本發(fā)明屬于氧化鉺薄膜制備,特別涉及一種在鋼板上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法。
背景技術(shù):
1、由于氧化鉺具有高電阻率以及高的氚滲透下降因子(prf)等優(yōu)點(diǎn),氧化鉺涂層在核聚變堆包層涂層方面的應(yīng)用受到人們的重視。另外,氧化鉺涂層作為一種重要的光學(xué)和電子材料,在激光、光纖通信、顯示器等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。然而,氧化鉺涂層與金屬鋼基底之間的結(jié)合力較弱,易導(dǎo)致涂層脫落或性能下降,限制了其在某些特定領(lǐng)域的應(yīng)用。因此,如何提高氧化鉺涂層與鋼基底之間的結(jié)合力,同時(shí)保持薄膜的優(yōu)異性能,成為當(dāng)前亟待解決的問題。
2、因此,現(xiàn)有技術(shù)還有待于改進(jìn)和發(fā)展。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明的目的在于提供一種在鋼板上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,旨在解決現(xiàn)有技術(shù)制備的氧化鉺涂層與鋼基底之間的結(jié)合力較弱,易導(dǎo)致涂層脫落的問題。
2、本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
3、一種在鋼襯底上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其中,包括步驟:
4、制備鋼襯底;
5、將所述鋼襯底固定在基座上并放入磁控濺射系統(tǒng)的腔體中;
6、對(duì)所述腔體進(jìn)行抽真空,將所述鋼襯底加熱到第一預(yù)定溫度然后通入氬氣,在鋼襯底上濺射金屬er靶,從而在鋼襯底表面形成金屬er層;
7、當(dāng)金屬er層冷卻后再將表面形成有金屬er層的鋼襯底加熱到第二預(yù)定溫度并通入氧氣和氬氣流量比為1:20-40的混合氣,在所述金屬er層表面繼續(xù)濺射金屬er靶形成er2o3薄膜,然后在氮?dú)鈿夥罩羞M(jìn)行退火處理,從而在鋼襯底上制得鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜。
8、所述在鋼襯底上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其中,制備鋼襯底的步驟包括:
9、切割低活性馬氏體鋼板,得到鋼片,用砂紙對(duì)所述鋼片進(jìn)行表面打磨,再用金剛石拋光膏將所述鋼片表面進(jìn)行拋光得到鏡面鋼片;
10、采用去離子水和酒精對(duì)所述鏡面鋼片進(jìn)行超聲清洗,n2吹干后制得所述鋼襯底。
11、所述在鋼板上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其中,所述第一預(yù)定溫度為450-550℃;所述第二預(yù)定溫度為450-550℃。
12、所述在鋼板上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其中,退火處理的溫度為700-900℃,時(shí)間為1-3h。
13、所述在鋼板上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其中,對(duì)所述腔體進(jìn)行抽真空的步驟中,腔體真空抽到2.0×10-4pa-4.0×10-4pa。
14、所述在鋼板上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其中,通入氬氣后保持腔體真空度為0.6-0.8pa。
15、所述在鋼板上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其中,在鋼襯底上濺射金屬er靶的時(shí)間為20-40min。
16、所述在鋼板上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其中,在所述金屬er層表面繼續(xù)濺射金屬er靶形成er2o3薄膜的時(shí)間為40-80min。
17、有益效果:本發(fā)明采用磁控濺射技術(shù),先在鋼襯底上沉積一層er中間層,再在此基礎(chǔ)上制備er2o3復(fù)合薄膜。本發(fā)明通過磁控濺射制備薄膜,實(shí)現(xiàn)了er2o3薄膜與鋼襯底之間的高結(jié)合力,提高了薄膜的均勻性、致密性和穩(wěn)定性。本發(fā)明工藝簡(jiǎn)單、高效,適用于大規(guī)模生產(chǎn),制備的er2o3復(fù)合薄膜在光學(xué)、電子和磁性材料等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。
1.一種在鋼襯底上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,包括步驟:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述在鋼襯底上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,制備鋼襯底的步驟包括:
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述在鋼板上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,所述第一預(yù)定溫度為450-550℃;所述第二預(yù)定溫度為450-550℃。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述在鋼板上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,退火處理的溫度為700-900℃,時(shí)間為1-3h。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述在鋼板上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,對(duì)所述腔體進(jìn)行抽真空的步驟中,腔體真空抽到2.0×10-4pa-4.0×10-4pa。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述在鋼板上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,通入氬氣后保持腔體真空度為0.6-0.8pa。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述在鋼板上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,在鋼襯底上濺射金屬er靶的時(shí)間為20-40min。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述在鋼板上制備鉺/氧化鉺復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,在所述金屬er層表面繼續(xù)濺射金屬er靶形成er2o3薄膜的時(shí)間為40-80min。