本發(fā)明的實施例涉及一種真空鍍膜設(shè)備，特別涉及一種細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、在現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備中，由于受限于弧源分布，造成在現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜細(xì)長管件的時候，常常會因為細(xì)長管件較長的尺寸，無法完全鍍膜均勻，造成鍍膜質(zhì)量很差。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的實施方式的目的在于提供一種能夠?qū)?xì)長管件，實現(xiàn)完全鍍膜的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備。

2、為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的實施方式設(shè)計了一種細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備，包括：

3、腔體結(jié)構(gòu)；

4、分子泵控制裝置，在所述的腔體結(jié)構(gòu)的一側(cè)固定若干個所述的分子泵控制裝置；

5、弧源，在所述的腔體結(jié)構(gòu)的圓周上設(shè)置若干個所述的弧源；若干個所述的弧源在所述的腔體結(jié)構(gòu)的圓周表面上螺旋上升布置；

6、電機(jī)傳動裝置，在所述腔體結(jié)構(gòu)的外部設(shè)置所述電機(jī)傳動裝置；

7、轉(zhuǎn)架驅(qū)動裝置，在所述的腔體結(jié)構(gòu)的內(nèi)部設(shè)置所述的轉(zhuǎn)架驅(qū)動裝置；所述的電機(jī)傳動裝置帶動所述的轉(zhuǎn)架驅(qū)動裝置旋轉(zhuǎn)；

8、三維轉(zhuǎn)架裝置；在所述的轉(zhuǎn)架驅(qū)動裝置上連接所述三維轉(zhuǎn)架裝置；在所述三維轉(zhuǎn)架裝置上放置細(xì)長管件；所述的轉(zhuǎn)架驅(qū)動裝置上帶動所述三維轉(zhuǎn)架裝置，使得所述細(xì)長管件在所述的腔體結(jié)構(gòu)內(nèi)轉(zhuǎn)動的同時，所述細(xì)長管件在所述弧源的作用下進(jìn)行鍍膜。

9、進(jìn)一步，在本發(fā)明的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備中，在所述腔體結(jié)構(gòu)的底部固定爐體支撐底座；在所述的腔體結(jié)構(gòu)的一側(cè)，在兩列所述弧源之間固定一列視窗。

10、進(jìn)一步，在本發(fā)明的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備中，所述的腔體結(jié)構(gòu)，還包括：

11、筒體，在所述的腔體結(jié)構(gòu)外側(cè)設(shè)置所述的筒體；所述的筒體呈圓筒狀；

12、筒蓋，在所述筒體的上方固定連接所述筒蓋；

13、筒底蓋，在所述筒體的下方固定連接所述筒底蓋。

14、進(jìn)一步，在本發(fā)明的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備中，在所述的筒體內(nèi)部，圍繞所述的筒體的邊緣，在所述的筒底蓋上固定若干個加熱片；每個加熱片由3塊加熱單元組成；在所述的加熱片的外側(cè)，沿著所述筒體的內(nèi)側(cè)固定水冷套。

15、進(jìn)一步，在本發(fā)明的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備中，所述的分子泵控制裝置在所述的腔體結(jié)構(gòu)的筒體上縱向排列成一列；所述的分子泵控制裝置，還包括：

16、插板閥，在所述筒體上從上至下，沿著所述筒體的一側(cè)固定所述插板閥的一側(cè)；并與所述的筒體連通；

17、分子泵，在所述的插板閥的另一端上固定連接所述分子泵的抽氣口。

18、進(jìn)一步，在本發(fā)明的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備中，若干個所述的弧源沿著所述的腔體結(jié)構(gòu)的圓周表面上螺旋上升布置；其中若干個所述弧源在螺旋上升布置的過程中排列成一列和排成一排；若干個所述弧源在主視方向上排成平行四邊形。

19、進(jìn)一步，在本發(fā)明的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備中，所述電機(jī)傳動裝置，還包括：

20、驅(qū)動減速電機(jī)，在所述腔體結(jié)構(gòu)的筒蓋上方固定所述驅(qū)動減速電機(jī)的底座；

21、驅(qū)動同步帶輪，在所述驅(qū)動減速電機(jī)的輸出端上固定所述的驅(qū)動同步帶輪；

22、旋轉(zhuǎn)主軸，在所述筒蓋的軸線位置上活動連接所述旋轉(zhuǎn)主軸；所述的旋轉(zhuǎn)主軸下方固定連接所述轉(zhuǎn)架驅(qū)動裝置；

23、被動同步帶輪，在所述的筒蓋的上方，在所述旋轉(zhuǎn)主軸上固定所述被動同步帶輪；

24、同步帶，在所述的驅(qū)動同步帶輪和所述的被動同步帶輪上設(shè)置所述同步帶。

25、進(jìn)一步，在本發(fā)明的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備中，所述的三維轉(zhuǎn)架裝置，還包括：

26、密封套件，在所述腔體結(jié)構(gòu)的筒蓋上方，所述電機(jī)傳動裝置的旋轉(zhuǎn)主軸上套入若干層所述密封套件；

27、大轉(zhuǎn)盤，在筒體內(nèi)，將所述大轉(zhuǎn)盤的圓心與在所述旋轉(zhuǎn)主軸的頂端相固定連接；

28、大齒輪，在所述的大轉(zhuǎn)盤的上方，將所述大齒輪的中心與伸入到所述在筒體內(nèi)的軸套固定；

29、三維轉(zhuǎn)架，沿著所述的大轉(zhuǎn)盤的圓周上活動連接若干個所述三維轉(zhuǎn)架；

30、小齒輪，在任意一個所述的三維轉(zhuǎn)架上方固定連接所述小齒輪；

31、所述小齒輪與所述大齒輪嚙合。

32、進(jìn)一步，在本發(fā)明的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備中，所述大轉(zhuǎn)盤在轉(zhuǎn)動的過程中，任意一個所述的三維轉(zhuǎn)架在第一次自轉(zhuǎn)的同時，繞著所述大齒輪進(jìn)行第一次公轉(zhuǎn)。

33、進(jìn)一步，在本發(fā)明的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備中，任意一個所述的三維轉(zhuǎn)架，還包括：

34、第一自轉(zhuǎn)軸，在所述的小齒輪的中心軸線上固定連接所述第一自轉(zhuǎn)軸的一端；

35、滾珠蓋，在所述第一自轉(zhuǎn)軸上傳入所述滾珠蓋；

36、滾珠，在所述滾珠蓋的下方的滾珠函中放入所述滾珠；

37、自轉(zhuǎn)大齒輪，在所述滾珠函的外側(cè)，在所述大轉(zhuǎn)盤上固定所述自轉(zhuǎn)大齒輪的中心孔；

38、自轉(zhuǎn)小齒輪，在所述的自轉(zhuǎn)大齒輪上嚙合所述自轉(zhuǎn)小齒輪；

39、第二自轉(zhuǎn)軸，在所述自轉(zhuǎn)小齒輪的中心孔內(nèi)固定所述的第二自轉(zhuǎn)軸的一端；

40、小轉(zhuǎn)盤，在所述第二自轉(zhuǎn)軸的另一端固定在所述小轉(zhuǎn)盤上；

41、自轉(zhuǎn)軸承函，在所述的小轉(zhuǎn)盤上固定所述自轉(zhuǎn)軸承函；

42、自轉(zhuǎn)滾珠，在所述自轉(zhuǎn)軸承函內(nèi)放置所述自轉(zhuǎn)滾珠；

43、自轉(zhuǎn)滾珠圈，在所述自轉(zhuǎn)滾珠的內(nèi)側(cè)，在所述第二自轉(zhuǎn)軸上固定所述自轉(zhuǎn)滾珠圈上的中心孔內(nèi)；

44、在所述的第二自轉(zhuǎn)軸的下方固定放置細(xì)長管件；

45、在所述第一自轉(zhuǎn)軸的驅(qū)動下，帶動整個所述三維轉(zhuǎn)架第一次自轉(zhuǎn)的同時，驅(qū)動所述小轉(zhuǎn)盤繞所述的自轉(zhuǎn)大齒輪進(jìn)行第二次公轉(zhuǎn)的同時，所述自轉(zhuǎn)小齒輪帶動所述第二自轉(zhuǎn)軸上的所述細(xì)長管件第二次自轉(zhuǎn)。

46、本發(fā)明的實施方式同現(xiàn)有技術(shù)相比，采用了在腔體結(jié)構(gòu)的一側(cè)固定若干個分子泵控制裝置；在腔體結(jié)構(gòu)的圓周上設(shè)置若干個弧源；若干個弧源在腔體結(jié)構(gòu)的圓周表面上螺旋上升布置；在腔體結(jié)構(gòu)的外部設(shè)置電機(jī)傳動裝置；在腔體結(jié)構(gòu)的內(nèi)部設(shè)置轉(zhuǎn)架驅(qū)動裝置；電機(jī)傳動裝置帶動轉(zhuǎn)架驅(qū)動裝置旋轉(zhuǎn)；在轉(zhuǎn)架驅(qū)動裝置上連接三維轉(zhuǎn)架裝置；在三維轉(zhuǎn)架裝置上放置細(xì)長管件；轉(zhuǎn)架驅(qū)動裝置上帶動三維轉(zhuǎn)架裝置，使得細(xì)長管件在腔體結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)動的同時，細(xì)長管件在弧源的作用下進(jìn)行鍍膜。在弧源重新設(shè)計排列以及改變內(nèi)部的結(jié)構(gòu)以后，實現(xiàn)了對細(xì)長管件完全鍍膜，解決了在現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備中，由于受限于弧源分布，造成在現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜細(xì)長管件的時候，常常會因為細(xì)長管件較長的尺寸，無法完全鍍膜均勻，造成鍍膜質(zhì)量很差的技術(shù)問題。

技術(shù)特征：

1.一種細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，在所述腔體結(jié)構(gòu)的底部固定爐體支撐底座；在所述的腔體結(jié)構(gòu)的一側(cè)，在兩列所述弧源之間固定一列視窗。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述的腔體結(jié)構(gòu)，還包括：

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，在所述的筒體內(nèi)部，圍繞所述的筒體的邊緣，在所述的筒底蓋上固定若干個加熱片；每個加熱片由3塊加熱單元組成；在所述的加熱片的外側(cè)，沿著所述筒體的內(nèi)側(cè)固定水冷套。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述的分子泵控制裝置在所述的腔體結(jié)構(gòu)的筒體上縱向排列成一列；所述的分子泵控制裝置，還包括：

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，若干個所述的弧源沿著所述的腔體結(jié)構(gòu)的圓周表面上螺旋上升布置；其中若干個所述弧源在螺旋上升布置的過程中排列成一列和排成一排；若干個所述弧源在主視方向上排成平行四邊形。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述電機(jī)傳動裝置，還包括：

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述的三維轉(zhuǎn)架裝置，還包括：

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述大轉(zhuǎn)盤在轉(zhuǎn)動的過程中，任意一個所述的三維轉(zhuǎn)架在第一次自轉(zhuǎn)的同時，繞著所述大齒輪進(jìn)行第一次公轉(zhuǎn)。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，任意一個所述的三維轉(zhuǎn)架，還包括：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種細(xì)長管件的真空鍍膜設(shè)備，采用了在腔體結(jié)構(gòu)的一側(cè)固定若干個分子泵控制裝置；在腔體結(jié)構(gòu)的圓周上設(shè)置若干個弧源；弧源在腔體結(jié)構(gòu)的圓周表面上螺旋上升布置；在腔體結(jié)構(gòu)的外部設(shè)置電機(jī)傳動裝置；電機(jī)傳動裝置帶動轉(zhuǎn)架驅(qū)動裝置旋轉(zhuǎn)；在轉(zhuǎn)架驅(qū)動裝置上連接三維轉(zhuǎn)架裝置；在三維轉(zhuǎn)架裝置上放置細(xì)長管件；轉(zhuǎn)架驅(qū)動裝置上帶動三維轉(zhuǎn)架裝置，使得細(xì)長管件在腔體結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)動的同時，細(xì)長管件在弧源的作用下進(jìn)行鍍膜。在弧源重新設(shè)計排列以及改變內(nèi)部的結(jié)構(gòu)以后，實現(xiàn)了對細(xì)長管件完全鍍膜，解決了在現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備中，由于受限于弧源分布以及細(xì)長管件較長的尺寸，無法完全鍍膜均勻，造成鍍膜質(zhì)量很差的技術(shù)問題。

技術(shù)研發(fā)人員：張瑞謙,陳寰,伍曉勇,褚家寶,熊凱,孫金偉,李紫祎,王曉敏,徐祺,杜沛南
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國核動力研究設(shè)計院
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6