本發(fā)明涉及噴涂，特別涉及一種物理氣相沉積pvd設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、物理氣相沉積是指利用物理過(guò)程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過(guò)程，它的作用是可以使某些有特殊性能(強(qiáng)度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。

2、在鐵、鈷、鎳及其合金制成的部件或零件上進(jìn)行涂層處理能夠有效地提升其整體強(qiáng)度，同時(shí)使得其耐磨性和防腐蝕性得到提升，提高其實(shí)際使用效果。在傳統(tǒng)的真空鍍膜過(guò)程中，當(dāng)對(duì)此類待涂工件進(jìn)行鍍膜涂層處理之前，通常需要將其進(jìn)行夾持或者固定放置，因此在對(duì)此類待涂工件進(jìn)行定向涂層處理時(shí)，夾持裝置夾持待涂件的部分容易形成處理死角，影響實(shí)際的涂層處理的效率，需要對(duì)材料進(jìn)行不斷調(diào)整，影響實(shí)際的加工效率以及涂層處理效果。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的主要目的是提供一種物理氣相沉積pvd設(shè)備，旨在解決現(xiàn)有物理氣相沉積pvd設(shè)備中對(duì)待涂件進(jìn)行夾持時(shí)容易形成處理死角的問(wèn)題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提出的物理氣相沉積pvd設(shè)備，包括：

3、真空鍍膜腔室；

4、發(fā)射源，設(shè)于所述真空鍍膜腔室內(nèi)，所述發(fā)射源用于對(duì)膜原料進(jìn)行處理并對(duì)待涂工件進(jìn)行噴涂；以及

5、電磁鐵組件，可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)于所述真空鍍膜腔室內(nèi)，所述電磁鐵組件用于將待涂工件懸浮于所述真空鍍膜腔室內(nèi)，且可帶動(dòng)待涂工件懸浮轉(zhuǎn)動(dòng)。

6、在一實(shí)施例中，所述電磁鐵組件包括至少兩相對(duì)設(shè)置的固定桿以及套設(shè)于所述固定桿外周的電磁線圈，至少兩所述固定桿可沿同一圓周路徑同步轉(zhuǎn)動(dòng)。

7、在一實(shí)施例中，所述的物理氣相沉積pvd設(shè)備還包括電流送變器，所述電流送變器與各所述固定桿上的電磁線圈電連接，所述電流送變器用于分別調(diào)節(jié)各所述固定桿上的電磁線圈的通電電流大小。

8、在一實(shí)施例中，所述固定桿包括桿主體以及設(shè)于所述桿主體上下兩端的限位板，所述電磁線圈繞設(shè)于所述桿主體外周，且限位于兩所述限位板之間。

9、在一實(shí)施例中，所述物理氣相沉積pvd設(shè)備還包括設(shè)于所述真空鍍膜腔室內(nèi)的放置臺(tái)以及驅(qū)動(dòng)連接所述放置臺(tái)的驅(qū)動(dòng)電機(jī)，至少兩所述固定桿設(shè)于所述放置臺(tái)上，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)用于帶動(dòng)所述放置臺(tái)做周向轉(zhuǎn)動(dòng)，以帶動(dòng)至少兩所述固定桿同步周向轉(zhuǎn)動(dòng)。

10、在一實(shí)施例中，所述放置臺(tái)水平設(shè)置，至少兩所述固定桿立設(shè)于所述放置臺(tái)上，至少兩所述固定桿及所述放置臺(tái)繞豎直設(shè)置的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線周向轉(zhuǎn)動(dòng)。

11、在一實(shí)施例中，所述放置臺(tái)包括固定柱以及套設(shè)于所述固定柱外周的從動(dòng)輪，兩所述固定桿設(shè)于所述從動(dòng)輪上，所述真空鍍膜腔室內(nèi)壁底部轉(zhuǎn)動(dòng)連接有主動(dòng)輪，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的驅(qū)動(dòng)軸連接所述主動(dòng)輪的轉(zhuǎn)軸，所述主動(dòng)輪與從動(dòng)輪傳動(dòng)連接。

12、在一實(shí)施例中，所述主動(dòng)輪的外徑小于從動(dòng)輪的外徑。

13、在一實(shí)施例中，至少兩所述固定桿位于所述固定柱的同一徑向上，且分別位于所述固定柱的相對(duì)兩側(cè)。

14、在一實(shí)施例中，所述固定柱外周面上設(shè)有安裝槽，所述從動(dòng)輪套設(shè)于所述安裝槽內(nèi)，所述從動(dòng)輪內(nèi)周面和安裝槽內(nèi)壁之間安裝有滾珠。

15、在一實(shí)施例中，所述物理氣相沉積pvd設(shè)備還包括設(shè)于所述真空鍍膜腔室下方的底板，所述底板上設(shè)有用于支撐所述真空鍍膜腔室的支撐柱，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)安裝于所述底板上，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的驅(qū)動(dòng)軸貫穿伸入所述真空鍍膜腔室內(nèi)且與所述主動(dòng)輪的轉(zhuǎn)軸連接。

16、本發(fā)明技術(shù)方案通過(guò)在所述真空鍍膜腔室內(nèi)設(shè)置電磁鐵組件，使得放置于所述真空鍍膜腔室內(nèi)的由鐵、鈷、鎳或其合金制成的待涂工件在所述電磁鐵組件的作用下可以處于懸浮狀態(tài)。當(dāng)待涂工件受到的磁吸附力平衡且穩(wěn)定時(shí)，即相當(dāng)于待涂工件被夾持固定；由于沒(méi)有通過(guò)夾持裝置直接對(duì)待涂工件進(jìn)行夾持，且所述電磁組件在所述真空鍍膜腔室內(nèi)可轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置，使得所述，待涂工件處于懸浮狀態(tài)下也可以隨著所述電磁鐵組件轉(zhuǎn)動(dòng)，待涂工件也就不會(huì)因此形成處理死角。再在所述空鍍膜腔室內(nèi)設(shè)置用于對(duì)膜原料進(jìn)行處理并對(duì)待涂工件進(jìn)行噴涂的發(fā)射源，即可實(shí)現(xiàn)對(duì)待涂工件的充分噴涂鍍膜。

技術(shù)特征：

1.一種物理氣相沉積pvd設(shè)備，其特征在于，包括：

2.如權(quán)利要求1所述的物理氣相沉積pvd設(shè)備，其特征在于，所述電磁鐵組件包括至少兩相對(duì)設(shè)置的固定桿以及套設(shè)于所述固定桿外周的電磁線圈，至少兩所述固定桿可沿同一圓周路徑同步轉(zhuǎn)動(dòng)。

3.如權(quán)利要求2所述的物理氣相沉積pvd設(shè)備，其特征在于，所述物理氣相沉積pvd設(shè)備還包括電流送變器，所述電流送變器與各所述固定桿上的電磁線圈電連接，所述電流送變器用于調(diào)節(jié)各所述固定桿上的電磁線圈的通電電流大小。

4.如權(quán)利要求2所述的物理氣相沉積pvd設(shè)備，其特征在于，所述固定桿包括桿主體以及設(shè)于所述桿主體長(zhǎng)度方向上的兩端的限位板，所述電磁線圈繞設(shè)于所述桿主體外周，且限位于兩所述限位板之間。

5.如權(quán)利要求2所述的物理氣相沉積pvd設(shè)備，其特征在于，所述物理氣相沉積pvd設(shè)備還包括設(shè)于所述真空鍍膜腔室內(nèi)的放置臺(tái)以及驅(qū)動(dòng)連接所述放置臺(tái)的驅(qū)動(dòng)電機(jī)，至少兩所述固定桿設(shè)于所述放置臺(tái)上，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)用于帶動(dòng)所述放置臺(tái)周向轉(zhuǎn)動(dòng)，以帶動(dòng)至少兩所述固定桿同步周向轉(zhuǎn)動(dòng)。

6.如權(quán)利要求5所述的物理氣相沉積pvd設(shè)備，其特征在于，所述放置臺(tái)水平設(shè)置，至少兩所述固定桿立設(shè)于所述放置臺(tái)上，至少兩所述固定桿及所述放置臺(tái)繞豎直設(shè)置的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線周向轉(zhuǎn)動(dòng)。

7.如權(quán)利要求5所述的物理氣相沉積pvd設(shè)備，其特征在于，所述放置臺(tái)包括固定柱以及套設(shè)于所述固定柱外周的從動(dòng)輪，兩所述固定桿設(shè)于所述從動(dòng)輪上，所述真空鍍膜腔室內(nèi)設(shè)有可轉(zhuǎn)動(dòng)的主動(dòng)輪，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的驅(qū)動(dòng)軸連接所述主動(dòng)輪的轉(zhuǎn)軸，所述主動(dòng)輪與從動(dòng)輪傳動(dòng)連接。

8.如權(quán)利要求7所述的物理氣相沉積pvd設(shè)備，其特征在于，所述主動(dòng)輪的外徑小于從動(dòng)輪的外徑。

9.如權(quán)利要求7所述的物理氣相沉積pvd設(shè)備，其特征在于，至少兩所述固定桿位于所述固定柱的同一徑向上，且分別位于所述固定柱的相對(duì)兩側(cè)。

10.如權(quán)利要求7所述的物理氣相沉積pvd設(shè)備，其特征在于，所述固定柱外周面上設(shè)有安裝槽，所述從動(dòng)輪套設(shè)于所述安裝槽內(nèi)，所述從動(dòng)輪內(nèi)周面和安裝槽內(nèi)壁之間安裝有滾珠。

11.如權(quán)利要求7所述的物理氣相沉積pvd設(shè)備，其特征在于，所述物理氣相沉積pvd設(shè)備還包括設(shè)于所述真空鍍膜腔室下方的底板，所述底板上設(shè)有用于支撐所述真空鍍膜腔室的支撐柱，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)安裝于所述底板上，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的驅(qū)動(dòng)軸貫穿伸入所述真空鍍膜腔室內(nèi)且與所述主動(dòng)輪的轉(zhuǎn)軸連接。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)一種物理氣相沉積PVD設(shè)備，涉及噴涂技術(shù)領(lǐng)域。所述物理氣相沉積PVD設(shè)備包括真空鍍膜腔室、發(fā)射源以及電磁鐵組件；所述發(fā)射源設(shè)于所述真空鍍膜腔室內(nèi)，所述發(fā)射源用于對(duì)膜原料進(jìn)行處理并對(duì)待涂工件進(jìn)行噴涂；所述電磁鐵組件設(shè)于所述真空鍍膜腔室內(nèi)，所述電磁鐵組件可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)于所述真空鍍膜腔室內(nèi)，所述電磁鐵組件用于將待涂工件懸浮于所述真空鍍膜腔室內(nèi)，且可帶動(dòng)待涂工件懸浮轉(zhuǎn)動(dòng)。本發(fā)明技術(shù)方案可解決現(xiàn)有物理氣相沉積PVD設(shè)備中對(duì)待涂件進(jìn)行夾持時(shí)容易形成處理死角的問(wèn)題。

技術(shù)研發(fā)人員：王磊,付濤,洪方,趙虎,邱陽(yáng),岑金良
受保護(hù)的技術(shù)使用者：美的集團(tuán)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/9