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進(jìn)氣結(jié)構(gòu)及管式PECVD設(shè)備的制作方法

文檔序號(hào):40627809發(fā)布日期:2025-01-10 18:33閱讀:2來(lái)源:國(guó)知局
進(jìn)氣結(jié)構(gòu)及管式PECVD設(shè)備的制作方法

本申請(qǐng)屬于光伏生產(chǎn)設(shè)備,尤其是涉及一種進(jìn)氣結(jié)構(gòu)及管式pecvd設(shè)備。


背景技術(shù):

1、太陽(yáng)能電池制造領(lǐng)域,尤其是會(huì)應(yīng)用化學(xué)氣相沉積設(shè)備。管式等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備(以下簡(jiǎn)稱管式pecvd設(shè)備)作為其中一種,管式pecvd設(shè)備被廣泛應(yīng)用于制備薄膜材料。

2、管式pecvd設(shè)備其特點(diǎn)在于采用了管式結(jié)構(gòu)反應(yīng)爐,需要將反應(yīng)氣體和放電氣體引入于反應(yīng)爐內(nèi)并生成等離子體,等離子態(tài)氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng),并在反應(yīng)爐中石墨舟的基片上沉積薄膜材料。

3、薄膜材料在基片上的厚度分布均勻性是決定薄膜質(zhì)量的重要指標(biāo)之一,反應(yīng)爐內(nèi)進(jìn)氣流場(chǎng)分布是影響薄膜材料厚度分布的重要因素之一。

4、現(xiàn)有管式pecvd設(shè)備中的進(jìn)氣管路設(shè)置在反應(yīng)爐的爐口位置且大部分為圓環(huán)形管路,圓環(huán)形管路僅設(shè)有一個(gè)進(jìn)氣口以及多個(gè)出氣口,多個(gè)出氣口關(guān)于圓環(huán)形管路的中心軸線對(duì)稱布置,各出氣口的出氣方向延伸線的相交點(diǎn)位于環(huán)形管路的中心軸線上。

5、應(yīng)理解地,與進(jìn)氣口間距不等的各出氣口所噴出氣體的氣壓、流量不同。對(duì)于采用中心對(duì)稱布局出氣口的方案,靠近進(jìn)氣口一側(cè)的出氣口噴出氣體的氣壓及流量大于遠(yuǎn)離進(jìn)氣口一側(cè)的出氣口噴出氣體的氣壓及流量,導(dǎo)致氣體流場(chǎng)偏向遠(yuǎn)離進(jìn)氣口一側(cè),氣體流場(chǎng)的均勻性偏差。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N進(jìn)氣結(jié)構(gòu)及管式pecvd設(shè)備,以解決現(xiàn)有進(jìn)氣方式會(huì)偏向遠(yuǎn)離進(jìn)氣口一側(cè),導(dǎo)致氣體流場(chǎng)不均的技術(shù)問(wèn)題。

2、根據(jù)本申請(qǐng)的一個(gè)方面,提供了一種進(jìn)氣結(jié)構(gòu),包括進(jìn)氣管與進(jìn)氣法蘭,進(jìn)氣法蘭設(shè)有氣體通道,進(jìn)氣管連接于進(jìn)氣法蘭且為弧長(zhǎng)超過(guò)半圓周長(zhǎng)的弧形管路,進(jìn)氣管位于進(jìn)氣通道;進(jìn)氣管包括進(jìn)氣管段以及對(duì)稱布置在進(jìn)氣管段兩側(cè)的出氣管段。

3、在本申請(qǐng)可選的方案中,兩側(cè)的出氣管段關(guān)于進(jìn)氣法蘭的中軸線中心對(duì)稱布置。

4、在本申請(qǐng)可選的方案中,進(jìn)氣管段設(shè)有進(jìn)氣口,出氣管段設(shè)有多個(gè)出氣口;兩側(cè)的出氣管段中的多個(gè)出氣口相對(duì)進(jìn)氣口對(duì)稱布置。

5、在本申請(qǐng)可選的方案中,兩側(cè)的出氣管段中的多個(gè)出氣口關(guān)于進(jìn)氣法蘭的中軸線中心對(duì)稱布置。

6、在本申請(qǐng)可選的方案中,兩側(cè)的出氣管段中的各出氣口的開(kāi)口方向面向彼此對(duì)稱分布。

7、在本申請(qǐng)可選的方案中,兩側(cè)的出氣管段中的各出氣口的開(kāi)口方向的延伸線交匯于進(jìn)氣法蘭的中軸線。

8、在本申請(qǐng)可選的方案中,單側(cè)的出氣管段距離進(jìn)氣管段的最近端與進(jìn)氣法蘭的中心之間的連線為第一連線;單側(cè)的出氣管段距離進(jìn)氣管段的最遠(yuǎn)端與進(jìn)氣法蘭的中心之間的連線為第二連線;第一連線與第二連線形成的銳角為5°至15°。

9、根據(jù)本申請(qǐng)的另一個(gè)方面,提供了一種管式pecvd設(shè)備,包括反應(yīng)爐及上述進(jìn)氣結(jié)構(gòu),進(jìn)氣法蘭設(shè)置于反應(yīng)爐的爐口。

10、在本申請(qǐng)可選的方案中,還包括至少一個(gè)方舟結(jié)構(gòu),方舟結(jié)構(gòu)能夠設(shè)置于反應(yīng)爐內(nèi);方舟結(jié)構(gòu)包括方舟框架及勻流板,勻流板設(shè)置于方舟框架的兩端;勻流板設(shè)有多層分流結(jié)構(gòu),以使氣流分層流入或流出方舟框架。

11、在本申請(qǐng)可選的方案中,勻流板設(shè)有多個(gè)導(dǎo)流孔,多個(gè)導(dǎo)流孔呈陣列布置,多層分流結(jié)構(gòu)包括多層由多個(gè)導(dǎo)流孔形成的導(dǎo)流孔行;方舟框架包括多個(gè)舟板,多個(gè)舟板間隔堆疊布置,相鄰兩個(gè)舟板之間對(duì)應(yīng)至少一層導(dǎo)流孔行。

12、綜上所述,本申請(qǐng)?zhí)峁┑倪M(jìn)氣結(jié)構(gòu)及管式pecvd設(shè)備至少具有以下有益效果:

13、該進(jìn)氣機(jī)構(gòu)包括進(jìn)氣管和進(jìn)氣法蘭,進(jìn)氣法蘭能夠固定安裝在管式pecvd設(shè)備中的反應(yīng)爐的爐口處。進(jìn)氣法蘭形成有氣體通道,進(jìn)氣管為非封閉式的圓環(huán)形結(jié)構(gòu)且并固定安裝在氣體通道內(nèi),進(jìn)氣管能夠連接氣源,以將反應(yīng)氣體引入至管式pecvd設(shè)備中的反應(yīng)爐內(nèi)。

14、該進(jìn)氣管包括進(jìn)氣管段與出氣管段,進(jìn)氣管段用于接入氣源,出氣管段用于噴出氣體。由于出氣管段對(duì)稱布置在進(jìn)氣管段的兩側(cè),兩側(cè)對(duì)齊的出氣管段距離進(jìn)氣管段的距離相同,兩側(cè)出氣管段噴出氣體的氣壓及流量大致相等,對(duì)沖后形成的氣體流場(chǎng)的均勻性相對(duì)也會(huì)更好。



技術(shù)特征:

1.一種進(jìn)氣結(jié)構(gòu),其特征在于,包括進(jìn)氣管(10)與進(jìn)氣法蘭(20),所述進(jìn)氣法蘭(20)設(shè)有氣體通道(h1),所述進(jìn)氣管(10)連接于所述進(jìn)氣法蘭(20)且為弧長(zhǎng)超過(guò)半圓周長(zhǎng)的弧形管路,所述進(jìn)氣管(10)位于所述氣體通道(h1);

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的進(jìn)氣結(jié)構(gòu),其特征在于,兩側(cè)的所述出氣管段(12)關(guān)于所述進(jìn)氣法蘭(20)的中軸線中心對(duì)稱布置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的進(jìn)氣結(jié)構(gòu),其特征在于,

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的進(jìn)氣結(jié)構(gòu),其特征在于,兩側(cè)的所述出氣管段(12)中的多個(gè)出氣口(b)關(guān)于所述進(jìn)氣法蘭(20)的中軸線中心對(duì)稱布置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的進(jìn)氣結(jié)構(gòu),其特征在于,兩側(cè)的所述出氣管段(12)中的各出氣口(b)的開(kāi)口方向面向彼此對(duì)稱分布。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的進(jìn)氣結(jié)構(gòu),其特征在于,兩側(cè)的所述出氣管段(12)中的各出氣口(b)的開(kāi)口方向的延伸線交匯于所述進(jìn)氣法蘭(20)的中軸線。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的進(jìn)氣結(jié)構(gòu),其特征在于,單側(cè)的所述出氣管段(12)距離所述進(jìn)氣管段(11)的最近端與所述進(jìn)氣法蘭(20)的中心之間的連線為第一連線;

8.一種管式pecvd設(shè)備,其特征在于,包括反應(yīng)爐及根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述進(jìn)氣結(jié)構(gòu)(100),所述進(jìn)氣法蘭(20)設(shè)置于所述反應(yīng)爐的爐口。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的管式pecvd設(shè)備,其特征在于,還包括至少一個(gè)方舟結(jié)構(gòu)(200),所述方舟結(jié)構(gòu)(200)能夠設(shè)置于所述反應(yīng)爐內(nèi);

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的管式pecvd設(shè)備,其特征在于,所述勻流板(220)設(shè)有多個(gè)導(dǎo)流孔(h3),多個(gè)所述導(dǎo)流孔(h3)呈陣列布置,所述多層分流結(jié)構(gòu)包括多層由多個(gè)所述導(dǎo)流孔(h3)形成的導(dǎo)流孔行(l);


技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)屬于光伏生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種進(jìn)氣結(jié)構(gòu)及管式PECVD設(shè)備。該進(jìn)氣結(jié)構(gòu)包括進(jìn)氣管與進(jìn)氣法蘭,進(jìn)氣法蘭設(shè)有氣體通道,進(jìn)氣管連接于進(jìn)氣法蘭且為弧長(zhǎng)超過(guò)半圓周長(zhǎng)的弧形管路,進(jìn)氣管位于氣體通道;進(jìn)氣管包括進(jìn)氣管段以及對(duì)稱布置在進(jìn)氣管段兩側(cè)的出氣管段。由于出氣管段對(duì)稱布置在進(jìn)氣管段的兩側(cè),兩側(cè)對(duì)齊的出氣管段距離進(jìn)氣管段的距離相同,兩側(cè)出氣管段噴出氣體的氣壓及流量大致相等,對(duì)沖后形成的氣體流場(chǎng)的均勻性相對(duì)也會(huì)更好。

技術(shù)研發(fā)人員:張文帆,陳森,周龍偉,楊龍,李云朋,劉權(quán)輝,張凱,劉德茂
受保護(hù)的技術(shù)使用者:隆基綠能科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20240412
技術(shù)公布日:2025/1/9
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