本發(fā)明涉及真空蒸鍍器，尤其涉及一種蒸鍍均勻的真空蒸鍍器。

背景技術(shù)：

1、氣相沉積是一種薄膜制備技術(shù)，利用先進(jìn)的真空技術(shù)在真空環(huán)境中將材料從固體源蒸發(fā)、濺射或其他方法制備成氣體、離子或原子等狀態(tài)，通過沉積到基底表面上形成薄膜。

2、五金件蒸鍍加工的過程中，靶材蒸發(fā)產(chǎn)生的原子穿過真空腔到達(dá)基底表面凝結(jié)形成薄膜，但是基底材料需要支撐或夾持，夾持或支撐基底材料的接觸面無法得到均勻的沉積加工。因此，本領(lǐng)域技術(shù)人員提供了一種蒸鍍均勻的真空蒸鍍器，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的是針對背景技術(shù)中存在的問題，提出一種蒸鍍均勻的真空蒸鍍器。

2、為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種蒸鍍均勻的真空蒸鍍器，包括蒸鍍器、轉(zhuǎn)動結(jié)構(gòu)、存放結(jié)構(gòu)、聯(lián)動結(jié)構(gòu)一和聯(lián)動結(jié)構(gòu)二，所述蒸鍍器包括機殼、位于機殼一側(cè)的開合門；

3、所述轉(zhuǎn)動結(jié)構(gòu)包括位于開合門一側(cè)呈等距分布的環(huán)座、位于環(huán)座上端內(nèi)部的安裝環(huán)；

4、所述存放結(jié)構(gòu)包括固置于安裝環(huán)上端呈對稱分布的支撐角板、位于支撐角板上端的支撐桿、位于支撐桿一端的存放框；

5、所述聯(lián)動結(jié)構(gòu)一包括多組等距分布的支撐條一、嵌入安裝于支撐角板內(nèi)部的滑套一、滑動插接于滑套一內(nèi)部的導(dǎo)桿一、貫穿支撐條一且下端一側(cè)與導(dǎo)桿一上端相連接的連接筋一、套接于導(dǎo)桿一外壁的限位環(huán)一、固置于限位環(huán)一和支撐角板之間的彈簧一、位于機殼內(nèi)部且呈等距縱向等距分布的導(dǎo)流板一；

6、所述聯(lián)動結(jié)構(gòu)二包括多組等距分布的支撐條二、嵌入安裝于支撐角板內(nèi)部的滑套二、滑動插接于滑套二內(nèi)部的導(dǎo)桿二、貫穿支撐條二且下端一側(cè)與導(dǎo)桿二上端相連接的連接筋二、套接于導(dǎo)桿二外壁的限位環(huán)二、固置于限位環(huán)二和支撐角板之間的彈簧二、位于機殼內(nèi)部且呈等距縱向等距分布的導(dǎo)流板二。

7、所述機殼一端設(shè)置有存取口，所述存取口與開合門對應(yīng)，所述存取口內(nèi)壁設(shè)置有擋邊。存取口用于與開合連接的結(jié)構(gòu)件，以及存放結(jié)構(gòu)的有效使用設(shè)置的開口，用于蒸鍍后零件的存取。

8、所述機殼下端內(nèi)壁內(nèi)部設(shè)置有開合結(jié)構(gòu)，所述開合結(jié)構(gòu)包括位于機殼下端內(nèi)壁的電機二，所述電機二輸出端設(shè)置有螺桿，所述機殼下端內(nèi)壁設(shè)置有軸承支架二，所述螺桿一端轉(zhuǎn)動插接于軸承支架二內(nèi)部。電機二驅(qū)動螺桿轉(zhuǎn)動時，螺桿的一端通過軸承支架二得到轉(zhuǎn)動支撐，螺桿轉(zhuǎn)動時的穩(wěn)定性提升。

9、所述機殼下端內(nèi)壁設(shè)置有導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌外壁滑動安裝有滑塊，所述滑塊上端設(shè)置有與螺桿螺紋套接的螺母，所述螺母上端設(shè)置有與開合門固置連接的連接板。螺母與螺桿螺紋安裝，且下端通過滑塊在導(dǎo)軌外壁滑動，進(jìn)而使得轉(zhuǎn)動的螺桿推動螺母內(nèi)部的螺紋滾道，帶動螺母以滑塊的導(dǎo)向方向進(jìn)行移動，通過連接板將施加到螺母上的推動力作用到開合門上。

10、所述開合門一端設(shè)置有電機一，所述電機一輸出端設(shè)置有轉(zhuǎn)軸，所述開合門一端設(shè)置有軸承支架一，所述轉(zhuǎn)軸上端轉(zhuǎn)動安裝于軸承支架一內(nèi)部。電機一驅(qū)動轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動時，轉(zhuǎn)軸的一端在軸承支架一內(nèi)部轉(zhuǎn)動，進(jìn)而對轉(zhuǎn)軸進(jìn)行轉(zhuǎn)動支撐，轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動時穩(wěn)定性提升。

11、所述環(huán)座一端均設(shè)置有對稱分布且與開合門固置連接的固定桿，所述轉(zhuǎn)軸外壁套接有呈縱向等距分布的齒輪，所述安裝環(huán)外壁套接有與齒輪嚙合的齒圈。懸置于開合門一側(cè)的多個環(huán)座，通過固定桿與開合門連接，進(jìn)而對環(huán)座進(jìn)行支撐。

12、所述環(huán)座兩側(cè)內(nèi)壁和下端內(nèi)部均開設(shè)有呈環(huán)形的滾槽，所述安裝環(huán)兩端和下端內(nèi)部均轉(zhuǎn)動安裝有呈環(huán)形陣列分布并滑動安裝于滾槽內(nèi)部的鋼球。環(huán)座通過鋼珠得到多點多面支撐，轉(zhuǎn)動時在滾槽內(nèi)部得到轉(zhuǎn)動導(dǎo)向，鋼珠自身轉(zhuǎn)動使得安裝環(huán)轉(zhuǎn)動穩(wěn)定性提升。

13、所述導(dǎo)流板一兩端均設(shè)置有導(dǎo)流面一，所述導(dǎo)流面一朝向?qū)Я靼逡恢行亩魏穸戎饾u遞增，所述導(dǎo)桿一下端轉(zhuǎn)動安裝有滾珠一。導(dǎo)桿一進(jìn)入到導(dǎo)流板二上時，通過導(dǎo)流面一對導(dǎo)桿一導(dǎo)向，同時通過滾珠一與導(dǎo)流板一滾動接觸，降低通過時的摩擦阻力。

14、所述導(dǎo)流板二兩端均設(shè)置有導(dǎo)流面二，所述導(dǎo)流面二朝向?qū)Я靼宥行亩魏穸戎饾u遞增，所述導(dǎo)桿二下端轉(zhuǎn)動安裝有滾珠二，所述導(dǎo)流板一和導(dǎo)流板二外壁均設(shè)置有對稱分布且與機殼內(nèi)壁固置連接的側(cè)板。導(dǎo)桿二進(jìn)入到導(dǎo)流板二上時，通過導(dǎo)流面二對導(dǎo)桿二導(dǎo)向，同時通過滾珠二與導(dǎo)流板二滾動接觸，降低通過時的摩擦阻力，導(dǎo)流板一和導(dǎo)流板二均通過側(cè)板固定在機殼內(nèi)部。

15、所述導(dǎo)流板一和導(dǎo)流板二均呈半圓形，所述導(dǎo)流板一和導(dǎo)流板二之間設(shè)置有行程槽，所述支撐條一上端設(shè)置有橡膠頭一，所述支撐條二上端設(shè)置有橡膠頭二。行程槽保障了存放結(jié)構(gòu)通過，存放結(jié)構(gòu)有效的橫向通過導(dǎo)流板一和導(dǎo)流板二，進(jìn)而在存放結(jié)構(gòu)進(jìn)入到機殼內(nèi)部時不會受到阻礙，支撐條一和支撐條二通過橡膠頭一和橡膠頭二對零件進(jìn)行底部支撐時，避免劃傷零件，對零件起到防護(hù)作用。

16、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果如下：

17、本發(fā)明真空蒸鍍器的進(jìn)料口通過自動開合的開合門進(jìn)行開合控制，開合門下端一側(cè)設(shè)置有轉(zhuǎn)動結(jié)構(gòu)，帶動基底材料旋轉(zhuǎn)，基底材料通過多組陣列分布的支撐條一和支撐條二支撐，支撐條一與支撐條二通過導(dǎo)流板一和導(dǎo)流板二時相聯(lián)動，基底材料轉(zhuǎn)動的過程中根據(jù)所處位置的不同進(jìn)行不同點位的支撐，基底材料位于機殼內(nèi)部進(jìn)行蒸鍍加工時，避免始終夾持或支撐同一位置，接觸面無法均勻蒸鍍的情況，基底材料實現(xiàn)均勻蒸鍍。

技術(shù)特征：

1.一種蒸鍍均勻的真空蒸鍍器，包括蒸鍍器(100)、轉(zhuǎn)動結(jié)構(gòu)(200)、存放結(jié)構(gòu)(300)、聯(lián)動結(jié)構(gòu)一(400)和聯(lián)動結(jié)構(gòu)二(500)，其特征在于：所述蒸鍍器(100)包括機殼(101)、位于機殼(101)一側(cè)的開合門(102)；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種蒸鍍均勻的真空蒸鍍器，其特征在于：所述機殼(101)一端設(shè)置有存取口(103)，所述存取口(103)與開合門(102)對應(yīng)，所述存取口(103)內(nèi)壁設(shè)置有擋邊(104)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種蒸鍍均勻的真空蒸鍍器，其特征在于：所述機殼(101)下端內(nèi)壁內(nèi)部設(shè)置有開合結(jié)構(gòu)(600)，所述開合結(jié)構(gòu)(600)包括位于機殼(101)下端內(nèi)壁的電機二(601)，所述電機二(601)輸出端設(shè)置有螺桿(602)，所述機殼(101)下端內(nèi)壁設(shè)置有軸承支架二(605)，所述螺桿(602)一端轉(zhuǎn)動插接于軸承支架二(605)內(nèi)部。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種蒸鍍均勻的真空蒸鍍器，其特征在于：所述機殼(101)下端內(nèi)壁設(shè)置有導(dǎo)軌(604)，所述導(dǎo)軌(604)外壁滑動安裝有滑塊(603)，所述滑塊(603)上端設(shè)置有與螺桿(602)螺紋套接的螺母(606)，所述螺母(606)上端設(shè)置有與開合門(102)固置連接的連接板(607)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種蒸鍍均勻的真空蒸鍍器，其特征在于：所述開合門(102)一端設(shè)置有電機一(201)，所述電機一(201)輸出端設(shè)置有轉(zhuǎn)軸(203)，所述開合門(102)一端設(shè)置有軸承支架一(205)，所述轉(zhuǎn)軸(203)上端轉(zhuǎn)動安裝于軸承支架一(205)內(nèi)部。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種蒸鍍均勻的真空蒸鍍器，其特征在于：所述環(huán)座(207)一端均設(shè)置有對稱分布且與開合門(102)固置連接的固定桿(202)，所述轉(zhuǎn)軸(203)外壁套接有呈縱向等距分布的齒輪(204)，所述安裝環(huán)(208)外壁套接有與齒輪(204)嚙合的齒圈(206)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種蒸鍍均勻的真空蒸鍍器，其特征在于：所述環(huán)座(207)兩側(cè)內(nèi)壁和下端內(nèi)部均開設(shè)有呈環(huán)形的滾槽(209)，所述安裝環(huán)(208)兩端和下端內(nèi)部均轉(zhuǎn)動安裝有呈環(huán)形陣列分布并滑動安裝于滾槽(209)內(nèi)部的鋼球(210)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種蒸鍍均勻的真空蒸鍍器，其特征在于：所述導(dǎo)流板一(409)兩端均設(shè)置有導(dǎo)流面一(410)，所述導(dǎo)流面一(410)朝向?qū)Я靼逡?409)中心段厚度逐漸遞增，所述導(dǎo)桿一(404)下端轉(zhuǎn)動安裝有滾珠一(406)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種蒸鍍均勻的真空蒸鍍器，其特征在于：所述導(dǎo)流板二(509)兩端均設(shè)置有導(dǎo)流面二(510)，所述導(dǎo)流面二(510)朝向?qū)Я靼宥?509)中心段厚度逐漸遞增，所述導(dǎo)桿二(508)下端轉(zhuǎn)動安裝有滾珠二(504)，所述導(dǎo)流板一(409)和導(dǎo)流板二(509)外壁均設(shè)置有對稱分布且與機殼(101)內(nèi)壁固置連接的側(cè)板(511)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種蒸鍍均勻的真空蒸鍍器，其特征在于：所述導(dǎo)流板一(409)和導(dǎo)流板二(509)均呈半圓形，所述導(dǎo)流板一(409)和導(dǎo)流板二(509)之間設(shè)置有行程槽(304)，所述支撐條一(402)上端設(shè)置有橡膠頭一(401)，所述支撐條二(503)上端設(shè)置有橡膠頭二(501)。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及真空蒸鍍器技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸鍍均勻的真空蒸鍍器。其技術(shù)方案包括蒸鍍器、轉(zhuǎn)動結(jié)構(gòu)、存放結(jié)構(gòu)、聯(lián)動結(jié)構(gòu)一和聯(lián)動結(jié)構(gòu)二，所述蒸鍍器包括機殼、位于機殼一側(cè)的開合門；所述轉(zhuǎn)動結(jié)構(gòu)包括環(huán)座、安裝環(huán)；所述存放結(jié)構(gòu)包括支撐角板、支撐桿、存放框；所述聯(lián)動結(jié)構(gòu)一包括支撐條一、滑套一、導(dǎo)桿一、連接筋一、限位環(huán)一、彈簧一、導(dǎo)流板一；所述聯(lián)動結(jié)構(gòu)二包括支撐條二、滑套二、導(dǎo)桿二、連接筋二、限位環(huán)二、彈簧二、導(dǎo)流板二。本發(fā)明通過聯(lián)動結(jié)構(gòu)一和聯(lián)動結(jié)構(gòu)之間的配合。本發(fā)明具有均勻蒸鍍基地材料的功能，解決了基底材料蒸鍍時需要支撐或夾持，導(dǎo)致夾持或支撐基底材料的接觸面無法得到均勻的沉積加工的情況。

技術(shù)研發(fā)人員：桑春峰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：兆默半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/28