本技術(shù)涉及真空鍍膜機(jī),具體為一種真空鍍膜機(jī)的工件旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù):
1、真空鍍膜是指需要在較高真空度下進(jìn)行鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,mbe分子束外延,pld激光濺射沉積等很多種,主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
2、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜,一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片(或稱工件)表面,通過成膜過程形成薄膜。厚度均勻性和組分均勻性主要取決于:工件材料與靶材的晶格匹配程度;工件表面溫度;靶材蒸發(fā)功率和速率;鍍膜真空度;鍍膜時(shí)間和厚度大小。當(dāng)調(diào)整了工件鍍膜溫度和真空度,以及靶材蒸發(fā)條件后,就需要按照工件特定要求,需要通過合理設(shè)置的傳機(jī)構(gòu)來連續(xù)轉(zhuǎn)換鍍膜工件位置,才能確保工件鍍膜質(zhì)量,尤其對(duì)于如汽車輪轂之類的大型工件顯得特別重要。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種真空鍍膜機(jī)的工件旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。
2、為了解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種真空鍍膜機(jī)的工件旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),包括真空鍍膜機(jī)本體,所述真空鍍膜機(jī)本體內(nèi)設(shè)置有工件放置盤,所述工件放置盤周側(cè)端端部固定設(shè)置有滾輪,所述滾輪置于導(dǎo)軌上,所述導(dǎo)軌沿所述真空鍍膜機(jī)本體內(nèi)側(cè)設(shè)置,所述工件放置盤的頂部固定安裝有旋轉(zhuǎn)軸,所述旋轉(zhuǎn)軸穿過所述真空鍍膜機(jī)本體頂部,且端部安裝有從動(dòng)齒輪,所述從動(dòng)齒輪與主動(dòng)齒輪相互嚙合,所述主動(dòng)齒輪安裝在驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出軸上。
3、所述工件放置盤為弧形結(jié)構(gòu)。
4、所述導(dǎo)軌為環(huán)形結(jié)構(gòu)。
5、所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)為步進(jìn)電機(jī)。
6、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型所達(dá)到的有益效果是:本實(shí)用新型可實(shí)現(xiàn)工件放置盤的旋轉(zhuǎn),通過齒輪傳動(dòng)由此實(shí)現(xiàn)了所述旋轉(zhuǎn)支架任意,控制轉(zhuǎn)動(dòng)位置,包括正轉(zhuǎn)或反轉(zhuǎn),以及轉(zhuǎn)動(dòng)的度數(shù)。
1.一種真空鍍膜機(jī)的工件旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),包括真空鍍膜機(jī)本體(1),其特征在于:所述真空鍍膜機(jī)本體(1)內(nèi)設(shè)置有工件放置盤(2),所述工件放置盤(2)周側(cè)端端部固定設(shè)置有滾輪(3),所述滾輪(3)置于導(dǎo)軌(4)上,所述導(dǎo)軌(4)沿所述真空鍍膜機(jī)本體(1)內(nèi)側(cè)設(shè)置,所述工件放置盤(2)的頂部固定安裝有旋轉(zhuǎn)軸(5),所述旋轉(zhuǎn)軸(5)穿過所述真空鍍膜機(jī)本體(1)頂部,且端部安裝有從動(dòng)齒輪(6),所述從動(dòng)齒輪(6)與主動(dòng)齒輪(7)相互嚙合,所述主動(dòng)齒輪(7)安裝在驅(qū)動(dòng)電機(jī)(8)的輸出軸上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜機(jī)的工件旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述工件放置盤(2)為弧形結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜機(jī)的工件旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述導(dǎo)軌(4)為環(huán)形結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜機(jī)的工件旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)(8)為步進(jìn)電機(jī)。