本技術(shù)涉及化學(xué)氣相沉積領(lǐng)域，尤其涉及一種薄膜沉積爐管及化學(xué)氣相沉積設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、化學(xué)氣相沉積(chemical?vapor?deposition，cvd)工藝是外延薄膜生長、半導(dǎo)體制造、光伏制造的工藝之一。目前，主要采用lpcvd(low?pressure?chemical?vapordeposition，低壓化學(xué)氣相沉積)設(shè)備來實現(xiàn)硅片上氧化硅、多晶硅、非晶硅等的沉積。

2、目前，lpcvd設(shè)備包括石英爐管，硅片在石英爐管內(nèi)進行沉積。然而，在長時間使用過程中，石英爐管的內(nèi)壁會沉積一層硅類薄膜，當(dāng)爐管內(nèi)壁沉積的硅類薄膜達到一定厚度時，會侵蝕石英爐管，從而導(dǎo)致石英爐管斷裂，進而導(dǎo)致石英爐管的使用壽命較短。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型提供一種薄膜沉積爐管及化學(xué)氣相沉積設(shè)備，旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中石英爐管的使用壽命較短的技術(shù)問題。

2、第一方面，本實用新型實施例提供了一種薄膜沉積爐管，包括：

3、爐體，所述爐體的內(nèi)壁具有若干個離散的第一凹陷結(jié)構(gòu)；

4、保護涂層，設(shè)置在所述爐體的內(nèi)壁上，在遠離所述爐體的內(nèi)壁的方向上，所述保護涂層形成有與若干個所述第一凹陷結(jié)構(gòu)相對應(yīng)的若干個第二凹陷結(jié)構(gòu)。

5、可選地，所述爐體的內(nèi)壁的表面粗糙度ra大于0.1微米。

6、可選地，所述爐體的內(nèi)壁的表面粗糙度ra小于10微米-100微米。

7、可選地，所述保護涂層的厚度小于所述爐體的內(nèi)壁的表面粗糙度ra；和/或，

8、所述保護涂層的厚度小于所述第一凹陷結(jié)構(gòu)的深度；和/或，

9、沿所述爐體的軸向方向，所述第一凹陷結(jié)構(gòu)的最大尺寸大于或等于所述

10、第一凹陷結(jié)構(gòu)的深度。

11、可選地，所述爐體包括主體部和連接在所述主體部兩端的爐口和爐尾，所述爐口的內(nèi)壁和所述爐尾的內(nèi)壁處的第一凹陷結(jié)構(gòu)的密度大于所述主體部的內(nèi)壁處的第一凹陷結(jié)構(gòu)的密度。

12、可選地，沿所述爐體的軸向方向，相鄰的兩個所述第一凹陷結(jié)構(gòu)之間的最小距離大于所述第一凹陷結(jié)構(gòu)的深度與所述保護涂層的厚度的差值。

13、可選地，所述爐體的內(nèi)壁還包括連接若干所述第一凹陷結(jié)構(gòu)的平整部，所述平整部的表面積與所述爐體的內(nèi)周面積的比值為0.1-0.3。

14、可選地，所述保護涂層的厚度為10微米-100微米。

15、可選地，所述保護涂層為氧化鋁涂層、氧化硅涂層、氮化硅涂層、碳化硅涂層中的任一種；

16、所述爐體為石英玻璃爐體、碳化硅爐體、高溫合金爐體、不銹鋼爐體、氧化鋯爐體中的任一種。

17、第二方面，本實用新型實施例提供了一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備，包括上述任一項所述的薄膜沉積爐管。

18、本實用新型實施例中，保護涂層起保護爐體的內(nèi)壁的作用，使用過程中，保護涂層介于爐體與低壓化學(xué)氣相沉積工藝過程中產(chǎn)生的沉積硅之間，沉積硅會附著在保護涂層上，避免了爐體與沉積硅的直接接觸，從而避免了沉積硅直接侵蝕爐體，進而延長了薄膜沉積爐管的使用壽命。此外，由于保護涂層包括若干個第二凹陷結(jié)構(gòu)，也即保護涂層具有一定的粗糙度，從而減緩了工藝過程中產(chǎn)生的沉積硅在保護涂層上的生長。另外，通過保護涂層的設(shè)置，還增強了薄膜沉積爐管的強度，從而延長了薄膜沉積爐管的使用壽命。爐體的內(nèi)壁經(jīng)過粗糙化處理形成有若干個第一凹陷結(jié)構(gòu)，通過若干個第一凹陷結(jié)構(gòu)分散了熱應(yīng)力，進而避免了較大的熱應(yīng)力對薄膜沉積爐管的損壞。

19、綜上，在爐體的內(nèi)壁設(shè)置若干個第一凹陷結(jié)構(gòu)和設(shè)置保護涂層都能提升薄膜沉積爐管的使用壽命，將兩者相結(jié)合，對薄膜沉積爐管的使用壽命的提升效果更好；且成型的保護涂層不易脫落。

20、上述說明僅是本實用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實用新型的技術(shù)手段，可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本實用新型的上述和其它目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂，以下特舉本實用新型的具體實施方式。

技術(shù)特征：

1.一種薄膜沉積爐管，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜沉積爐管，其特征在于，所述爐體的內(nèi)壁的表面粗糙度ra大于0.1微米。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的薄膜沉積爐管，其特征在于，所述爐體的內(nèi)壁的表面粗糙度ra小于10微米-100微米。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的薄膜沉積爐管，其特征在于，所述保護涂層的厚度小于所述爐體的內(nèi)壁的表面粗糙度ra；和/或，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜沉積爐管，其特征在于，所述爐體包括主體部和連接在所述主體部兩端的爐口和爐尾，所述爐口的內(nèi)壁和所述爐尾的內(nèi)壁處的第一凹陷結(jié)構(gòu)的密度大于所述主體部的內(nèi)壁處的第一凹陷結(jié)構(gòu)的密度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜沉積爐管，其特征在于，沿所述爐體的軸向方向，相鄰的兩個所述第一凹陷結(jié)構(gòu)之間的最小距離大于所述第一凹陷結(jié)構(gòu)的深度與所述保護涂層的厚度的差值。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜沉積爐管，其特征在于，所述爐體的內(nèi)壁還包括連接若干所述第一凹陷結(jié)構(gòu)的平整部，所述平整部的表面積與所述爐體的內(nèi)周面積的比值為0.1-0.3。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜沉積爐管，其特征在于，所述保護涂層的厚度為10微米-100微米。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜沉積爐管，其特征在于，所述保護涂層為氧化鋁涂層、氧化硅涂層、氮化硅涂層、碳化硅涂層中的任一種；

10.一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，包括權(quán)利要求1至9任一項所述的薄膜沉積爐管。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種薄膜沉積爐管及化學(xué)氣相沉積設(shè)備，薄膜沉積爐管包括：爐體，爐體的內(nèi)壁具有若干個離散的第一凹陷結(jié)構(gòu)；保護涂層，設(shè)置在爐體的內(nèi)壁上，在遠離爐體的內(nèi)壁的方向上，保護涂層形成有與若干個第一凹陷結(jié)構(gòu)相對應(yīng)的若干個第二凹陷結(jié)構(gòu)。本技術(shù)實施例中，在爐體的內(nèi)壁設(shè)置若干個第一凹陷結(jié)構(gòu)和設(shè)置保護涂層都能提升薄膜沉積爐管的使用壽命，將兩者相結(jié)合，對薄膜沉積爐管的使用壽命的提升效果更好。

技術(shù)研發(fā)人員：張弢,朱廣東,邱家梁,郭夢龍,童洪波
受保護的技術(shù)使用者：隆基綠能科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240511
技術(shù)公布日：2025/1/9