1.一種微波等離子體化學氣相沉積設(shè)備，其包括：爐管(2)，其中，在爐管(2)內(nèi)部形成等離子腔(7)，形成的等離子腔(7)包括上短路板(14)、側(cè)壁以及下短路板(11)；所述上短路板(14)活動安裝在側(cè)壁上端，上短路板(14)中間位置處開設(shè)有開口；所述下短路板(11)活動安裝在側(cè)壁下端；其特征在于：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微波等離子體化學氣相沉積設(shè)備，其特征在于：所述激勵探頭(4)為水冷式激勵探頭，激勵探頭(4)包括縱向探頭部(41)以及橫向探頭部(42)，所述縱向探頭部(41)設(shè)置在波導(dǎo)(3)中心位置處，且縱向探頭部(41)末端延伸至等離子腔(7)內(nèi)部；所述橫向探頭部(42)呈環(huán)形且位于縱向探頭部(41)末端。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微波等離子體化學氣相沉積設(shè)備，其特征在于：所述基片冷水臺組(13)包括外冷水套(131)以及可移動地設(shè)于外冷水套(131)的內(nèi)冷水臺(133)；設(shè)置的內(nèi)冷水臺(133)至少部分位于等離子腔(7)內(nèi)部，且與橫向探頭部(42)相對布設(shè)；同時內(nèi)冷水臺(133)下部穿過下短路板(11)后的開口部伸出等離子腔(7)；另外，在外冷水套(131)內(nèi)部設(shè)有冷卻管路(132)，設(shè)置的冷卻管路(132)內(nèi)部流動有冷卻介質(zhì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微波等離子體化學氣相沉積設(shè)備，其特征在于：活動安裝在側(cè)壁上端位置處的上短路板(14)上對稱分布安裝有上螺紋桿(1)；活動安裝在側(cè)壁下端位置處的下短路板(11)上對稱分布安裝有下螺紋桿(12)；同時活動位移的下短路板(11)外側(cè)設(shè)有法蘭盤端(9)，法蘭盤端(9)下端通過法蘭管(10)安裝固定在爐管(2)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的微波等離子體化學氣相沉積設(shè)備，其特征在于：氣盤(15)底端兩側(cè)呈對稱分別接通進氣立管(16)以及暫氣立管(19)，設(shè)置的進氣立管(16)下端以及暫氣立管(19)下端均穿過等離子腔(7)內(nèi)部對稱分布的法蘭盤端(9)；同時進氣立管(16)下端設(shè)有端頭(17)，端頭(17)一端接通波紋管(18)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的微波等離子體化學氣相沉積設(shè)備，其特征在于：所述氣盤(15)內(nèi)壁下端設(shè)有托盤(21)，托盤(21)上呈環(huán)形分布安裝有擴壓管(20)，安裝的擴壓管(20)與氣盤(15)內(nèi)部接通。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的微波等離子體化學氣相沉積設(shè)備，其特征在于：所述擴壓管(20)內(nèi)部形成擴壓腔(24)，擴壓腔(24)一端開設(shè)有進氣口(22)，擴壓腔(24)另一端開設(shè)有排氣口(25)，排氣口(25)的直徑小于進氣口(22)的直徑；同時擴壓腔(24)在開設(shè)進氣口(22)的位置處活動安裝有閥片(23)。
8.一種微波等離子體化學氣相沉積設(shè)備，其包括：爐管(2)，其中，在爐管(2)內(nèi)部形成等離子腔(7)，形成的等離子腔(7)包括上短路板(14)、側(cè)壁以及下短路板(11)；所述上短路板(14)活動安裝在側(cè)壁上端，上短路板(14)中間位置處開設(shè)有開口；所述下短路板(11)活動安裝在側(cè)壁下端；其特征在于：