本公開(kāi)內(nèi)容的實(shí)施方式涉及用于運(yùn)輸載體(特別是用于承載大面積基板的載體)的系統(tǒng)和方法。更具體地，本公開(kāi)內(nèi)容的實(shí)施方式涉及用于特別是在真空腔室中懸浮和運(yùn)輸載體的磁懸浮系統(tǒng)。特別地，本公開(kāi)內(nèi)容的實(shí)施方式涉及用于運(yùn)輸載體的磁懸浮系統(tǒng)、磁懸浮系統(tǒng)的載體、磁懸浮系統(tǒng)的基座以及懸浮載體的方法。

背景技術(shù)：

1、用于在基板上進(jìn)行層沉積的技術(shù)包括例如濺射沉積、物理氣相沉積(pvd)、化學(xué)氣相沉積(cvd)和熱蒸發(fā)。經(jīng)涂覆的基板可用于若干應(yīng)用和若干技術(shù)領(lǐng)域中。例如，經(jīng)涂覆的基板可用于顯示裝置的領(lǐng)域中。顯示裝置可用于制造電視機(jī)屏幕、計(jì)算機(jī)顯示器、移動(dòng)電話、其他手持裝置等來(lái)顯示信息。典型地，通過(guò)用不同材料的層堆疊涂覆基板來(lái)生產(chǎn)顯示器。

2、基板典型地在可包括多個(gè)沉積源和其他基板處理設(shè)備的真空沉積系統(tǒng)中被涂覆?；宓湫偷匮剡\(yùn)輸軌道被運(yùn)輸通過(guò)真空沉積系統(tǒng)，例如從第一沉積源到第二沉積源和到其他基板處理設(shè)備。基板可以以基本上豎直取向被運(yùn)輸通過(guò)處理系統(tǒng)。

3、典型地，由載體、即用于承載基板的承載裝置來(lái)承載基板。典型地，使用載體運(yùn)輸系統(tǒng)(例如，其中載體的重量由磁力保持的磁懸浮系統(tǒng))運(yùn)輸載體通過(guò)真空系統(tǒng)。載體運(yùn)輸系統(tǒng)可被構(gòu)造用于沿限定運(yùn)輸軌道的基座結(jié)構(gòu)來(lái)運(yùn)送承載基板的載體。

4、準(zhǔn)確地且平穩(wěn)地運(yùn)輸載體通過(guò)真空系統(tǒng)是有挑戰(zhàn)性的。例如，由于在移動(dòng)部分之間的摩擦而引起的顆粒產(chǎn)生可導(dǎo)致制造工藝的劣化。利用磁懸浮系統(tǒng)運(yùn)輸載體可減少顆粒產(chǎn)生，因?yàn)樵谝苿?dòng)部分之間的機(jī)械接觸被減少。例如，磁懸浮系統(tǒng)可包括具有多個(gè)主動(dòng)受控的磁軸承的基座，這些主動(dòng)受控的磁軸承產(chǎn)生磁懸浮力來(lái)以非接觸或基本上非接觸的方式將載體保持在基座處。然而，由于公差需求隨要運(yùn)輸?shù)奈矬w的大小而增加，利用磁懸浮系統(tǒng)運(yùn)輸具有幾平方米的大小的大面積載體是困難的。

5、因此，提供服了現(xiàn)有技術(shù)的至少一些問(wèn)題的用于在真空系統(tǒng)中懸浮和運(yùn)輸載體的改善的磁懸浮系統(tǒng)以及在真空系統(tǒng)中懸浮載體的改善的方法將是有益的。具體地，提供用于運(yùn)輸承載大面積基板的載體的磁懸浮系統(tǒng)將是有益的。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、鑒于上文，提供了用于運(yùn)輸載體的磁懸浮系統(tǒng)、磁懸浮系統(tǒng)的載體、磁懸浮系統(tǒng)的基座以及懸浮載體的方法。另外的方面、優(yōu)點(diǎn)和特征從從屬權(quán)利要求、說(shuō)明書(shū)和附圖中是顯而易見(jiàn)的。

2、根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的一個(gè)方面，提供了一種用于運(yùn)輸載體的磁懸浮系統(tǒng)。所述磁懸浮系統(tǒng)包括：限定運(yùn)輸軌道的；沿所述運(yùn)輸軌道可移動(dòng)的載體；和設(shè)置在所述基座處并且被構(gòu)造為面向所述載體的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)的多個(gè)主動(dòng)磁軸承。所述載體的所述導(dǎo)向結(jié)構(gòu)包括第一導(dǎo)向區(qū)、第二導(dǎo)向區(qū)和在所述載體的運(yùn)輸方向上布置在所述第一導(dǎo)向區(qū)與所述第二導(dǎo)向區(qū)之間的凹陷區(qū)。所述第一導(dǎo)向區(qū)和所述第二導(dǎo)向區(qū)被構(gòu)造為與所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承相互作用，并且所述凹陷區(qū)相對(duì)于所述第一導(dǎo)向區(qū)和所述第二導(dǎo)向區(qū)凹陷。

3、根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的一個(gè)方面，提供了一種磁懸浮系統(tǒng)的載體，所述載體沿由基座限定的運(yùn)輸軌道是可移動(dòng)的。所述載體包括：導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，所述導(dǎo)向結(jié)構(gòu)包括第一導(dǎo)向區(qū)和第二導(dǎo)向區(qū)、以及凹陷區(qū)，所述第一導(dǎo)向區(qū)和所述第二導(dǎo)向區(qū)被構(gòu)造為與布置在所述基座處的多個(gè)主動(dòng)磁軸承相互磁性地作用，所述凹陷區(qū)在所述載體的運(yùn)輸方向上布置在所述第一導(dǎo)向區(qū)與所述第二導(dǎo)向區(qū)之間，并且所述凹陷區(qū)相對(duì)于所述第一導(dǎo)向區(qū)和所述第二導(dǎo)向區(qū)凹陷。

4、根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的一個(gè)方面，提供了一種磁懸浮系統(tǒng)的基座，所述基座限定載體的運(yùn)輸軌道。所述基座包括：用于產(chǎn)生懸浮力來(lái)保持所述載體的多個(gè)主動(dòng)磁軸承；和用于根據(jù)沿所述運(yùn)輸軌道的載體位置單獨(dú)地控制所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承的一個(gè)或多個(gè)控制器。所述一個(gè)或多個(gè)控制器被構(gòu)造為主動(dòng)控制所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承的、面向所述載體的第一導(dǎo)向區(qū)和第二導(dǎo)向區(qū)中的一者的第一子集，并且不主動(dòng)地控制所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承的、面向布置在所述第一導(dǎo)向區(qū)與所述第二導(dǎo)向區(qū)之間的所述載體的凹陷區(qū)的第二子集。

5、換句話說(shuō)，所述一個(gè)或多個(gè)控制器可被構(gòu)造為主動(dòng)控制所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承的面向載體的兩個(gè)遠(yuǎn)側(cè)區(qū)的第一子集，并且不主動(dòng)地控制所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承的面向所述載體的布置在所述兩個(gè)遠(yuǎn)側(cè)區(qū)之間的凹陷區(qū)的第二子集。

6、根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的另一方面，提供了一種懸浮載體的方法，所述載體包括第一導(dǎo)向區(qū)、第二導(dǎo)向區(qū)、和在所述載體的運(yùn)輸方向上位于所述第一導(dǎo)向區(qū)與所述第二導(dǎo)向區(qū)之間的凹陷區(qū)。所述方法包括控制多個(gè)主動(dòng)磁軸承來(lái)相對(duì)于基座而懸浮所述載體，其中所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承的面向所述第一導(dǎo)向區(qū)和所述第二導(dǎo)向區(qū)中的一者的第一子集被主動(dòng)控制、或被打開(kāi)，并且所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承的面向所述凹陷區(qū)的第二子集不被主動(dòng)控制、或被關(guān)閉。

7、所述載體可以是用于承載大面積基板，特別是具有1m2或更大、特別是5m2或更大、更特別是10m2或更大的大小的基板的載體。由所述載體承載的所述基板可以是用于顯示器制造的大面積基板。所述載體可經(jīng)構(gòu)造以用于以基本上豎直取向來(lái)承載所述基板。

8、所述磁懸浮系統(tǒng)可經(jīng)構(gòu)造以用于運(yùn)輸所述載體通過(guò)具有沉積源的真空沉積系統(tǒng)來(lái)在由所述載體承載的所述基板上沉積層堆疊。

9、所述磁懸浮系統(tǒng)可經(jīng)構(gòu)造以用于非接觸地或基本上非接觸地運(yùn)輸所述載體，使得可減少或避免因摩擦力而引起的顆粒產(chǎn)生。

10、實(shí)施方式還涉及了用于執(zhí)行所公開(kāi)的方法的設(shè)備并且包括用于執(zhí)行每個(gè)描述的方法方面的設(shè)備部分。這些方法方面可借助于硬件部件、由適當(dāng)軟件編程的計(jì)算機(jī)、這兩者的任何組合或以任何其他方式執(zhí)行。此外，根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的實(shí)施方式還涉及了用于操作所描述的設(shè)備的方法。用于操作所描述的設(shè)備的方法包括用于執(zhí)行該設(shè)備的每個(gè)功能的方法方面。

技術(shù)特征：

1.一種用于運(yùn)輸載體的磁懸浮系統(tǒng)(100)，包括：

2.如權(quán)利要求1所述的磁懸浮系統(tǒng)，

3.如權(quán)利要求2所述的磁懸浮系統(tǒng)，其中所述第一距離為2mm或更小，并且其中所述第二距離為3mm或更大。

4.如權(quán)利要求2所述的磁懸浮系統(tǒng)，其中所述第一距離為1.5mm，并且其中所述第二距離為5mm。

5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的磁懸浮系統(tǒng)，其中所述載體(10)具有上載體表面、構(gòu)成所述第一導(dǎo)向區(qū)(13)的所述上載體表面在所述運(yùn)輸方向(t)上的前部分、和構(gòu)成所述第二導(dǎo)向區(qū)(14)的所述上載體表面在所述運(yùn)輸方向(t)上的后部分。

6.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的磁懸浮系統(tǒng)，其中所述第一導(dǎo)向區(qū)(13)和所述第二導(dǎo)向區(qū)(14)具有在所述運(yùn)輸方向上的30cm或更大的尺寸。

7.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的磁懸浮系統(tǒng)，其中所述凹陷區(qū)(15)具有在所述運(yùn)輸方向上的2m或更大的尺寸。

8.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的磁懸浮系統(tǒng)，進(jìn)一步包括一個(gè)或多個(gè)控制器(50)，所述一個(gè)或多個(gè)控制器(50)用于根據(jù)沿所述運(yùn)輸軌道的載體位置單獨(dú)地控制所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承(30)。

9.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的磁懸浮系統(tǒng)，其中一個(gè)或多個(gè)控制器(50)被構(gòu)造為當(dāng)所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承(30)中的至少一個(gè)磁軸承(31)面向所述第一導(dǎo)向區(qū)(13)和所述第二導(dǎo)向區(qū)(14)中的一者時(shí)主動(dòng)控制所述至少一個(gè)磁軸承(31)，和/或其中所述一個(gè)或多個(gè)控制器(50)被構(gòu)造為當(dāng)所述至少一個(gè)磁軸承(31)面向所述凹陷區(qū)(15)時(shí)關(guān)閉所述至少一個(gè)磁軸承(31)的所述主動(dòng)控制。

10.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的磁懸浮系統(tǒng)，進(jìn)一步包括線性馬達(dá)(60)，所述線性馬達(dá)(60)用于沿所述運(yùn)輸軌道移動(dòng)所述載體(10)，其中所述線性馬達(dá)(60)被構(gòu)造為確定沿所述運(yùn)輸軌道的載體位置并將所述載體位置發(fā)送到所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承(30)的一個(gè)或多個(gè)控制器(50)。

11.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的磁懸浮系統(tǒng)，其中被構(gòu)造為促成載體懸浮力的多個(gè)永磁體(18)設(shè)置在所述凹陷區(qū)(15)處。

12.如權(quán)利要求11所述的磁懸浮系統(tǒng)，其中所述多個(gè)永磁體(18)以與所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承(30)的磁材料部件(19)之間的距離對(duì)應(yīng)的距離布置為兩條平行跡線。

13.一種磁懸浮系統(tǒng)的載體(10)，所述載體沿由基座(20)限定的運(yùn)輸軌道是可移動(dòng)的，所述載體包括：

14.一種懸浮載體(10)的方法，所述載體包括第一導(dǎo)向區(qū)(13)、第二導(dǎo)向區(qū)(14)和在所述載體的運(yùn)輸方向(t)上位于所述第一導(dǎo)向區(qū)(13)與所述第二導(dǎo)向區(qū)(14)之間的凹陷區(qū)(15)，其中所述凹陷區(qū)(15)具有在所述運(yùn)輸方向上的1m或更大尺寸，所述方法包括：

15.如權(quán)利要求14所述的方法，其中所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承的、面向所述第一導(dǎo)向區(qū)(13)和所述第二導(dǎo)向區(qū)(14)中的一者的第一子集被主動(dòng)地控制、或被打開(kāi)，并且所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承的、面向所述凹陷區(qū)(15)的第二子集不被主動(dòng)地控制、或關(guān)閉。

16.如權(quán)利要求15所述的方法，進(jìn)一步包括：

17.如權(quán)利要求15或16所述的方法，其中懸浮所述載體的懸浮力的第一部分作用在所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承的所述第一子集與所述第一導(dǎo)向區(qū)和所述第二導(dǎo)向區(qū)之間，并且所述懸浮力的第二部分作用在所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承的所述第二子集與設(shè)置在所述凹陷區(qū)(15)處的多個(gè)永磁體(18)之間。

18.如權(quán)利要求17所述的方法，其中所述懸浮力的所述第一部分被主動(dòng)地控制以在所述第一子集與所述第一導(dǎo)向區(qū)和所述第二導(dǎo)向區(qū)之間維持恒定距離。

19.如權(quán)利要求17所述的方法，其中所述懸浮力的所述第二部分由被動(dòng)單元產(chǎn)生。

20.如權(quán)利要求14或15所述的方法，其中所述載體在運(yùn)輸期間具有基本上豎直的取向。

技術(shù)總結(jié)
描述了一種用于運(yùn)輸載體(10)的磁懸浮系統(tǒng)(100)。所述磁懸浮系統(tǒng)包括：限定運(yùn)輸軌道的基座(20)；沿所述運(yùn)輸軌道相對(duì)于所述基座(20)可移動(dòng)的載體(10)；和設(shè)置在所述基座(20)處并且被構(gòu)造為面向所述載體的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)(12)的多個(gè)主動(dòng)磁軸承(30)。所述導(dǎo)向結(jié)構(gòu)(12)包括被構(gòu)造為與所述多個(gè)主動(dòng)磁軸承(30)相互作用的第一導(dǎo)向區(qū)(13)和第二導(dǎo)向區(qū)(14)，以及凹陷區(qū)(15)。所述凹陷區(qū)(15)在所述載體的運(yùn)輸方向(T)上布置在所述第一導(dǎo)向區(qū)(13)與所述第二導(dǎo)向區(qū)(14)之間并且相對(duì)于所述第一導(dǎo)向區(qū)(13)和所述第二導(dǎo)向區(qū)(14)凹陷。

技術(shù)研發(fā)人員：亨寧·奧斯特,蒂莫·艾德勒,克萊門(mén)斯·皮漢
受保護(hù)的技術(shù)使用者：應(yīng)用材料公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/2