本發(fā)明涉及成膜裝置及吸附方法。

背景技術(shù)：

1、近年來，有機(jī)el顯示裝置等的面板被廣泛使用，不僅在智能手機(jī)，在大型電視機(jī)等的大型面板中應(yīng)用領(lǐng)域也在擴(kuò)大。隨著這樣的基板的大型化，在使蒸發(fā)材料附著于基板而制造面板的成膜裝置中，為了穩(wěn)定地支承基板，開始利用吸附基板的吸附構(gòu)件。

2、例如在專利文獻(xiàn)1中，作為用于降低伴隨基板的大型化的自重引起的撓曲的方法，公開了在基板的上部配置靜電卡盤，對(duì)靜電卡盤施加電壓，利用靜電引力吸附基板的上表面，從而降低基板的撓曲。

3、在先技術(shù)文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)

5、專利文獻(xiàn)1：日本特開2019-099910號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的課題

2、在基板進(jìn)一步大尺寸化的情況下，在將基板吸附于吸附構(gòu)件之前的、基板載置在支承部的階段基板的撓曲變大，吸附構(gòu)件對(duì)基板的穩(wěn)定吸附變得困難，或者即使能夠吸附基板，之后也會(huì)剝離。因此，要求能夠用吸附構(gòu)件穩(wěn)定地吸附大型的基板，之后不產(chǎn)生基板的剝離或落下。

3、本發(fā)明是鑒于上述課題而完成的，其目的在于提供一種用于利用吸附構(gòu)件以穩(wěn)定的狀態(tài)吸附基板并且穩(wěn)定地維持吸附的狀態(tài)的技術(shù)。

4、用于解決課題的方案

5、本發(fā)明采用以下的結(jié)構(gòu)。即，

6、一種成膜裝置，是使成膜材料附著在基板上進(jìn)行成膜的成膜裝置，其特征在于，

7、所述成膜裝置具備：

8、多個(gè)支承構(gòu)件，支承所述基板中進(jìn)行成膜的第一面的周緣部；

9、多個(gè)抵接構(gòu)件，分別與所述多個(gè)支承構(gòu)件相向，且同所述基板的與所述第一面相反的第二面抵接；

10、上推構(gòu)件，在所述基板的所述第一面被所述多個(gè)支承構(gòu)件支承且所述多個(gè)抵接構(gòu)件與所述第二面抵接的狀態(tài)下，將所述基板的所述第一面中的比所述周緣部靠內(nèi)側(cè)的區(qū)域上推；以及

11、吸附構(gòu)件，在所述基板的所述內(nèi)側(cè)的區(qū)域被上推的狀態(tài)下，吸附所述基板的所述第二面。

12、本發(fā)明還采用以下的結(jié)構(gòu)。即

13、一種吸附方法，是在使成膜材料附著在基板上進(jìn)行成膜的成膜裝置中吸附并保持所述基板的吸附方法，其特征在于，

14、所述吸附方法具有以下的工序：

15、利用多個(gè)支承構(gòu)件支承所述基板中進(jìn)行成膜的第一面的周緣部的工序；

16、使分別與所述多個(gè)支承構(gòu)件相向的多個(gè)抵接構(gòu)件同所述基板的與所述第一面相反的第二面抵接的工序；

17、利用上推構(gòu)件將所述基板的所述第一面中的比所述周緣部靠內(nèi)側(cè)的區(qū)域上推的工序；以及

18、利用吸附構(gòu)件吸附所述基板的所述第二面的工序。

19、發(fā)明的效果

20、根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種用于利用吸附構(gòu)件以穩(wěn)定的狀態(tài)吸附基板并且穩(wěn)定地維持吸附的狀態(tài)的技術(shù)。

技術(shù)特征：

1.一種成膜裝置，是使成膜材料附著在基板上進(jìn)行成膜的成膜裝置，其特征在于，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成膜裝置，其特征在于，

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的成膜裝置，其特征在于，

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的成膜裝置，其特征在于，

7.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的成膜裝置，其特征在于，

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的成膜裝置，其特征在于，

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的成膜裝置，其特征在于，

10.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的成膜裝置，其特征在于，

11.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的成膜裝置，其特征在于，

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的成膜裝置，其特征在于，

13.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的成膜裝置，其特征在于，

14.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的成膜裝置，其特征在于，

15.一種吸附方法，是在使成膜材料附著在基板上進(jìn)行成膜的成膜裝置中吸附并保持所述基板的吸附方法，其特征在于，

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供用于通過吸附構(gòu)件以穩(wěn)定的狀態(tài)吸附基板并且穩(wěn)定地維持吸附的狀態(tài)的成膜裝置及吸附方法。使用成膜裝置，其是使成膜材料附著在基板上進(jìn)行成膜的成膜裝置，其特征在于，所述成膜裝置具備：多個(gè)支承構(gòu)件，支承基板中進(jìn)行成膜的第一面的周緣部；多個(gè)抵接構(gòu)件，分別與多個(gè)支承構(gòu)件相向，且同基板的與第一面相反的第二面抵接；上推構(gòu)件，在基板的第一面被多個(gè)支承構(gòu)件支承且多個(gè)抵接構(gòu)件與第二面抵接的狀態(tài)下，將基板的第一面中的比周緣部靠內(nèi)側(cè)的區(qū)域上推；以及吸附構(gòu)件，在基板的內(nèi)側(cè)的區(qū)域被上推的狀態(tài)下，吸附基板的第二面。

技術(shù)研發(fā)人員：石井博
受保護(hù)的技術(shù)使用者：佳能特機(jī)株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/9