卻液從所述冷卻液入口(511)流入所述冷卻管線，并從所述冷卻液出口(512)流出所述冷卻管線。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)裝置，其特征在于，所述蒸發(fā)裝置還包括中空旋轉(zhuǎn)軸(560)，所有的所述蒸發(fā)源主體(600)均安裝于所述承載盤(510)的上盤面，所述中空旋轉(zhuǎn)軸(560)插接于所述承載盤(510)的下盤面，所述中空旋轉(zhuǎn)軸(560)的通孔連通所述承載盤(510)的上盤面和所述承載盤(510)的下盤面，所述中空旋轉(zhuǎn)軸(560)與所述切換軸線(514)同軸，所述中空旋轉(zhuǎn)軸(560)上套設(shè)有旋轉(zhuǎn)密封件(520)，所述中空旋轉(zhuǎn)軸(560)能相對所述旋轉(zhuǎn)密封件(520)匹配轉(zhuǎn)動。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸發(fā)裝置，其特征在于，所述蒸發(fā)裝置還包括電極連接件(550)，所述電極連接件(550)設(shè)于所述中空旋轉(zhuǎn)軸(560)遠(yuǎn)離所述承載盤(510)的一端，通過電連接線纜與所述加熱件電連接，所述電連接線纜穿過所述中空旋轉(zhuǎn)軸(560)的通孔。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸發(fā)裝置，其特征在于，所述蒸發(fā)裝置還包括驅(qū)動輪(530)，所述驅(qū)動輪(530)與所述中空旋轉(zhuǎn)軸(560)傳動連接，用于帶動所述中空旋轉(zhuǎn)軸(560)繞所述切換軸線(514)旋轉(zhuǎn)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)裝置，其特征在于，所述承載盤(510)的上盤面固接有裝置定位架(513)，所述裝置定位架(513)與所述蒸發(fā)源主體(600)的數(shù)量相同，且每個所述蒸發(fā)源主體(600)均活動安裝于一個所述裝置定位架(513)上。

9.真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，包括用于對基板治具(700)進(jìn)行鍍膜的鍍膜室(210)，所述鍍膜室(210)內(nèi)設(shè)置有至少一個權(quán)利要求1-8任一項所述的蒸發(fā)裝置，多個所述工作位中的一個被定義為蒸發(fā)位，其余的所述工作位被定義為預(yù)熔位，所述鍍膜室(210)內(nèi)還安裝有預(yù)熔擋板(121)和鍍膜擋板(122)，且所述預(yù)熔擋板(121)用于遮擋位于所述預(yù)熔位的所述蒸發(fā)源主體(600)的料瓶本體的開口，所述鍍膜擋板(122)用于遮擋位于所述蒸發(fā)位的所述蒸發(fā)源主體(600)的所述料瓶本體的開口。

10.真空鍍膜方法，其特征在于，應(yīng)用于權(quán)利要求9所述的真空鍍膜設(shè)備，包括以下步驟：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了蒸發(fā)裝置、真空鍍膜設(shè)備及真空鍍膜方法。該裝置包括設(shè)有多個工作位的承載盤和蒸發(fā)源主體；承載盤能夠繞切換軸線旋轉(zhuǎn)，多個工作位繞切換軸線周向分布；蒸發(fā)源主體安裝于承載盤，每個蒸發(fā)源主體均位于一個工作位，承載盤能帶動每個蒸發(fā)源主體移動至任一工作位；蒸發(fā)源主體設(shè)有用于容納物料的料瓶本體以及套設(shè)于料瓶本體的料瓶防護(hù)殼，料瓶防護(hù)殼包括加熱件，加熱件能將料瓶本體內(nèi)的物料加熱至預(yù)熔溫度或蒸發(fā)溫度。該裝置通過將物料加熱至預(yù)熔溫度或蒸發(fā)溫度的設(shè)計，得以對等待蒸發(fā)的物料進(jìn)行預(yù)熔加熱，以上改進(jìn)有助于加快物料的蒸發(fā)速度，改進(jìn)成膜效果，提高鍍膜效率。

技術(shù)研發(fā)人員：黃永長,龍汝磊,吳萍
受保護(hù)的技術(shù)使用者：光馳科技（上海）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/30