本技術(shù)涉及pvd設(shè)備相關(guān)，尤其涉及一種新型基片傳輸系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

1、pvd物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下采用物理方法將材料源(固體或液體)表面氣化成氣態(tài)原子或分子，或部分電離成離子，并通過(guò)低壓氣體(或等離子體)過(guò)程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)，物理氣相沉積是主要的表面處理技術(shù)之一。

2、經(jīng)過(guò)海量檢索，發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)公開(kāi)號(hào)為cn209778989u，公開(kāi)了一種磁控濺射過(guò)程中穩(wěn)定傳輸基片載具的裝置，包括：腔體、設(shè)在腔體底部的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、滾動(dòng)設(shè)置在傳動(dòng)機(jī)構(gòu)上的載具、設(shè)在載具一側(cè)的永磁體、設(shè)在載具一側(cè)且與永磁體不同側(cè)的靶材；所述載具包括：載物板、設(shè)在載物板上的側(cè)滑軌、固定在腔體頂部且與所述側(cè)滑軌配合的若干個(gè)第一傳動(dòng)輪；通過(guò)采用該裝置，避免了載物板因移動(dòng)中左右晃動(dòng)，實(shí)現(xiàn)所述載具的穩(wěn)定傳輸，從而避免基片上沉積的膜厚度明顯變化不均勻，不影響基片的正常生產(chǎn)效率的同時(shí)，提高了基片的生產(chǎn)質(zhì)量，增強(qiáng)了生產(chǎn)效益。

3、綜上所述，現(xiàn)有的在真空濺射鍍膜生產(chǎn)線上，基片的傳輸一般是直入直出的，傳輸方式單一，且基片在傳輸過(guò)程中的穩(wěn)定性較差。

4、有鑒于上述的缺陷，本設(shè)計(jì)人積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型基片傳輸系統(tǒng)，使其更具有產(chǎn)業(yè)上的利用價(jià)值。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的目的是提供一種新型基片傳輸系統(tǒng)。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：

3、一種新型基片傳輸系統(tǒng)，包括機(jī)架，在機(jī)架上沿著x軸負(fù)方向的一側(cè)設(shè)置有進(jìn)料系統(tǒng)，進(jìn)料系統(tǒng)通過(guò)底部的墊高架安裝在機(jī)架上，在機(jī)架上沿著x軸正方向的一側(cè)設(shè)置有出料系統(tǒng)；

4、進(jìn)料系統(tǒng)包括伺服電機(jī)、皮帶傳動(dòng)組和進(jìn)料傳動(dòng)輥，伺服電機(jī)安裝在墊高架上沿著y軸方向靠近中間的位置，在墊高架沿著y軸方向上兩側(cè)的外側(cè)均安裝有皮帶傳動(dòng)組，伺服電機(jī)可通過(guò)伺服傳動(dòng)軸與沿著y軸方向兩側(cè)的皮帶傳動(dòng)組驅(qū)動(dòng)連接，皮帶傳動(dòng)組與位于墊高架內(nèi)側(cè)的進(jìn)料傳動(dòng)輥相連接；

5、出料系統(tǒng)包括出料組件和頂升支撐組件，頂升支撐組件的數(shù)量為兩個(gè)且位于出料框架下方沿著y軸方向兩側(cè)的機(jī)架上；

6、出料組件包括出料框架，在出料框架上沿著x軸負(fù)方向的一側(cè)開(kāi)設(shè)有進(jìn)料腔，在出料框架上沿著y軸方向的兩側(cè)均開(kāi)設(shè)有出料腔，出料框架沿著x軸方向兩側(cè)的外側(cè)均安裝有出料傳動(dòng)輪組，出料傳動(dòng)輪組與位于出料框架內(nèi)側(cè)的出料傳動(dòng)輥相連接，出料傳動(dòng)輪組和出料傳動(dòng)輥均位于進(jìn)料腔的下方位置；

7、頂升支撐組件從下往上依次包括第三頂升氣缸、頂升板、頂升桿和頂升支撐架，第三頂升氣缸安裝在機(jī)架上，第三頂升氣缸頂部的驅(qū)動(dòng)端與上方的頂升板相連接，頂升板上沿著x軸方向設(shè)置有若干個(gè)頂升桿，頂升桿可穿過(guò)出料框架上的頂升桿孔后進(jìn)入到出料框架內(nèi)并與頂升支撐架相連接，頂升支撐架上沿著x軸方向均勻的安裝有若干個(gè)頂升輔助輪。

8、作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，墊高架內(nèi)側(cè)沿著y軸方向靠近中間的位置安裝有第一頂升氣缸，第一頂升氣缸頂部的驅(qū)動(dòng)端與上方的x軸推動(dòng)氣缸相連接，x軸推動(dòng)氣缸的驅(qū)動(dòng)端與沿著x軸正方向一側(cè)的夾爪氣缸相連接，夾爪氣缸上的兩個(gè)夾爪朝向沿著x軸正方向的一側(cè)。

9、作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，墊高架內(nèi)側(cè)沿著y軸兩側(cè)的位置均安裝有第二頂升氣缸，第二頂升氣缸頂部的驅(qū)動(dòng)端與上方的x軸推動(dòng)電缸相連接，x軸推動(dòng)電缸的驅(qū)動(dòng)端朝向沿著x軸正方向的一側(cè)。

10、作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，在進(jìn)料腔沿著y軸方向兩側(cè)的出料框架上均安裝有進(jìn)料導(dǎo)向組件，進(jìn)料導(dǎo)向組件包括導(dǎo)向座、導(dǎo)向斜板和導(dǎo)向輪，導(dǎo)向座安裝在出料框架上，導(dǎo)向座的頂部?jī)?nèi)側(cè)安裝有導(dǎo)向輪，導(dǎo)向座沿著x軸負(fù)方向的一側(cè)設(shè)置有朝向下方傾斜設(shè)置的導(dǎo)向斜板。

11、作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，導(dǎo)向座的頂部外側(cè)設(shè)置有導(dǎo)向擋板。

12、作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，出料框架內(nèi)沿著x軸正方向的一側(cè)沿著y軸方向均勻的安裝有若干個(gè)出料限位塊，出料限位塊位于靠近出料框架內(nèi)的頂部位置。

13、作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，位于出料框架底部與頂升板之間的頂升桿上安裝有彈簧件。

14、借由上述方案，本實(shí)用新型至少具有以下優(yōu)點(diǎn)：

15、本實(shí)用新型通過(guò)進(jìn)料系統(tǒng)和出料系統(tǒng)的配合，可實(shí)現(xiàn)基片從x軸方向進(jìn)料并從y軸方向上出料的過(guò)程，傳輸方式較為靈活；

16、本實(shí)用新型通過(guò)進(jìn)料導(dǎo)向組件對(duì)進(jìn)料的基片進(jìn)行導(dǎo)向處理，且通過(guò)出料限位塊對(duì)出料的基片進(jìn)行限位處理。

17、上述說(shuō)明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技術(shù)手段，并可依照說(shuō)明書(shū)的內(nèi)容予以實(shí)施，以下以本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例并配合附圖詳細(xì)說(shuō)明如后。

技術(shù)特征：

1.一種新型基片傳輸系統(tǒng)，包括機(jī)架(1)，在所述機(jī)架(1)上沿著x軸負(fù)方向的一側(cè)設(shè)置有進(jìn)料系統(tǒng)(3)，所述進(jìn)料系統(tǒng)(3)通過(guò)底部的墊高架(2)安裝在機(jī)架(1)上，在所述機(jī)架(1)上沿著x軸正方向的一側(cè)設(shè)置有出料系統(tǒng)(4)；

2.如權(quán)利要求1所述的一種新型基片傳輸系統(tǒng)，其特征在于，所述墊高架(2)內(nèi)側(cè)沿著y軸方向靠近中間的位置安裝有第一頂升氣缸(10)，所述第一頂升氣缸(10)頂部的驅(qū)動(dòng)端與上方的x軸推動(dòng)氣缸(11)相連接，所述x軸推動(dòng)氣缸(11)的驅(qū)動(dòng)端與沿著x軸正方向一側(cè)的夾爪氣缸(14)相連接，所述夾爪氣缸(14)上的兩個(gè)夾爪朝向沿著x軸正方向的一側(cè)。

3.如權(quán)利要求1所述的一種新型基片傳輸系統(tǒng)，其特征在于，所述墊高架(2)內(nèi)側(cè)沿著y軸兩側(cè)的位置均安裝有第二頂升氣缸(12)，所述第二頂升氣缸(12)頂部的驅(qū)動(dòng)端與上方的x軸推動(dòng)電缸(13)相連接，所述x軸推動(dòng)電缸(13)的驅(qū)動(dòng)端朝向沿著x軸正方向的一側(cè)。

4.如權(quán)利要求1所述的一種新型基片傳輸系統(tǒng)，其特征在于，在所述進(jìn)料腔(17)沿著y軸方向兩側(cè)的出料框架(15)上均安裝有進(jìn)料導(dǎo)向組件(19)，所述進(jìn)料導(dǎo)向組件(19)包括導(dǎo)向座(24)、導(dǎo)向斜板(25)和導(dǎo)向輪(26)，所述導(dǎo)向座(24)安裝在出料框架(15)上，所述導(dǎo)向座(24)的頂部?jī)?nèi)側(cè)安裝有導(dǎo)向輪(26)，所述導(dǎo)向座(24)沿著x軸負(fù)方向的一側(cè)設(shè)置有朝向下方傾斜設(shè)置的導(dǎo)向斜板(25)。

5.如權(quán)利要求4所述的一種新型基片傳輸系統(tǒng)，其特征在于，所述導(dǎo)向座(24)的頂部外側(cè)設(shè)置有導(dǎo)向擋板(27)。

6.如權(quán)利要求1所述的一種新型基片傳輸系統(tǒng)，其特征在于，所述出料框架(15)內(nèi)沿著x軸正方向的一側(cè)沿著y軸方向均勻的安裝有若干個(gè)出料限位塊(21)，所述出料限位塊(21)位于靠近出料框架(15)內(nèi)的頂部位置。

7.如權(quán)利要求1所述的一種新型基片傳輸系統(tǒng)，其特征在于，位于所述出料框架(15)底部與頂升板(29)之間的頂升桿(31)上安裝有彈簧件(30)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及一種新型基片傳輸系統(tǒng)，一種新型基片傳輸系統(tǒng)，包括機(jī)架，在機(jī)架上沿著X軸負(fù)方向的一側(cè)設(shè)置有進(jìn)料系統(tǒng)，進(jìn)料系統(tǒng)通過(guò)底部的墊高架安裝在機(jī)架上，在機(jī)架上沿著X軸正方向的一側(cè)設(shè)置有出料系統(tǒng)；進(jìn)料系統(tǒng)包括伺服電機(jī)、皮帶傳動(dòng)組和進(jìn)料傳動(dòng)輥，出料系統(tǒng)包括出料組件和頂升支撐組件，頂升支撐組件的數(shù)量為兩個(gè)且位于出料框架下方沿著Y軸方向兩側(cè)的機(jī)架上。本技術(shù)通過(guò)進(jìn)料系統(tǒng)和出料系統(tǒng)的配合，可實(shí)現(xiàn)基片從X軸方向進(jìn)料并從Y軸方向上出料的過(guò)程，傳輸方式較為靈活；本技術(shù)通過(guò)進(jìn)料導(dǎo)向組件對(duì)進(jìn)料的基片進(jìn)行導(dǎo)向處理，且通過(guò)出料限位塊對(duì)出料的基片進(jìn)行限位處理。

技術(shù)研發(fā)人員：黃躍龍
受保護(hù)的技術(shù)使用者：湖州市鶉火光電有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240515
技術(shù)公布日：2024/12/26