1.一種基于多種波長長余輝發(fā)光粒子的半導(dǎo)體襯底晶片光電化學(xué)機械拋光裝置，其特征在于，包括機架、龍門架、電化學(xué)工作站、拋光液回收槽、控制面板、頂升拋光盤以及轉(zhuǎn)盤式真空光照單元，所述龍門架、電化學(xué)工作站、拋光液回收槽、控制面板、頂升拋光盤以及轉(zhuǎn)盤式真空光照單元均安裝在機架上，所述龍門架上安裝有導(dǎo)電旋轉(zhuǎn)吸盤，在導(dǎo)電旋轉(zhuǎn)吸盤的末端設(shè)置待加工工件，所述頂升拋光盤設(shè)置于導(dǎo)電旋轉(zhuǎn)吸盤的下方，通過高度的調(diào)整完成其上拋光盤與待加工工件距離的調(diào)節(jié)，所述轉(zhuǎn)盤式真空光照單元中設(shè)有配合待加工半導(dǎo)體襯底晶片材料的長余輝發(fā)光粒子，被激發(fā)的長余輝發(fā)光粒子混入拋光液中，完成半導(dǎo)體襯底晶片表面的光電化學(xué)機械拋光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于多種波長長余輝發(fā)光粒子的半導(dǎo)體襯底晶片光電化學(xué)機械拋光裝置，其特征在于，所述龍門架包括緊固螺釘、立柱、橫梁、伺服安裝座、絲桿和升降梁，所述立柱為兩個且兩個立柱均通過所述緊固螺釘固定安裝在所述機架上，所述橫梁固定安裝在兩個立柱的頂部，所述伺服安裝座通過螺栓安裝在所述橫梁的一端，所述絲桿安裝在橫梁上，在伺服安裝座處通過彈性聯(lián)軸器與電機相連，橫梁上滑動連接有橫移架，所述橫移架與絲桿相連，所述升降梁固定安裝在橫移架上，所述導(dǎo)電旋轉(zhuǎn)吸盤安裝在升降梁上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于多種波長長余輝發(fā)光粒子的半導(dǎo)體襯底晶片光電化學(xué)機械拋光裝置，其特征在于，所述導(dǎo)電旋轉(zhuǎn)吸盤通過真空吸附的方式完成待加工工件的裝夾，具體地，主軸箱以及吸盤泵支座固定安裝在龍門架的升降梁上，吸盤泵固定在吸盤泵支座上，吸盤氣管一端連接吸盤泵，另一端連接導(dǎo)電旋轉(zhuǎn)吸盤；所述主軸箱上設(shè)置有吸盤旋轉(zhuǎn)電機和臺階軸，導(dǎo)電滑環(huán)的內(nèi)圈通過螺釘緊定在臺階軸上，該內(nèi)圈導(dǎo)線能夠隨著臺階軸同步回轉(zhuǎn)，導(dǎo)電滑環(huán)的外圈導(dǎo)線連通內(nèi)圈導(dǎo)線進而將待加工工件連通，所述臺階軸的端部連接有壓力傳感器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于多種波長長余輝發(fā)光粒子的半導(dǎo)體襯底晶片光電化學(xué)機械拋光裝置，其特征在于，所述拋光頭的輸出端設(shè)置有不銹鋼微孔芯，所述不銹鋼微孔芯陣列排布在拋光頭的微孔中，拋光頭上金屬部分接到導(dǎo)電滑環(huán)內(nèi)圈導(dǎo)線上，臺階軸的一個軸肩頂在球軸承的軸承內(nèi)圈上，所述球軸承用于適當(dāng)?shù)卣{(diào)心作用使得半導(dǎo)體襯底晶片與拋光墊能夠有效平行貼合接觸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于多種波長長余輝發(fā)光粒子的半導(dǎo)體襯底晶片光電化學(xué)機械拋光裝置，其特征在于，所述頂升拋光盤包括轉(zhuǎn)接板、鑄鐵盤、直角電機和兩套頂升機構(gòu)，所述轉(zhuǎn)接板通過螺栓固定安裝在機架上，所述頂升機構(gòu)包括氣缸座、頂升氣缸、氣缸推桿和法蘭，所述氣缸座固定安裝在轉(zhuǎn)接板的底部，頂升氣缸安裝在氣缸座的內(nèi)部，頂升氣缸的輸出端設(shè)置有氣缸推桿，氣缸推桿與法蘭連接，氣缸推桿的端部與鑄鐵盤相連，所述直角電機的電機軸通過彈性聯(lián)軸器連接在轉(zhuǎn)接板上，所述直角電機用于驅(qū)動鑄鐵盤轉(zhuǎn)軸，進而帶動鑄鐵盤旋轉(zhuǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基于多種波長長余輝發(fā)光粒子的半導(dǎo)體襯底晶片光電化學(xué)機械拋光裝置，其特征在于，拋光液輸出機構(gòu)與頂升拋光盤相連，其包括拋光液罐和噴嘴，所述拋光液罐位于轉(zhuǎn)接板下端，所述拋光液罐的輸出端與噴嘴相連，所述噴嘴凸出于鑄鐵盤預(yù)設(shè)高度，所述拋光液噴嘴通過法蘭盤與鑄鐵盤相連。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于多種波長長余輝發(fā)光粒子的半導(dǎo)體襯底晶片光電化學(xué)機械拋光裝置，其特征在于，所述轉(zhuǎn)盤式真空光照單元包括轉(zhuǎn)盤主軸座、氣路分流壓環(huán)、負壓表、光源水冷管、真空光照室安裝盤、氣路盤氣管、支承立柱、輸料管、氣路盤、滑環(huán)、滑環(huán)抱緊塊、長余輝發(fā)光粒子儲存?zhèn)}、儲存?zhèn)}安裝盤、中間氣路安裝盤、光源、轉(zhuǎn)盤底板墊環(huán)、電氣控制單元、轉(zhuǎn)盤主軸和真空光照室，所述轉(zhuǎn)盤主軸座通過螺栓固定安裝在所述機架上，所述轉(zhuǎn)盤主軸固定安裝在所述轉(zhuǎn)盤主軸座上，并用所述轉(zhuǎn)盤底板墊環(huán)隔開，所述電氣控制單元固定安裝在所述轉(zhuǎn)盤主軸上；所述滑環(huán)安裝在所述轉(zhuǎn)盤主軸的頂部，通過所述滑環(huán)抱緊塊固定；所述氣路盤通過所述中間氣路安裝盤緊固在轉(zhuǎn)盤主軸上；所述氣路分流壓環(huán)固定安裝在所述氣路盤底部，所述氣路盤用于調(diào)控工作的真空光照室內(nèi)部壓強達到要求；所述真空光照室安裝盤套在所述轉(zhuǎn)盤主軸外圈并緊固，可隨主軸一起旋轉(zhuǎn)運動；所述真空光照室為多個且等間距地固定安裝在所述真空光照室安裝盤外側(cè)一周；不同波長的若干光源分別固定安裝在對應(yīng)的真空光照室內(nèi)部偏上位置，激發(fā)不同的長余輝發(fā)光粒子；所述負壓表固定安裝在真空光照室的頂部；所述支承立柱，位于兩個相鄰真空光照室之間，垂直固定安裝在真空光照室安裝盤上；所述儲存?zhèn)}安裝盤固定安裝在支承立柱的頂部，用于安裝所述長余輝發(fā)光粒子儲存?zhèn)}；所述輸料管的一端連接在長余輝發(fā)光粒子儲存?zhèn)}的底部，另一端連接真空光照室；所述氣路盤氣管的一端連接真空光照室，另一端通過氣路盤連接機架內(nèi)部的負壓泵，負壓泵保證真空光照室工作室的氣壓條件。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基于多種波長長余輝發(fā)光粒子的半導(dǎo)體襯底晶片光電化學(xué)機械拋光裝置，其特征在于，還包括腔室擺臂、腔室蓋和擺臂驅(qū)動馬達，所述腔室蓋與所述腔室擺臂連接，所述腔室蓋安裝在所述真空光照室的頂部；所述擺臂驅(qū)動馬達安裝在所述真空光照室的背部，驅(qū)動擺臂帶動腔室蓋，完成開關(guān)蓋動作，在光源激發(fā)發(fā)光粒子時，腔室蓋保持關(guān)閉保證真空光照室內(nèi)黑暗，拋光時，腔室蓋打開使被激發(fā)的發(fā)光粒子落下與拋光液混合。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基于多種波長長余輝發(fā)光粒子的半導(dǎo)體襯底晶片光電化學(xué)機械拋光裝置，其特征在于，還包括光源水冷管，所述光源水冷管一端連接位于機架內(nèi)部的冷水泵，另一端連接對應(yīng)的光源。
10.一種基于權(quán)利要求1～9任一項所述光電化學(xué)機械拋光裝置的基于多種波長長余輝發(fā)光粒子的半導(dǎo)體襯底晶片光電化學(xué)機械拋光方法，其特征在于，包括如下步驟：