本發(fā)明涉及真空鍍膜領(lǐng)域,具體涉及一種密封圈鍍膜工裝、鍍膜機(jī)以及鍍膜方法。
背景技術(shù):
1、類金剛石鍍膜技術(shù)可以降低密封圈表面的摩擦系數(shù)、減少與金屬配副粘滯阻力、提升密封圈的使用壽命,因而在機(jī)械密封領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。對于真空鍍膜機(jī)而言,真空室的內(nèi)部空間尺寸是固定的。在每一次鍍膜時(shí)間和成本不變的情況下,單次加工的密封圈數(shù)量越多,鍍膜成本越低,加工效率越高。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、發(fā)明人發(fā)現(xiàn),現(xiàn)有技術(shù)中至少存在下述問題:相關(guān)技術(shù)中,為了降低密封圈的鍍膜成本,提高真空鍍膜機(jī)的單次裝爐量,采取彎折密封圈的方式來減少密封圈占據(jù)的空間體積。然而,這種方式只能適用于丁腈橡膠、三元乙丙橡膠等硬度降低、彈性較強(qiáng)的密封圈,并且只能對密封圈外壁鍍膜。對于硬度較大的油封類密封件,難以彎折,強(qiáng)行彎折容易損傷密封圈,現(xiàn)有技術(shù)無法對這類密封圈的內(nèi)壁鍍膜。
2、本發(fā)明提出一種密封圈鍍膜工裝,用以實(shí)現(xiàn)對密封圈內(nèi)壁的鍍膜。
3、本發(fā)明實(shí)施例提供一種密封圈鍍膜工裝,包括:
4、支撐桿,被構(gòu)造為可回轉(zhuǎn)的;
5、支撐座,包括第一通孔;所述支撐桿穿過所述第一通孔,并且所述支撐座可升降地安裝于所述支撐桿;
6、夾持部,包括支撐架和多個(gè)伸縮臂;所述支撐架包括本體以及多個(gè)伸出端;所述本體包括第二通孔,多個(gè)所述伸出端分散安裝在所述本體的外周;所述支撐桿穿過所述第二通孔,所述支撐架可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于所述支撐座;所述伸縮臂與所述伸出端一一對應(yīng)地布置;所述伸縮臂的一端安裝于所述伸出端,且所述伸縮臂相對于所述伸出端的安裝位置可調(diào)節(jié);所述伸縮臂的另一端設(shè)置有凸起部;所有的所述伸縮臂的凸起部共同卡住密封圈的外壁。
7、在一些實(shí)施例中,所述支撐桿穿過所述第一通孔的中心;和/或,所述支撐桿穿過所述第二通孔的中心。
8、在一些實(shí)施例中,所述支撐座包括:
9、座體,設(shè)置有所述第一通孔;以及
10、兩個(gè)成對布置的耳板,各個(gè)所述耳板均與所述座體固定連接;所述支撐架的本體可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于所述耳板。
11、在一些實(shí)施例中,各個(gè)所述耳板位于所述本體的第二通孔中,所述第二通孔的內(nèi)壁與各個(gè)所述耳板的外壁接觸,且可轉(zhuǎn)動(dòng)連接。
12、在一些實(shí)施例中,兩個(gè)所述耳板各自設(shè)置有第三通孔,兩個(gè)所述第三通孔的中軸線重合。
13、在一些實(shí)施例中,至少一個(gè)所述伸出端被構(gòu)造為長條狀的,至少一個(gè)所述伸出端遠(yuǎn)離所述本體的一端設(shè)置有沉槽以及與所述沉槽連通的第四通孔;所述伸縮臂的一端位于所述沉槽中;
14、所述密封圈鍍膜工裝還包括緊固件,所述緊固件穿過所述長圓孔,以將所述伸縮臂和所述伸出端連接。
15、在一些實(shí)施例中,所述長圓孔的長度大于所述緊固件的直徑,所述伸縮臂在所述沉槽中的安裝位置可調(diào)節(jié),通過調(diào)節(jié)所述緊固件在所述長圓孔中的位置來調(diào)節(jié)所述伸縮臂在所述沉槽中的安裝位置。
16、在一些實(shí)施例中,所述支撐座和所述支撐架一一對應(yīng)地設(shè)置,沿著所述支撐桿的長度方向,分散布置有多組所述支撐座和支撐架。
17、在一些實(shí)施例中,每個(gè)所述支撐架包括至少三個(gè)所述伸出端,三個(gè)所述伸出端沿著所述本體的外周均勻布置。
18、在一些實(shí)施例中,每個(gè)所述支撐架包括四個(gè)均勻分布的所述伸出端,其中相對的兩個(gè)伸出端位于同一直線上。
19、本發(fā)明實(shí)施例還提供一種鍍膜機(jī),包括本發(fā)明任一技術(shù)方案所提供的密封圈鍍膜工裝。
20、在一些實(shí)施例中,鍍膜機(jī)還包括:
21、驅(qū)動(dòng)器,所述密封圈鍍膜工裝的支撐桿安裝于所述驅(qū)動(dòng)器,以在所述驅(qū)動(dòng)器的驅(qū)動(dòng)下回轉(zhuǎn);以及
22、離子源,鄰近所述支撐桿布置;
23、真空室,所述離子源和所述密封圈鍍膜工裝均位于所述真空室內(nèi)。
24、本發(fā)明實(shí)施例還提供一種密封圈鍍膜方法,包括以下步驟:
25、在本發(fā)明任一技術(shù)方案所提供的密封圈鍍膜工裝上安裝多個(gè)密封圈,每個(gè)所述支撐架對應(yīng)安裝一個(gè)所述密封圈;
26、調(diào)節(jié)各個(gè)所述支撐架上的所述伸縮臂的位置,以卡緊所述密封圈的外壁;
27、調(diào)節(jié)所述支撐架的傾斜角度;
28、驅(qū)動(dòng)所述支撐桿回轉(zhuǎn),以帶動(dòng)位于所述支撐桿上的各個(gè)所述密封圈轉(zhuǎn)動(dòng);
29、打開離子源,對位于所述密封圈鍍膜工裝上的各個(gè)所述密封圈的內(nèi)壁鍍膜。
30、在一些實(shí)施例中,所述支撐架的傾斜角度為15°~30°。
31、在一些實(shí)施例中,鍍膜機(jī)還包括以下步驟:
32、所述支撐桿轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)定時(shí)長后,停止所述離子源和所述支撐桿;
33、取下鍍膜后的所述密封圈。
34、上述技術(shù)方案提供的密封圈鍍膜工裝,包括支撐桿、支撐座以及夾持部,夾持部用于夾住密封圈,夾持部相對于支撐座的傾斜角度可以改變。通過改變夾持部的夾持長度、夾持部相對于支撐座的傾斜角度,使得密封圈的內(nèi)壁傾斜,水平噴射的離子可以噴涂到傾斜的密封圈的內(nèi)壁上,這樣可以實(shí)現(xiàn)對多種尺寸的密封圈內(nèi)表面均勻、有效的鍍膜,同時(shí)密封圈鍍膜工裝可以是一個(gè)或多個(gè)同時(shí)進(jìn)行鍍膜操作,鍍膜效率高;此外,由于支撐桿在鍍膜過程中是一直回轉(zhuǎn)的,配合夾持部的傾斜布置,對密封圈內(nèi)壁的鍍膜更均勻。
1.一種密封圈鍍膜工裝,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封圈鍍膜工裝,其特征在于,所述支撐桿(1)穿過所述第一通孔(21)的中心,所述第一通孔(21)位于所述支撐座(2)的中心處;和/或,所述支撐桿(1)穿過所述第二通孔(315)的中心。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封圈鍍膜工裝,其特征在于,所述支撐座(2)包括:
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的密封圈鍍膜工裝,其特征在于,各個(gè)所述耳板(23)位于所述本體(311)的第二通孔(315)中,所述第二通孔(315)的內(nèi)壁與各個(gè)所述耳板(23)的外壁接觸,且可轉(zhuǎn)動(dòng)連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的密封圈鍍膜工裝,其特征在于,兩個(gè)所述耳板(23)各自設(shè)置有第三通孔(231),兩個(gè)所述第三通孔(231)的中軸線重合。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封圈鍍膜工裝,其特征在于,至少一個(gè)所述伸出端(312)被構(gòu)造為長條狀的,至少一個(gè)所述伸出端(312)遠(yuǎn)離所述本體(311)的一端設(shè)置有沉槽(313)以及與所述沉槽(313)連通的長圓孔(314);所述伸縮臂(32)的一端位于所述沉槽(313)中;
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的密封圈鍍膜工裝,其特征在于,所述長圓孔(314)的長度大于所述緊固件(4)的直徑,所述伸縮臂(32)在所述沉槽(313)中的安裝位置可調(diào)節(jié),通過調(diào)節(jié)所述緊固件(4)在所述長圓孔(314)中的位置來調(diào)節(jié)所述伸縮臂(32)在所述沉槽(313)中的安裝位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封圈鍍膜工裝,其特征在于,所述支撐座(2)和所述支撐架(31)一一對應(yīng)地設(shè)置,沿著所述支撐桿(1)的長度方向,分散布置有多組所述支撐座(2)和支撐架(31)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封圈鍍膜工裝,其特征在于,每個(gè)所述支撐架(31)包括至少三個(gè)所述伸出端(312),三個(gè)所述伸出端(312)沿著所述本體(311)的外周均勻布置。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封圈鍍膜工裝,其特征在于,每個(gè)所述支撐架(31)包括四個(gè)均勻分布的所述伸出端(312),其中相對的兩個(gè)伸出端(312)位于同一直線上。
11.一種鍍膜機(jī),其特征在于,包括權(quán)利要求1~10任一所述的密封圈鍍膜工裝。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的鍍膜機(jī),其特征在于,還包括:
13.一種密封圈鍍膜方法,其特征在于,包括以下步驟:
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的密封圈鍍膜方法,其特征在于,所述支撐架(31)的傾斜角度為15°~30°。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封圈鍍膜方法,其特征在于,還包括以下步驟: