本技術(shù)中涉及拋光墊，特別涉及一種晶片拋光用的拋光墊。

背景技術(shù)：

1、拋光墊，又稱拋光皮、拋光布或拋光片，拋光墊通常由硬質(zhì)多孔聚氨酯泡沫制成，帶有狹窄的高縱橫比凹槽圖案，主要用于實現(xiàn)硅片、金屬、陶瓷等材料的平坦化拋光，在進(jìn)行晶體加工的過程中，為了使晶體表面更加光滑亮麗就需要使用拋光墊進(jìn)行加工。

2、現(xiàn)有技術(shù)中，如公開號cn215547806u，公開的一種單晶片拋光用拋光墊，它包括單晶片加工技術(shù)領(lǐng)域，其技術(shù)方案要點是包括拋光層，拋光層的一側(cè)開設(shè)有呈放射狀分布的凹槽，凹槽遠(yuǎn)離拋光層中心的一側(cè)貫穿拋光層，拋光層靠近凹槽所在的一側(cè)噴涂有磨砂層，且磨砂層位于相鄰兩個凹槽所圍成的區(qū)域內(nèi)，效果是通過設(shè)置磨砂層，利用磨砂層對物體表面進(jìn)行拋光處理，這樣每次磨損的只是磨砂層，每次只需補噴磨砂顆粒即可，大大提高拋光墊的使用壽命。

3、但該裝置仍然存在一些問題，其中通過磨砂層對物體表面進(jìn)行拋光，磨砂層在打磨的過程中會慢慢變薄，從而只消耗磨砂層從而延長拋光墊的使用壽命，但在使用的過程中磨砂會從拋光墊上脫離，脫離的細(xì)小碎砂則會留在凹槽內(nèi)，由于凹槽較小導(dǎo)致其較難清理，因此我們公開了一種晶片拋光用的拋光墊來滿足人們的需求。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本申請的目的在于提供一種晶片拋光用的拋光墊，以解決上述背景技術(shù)中提出的在使用的過程中磨砂會從拋光墊上脫離，脫離的細(xì)小碎砂則會留在凹槽內(nèi)，由于凹槽較小導(dǎo)致其較難清理。

2、為實現(xiàn)上述目的，本申請?zhí)峁┤缦录夹g(shù)方案：一種晶片拋光用的拋光墊，包括底盤，所述底盤的上側(cè)安裝有彈性層，所述彈性層的上側(cè)安裝有拋光層，所述拋光層的上側(cè)安裝有海綿層，所述海綿層的一側(cè)安裝有磨砂層，所述底盤的表面開設(shè)有若干滑槽，若干所述滑槽的內(nèi)壁均滑動安裝有滑動塊，若干所述滑動塊的上側(cè)均安裝有刮塊，所述彈性層的上側(cè)開設(shè)有若干第一避讓槽，所述拋光層開設(shè)有若干第二避讓槽，若干所述刮塊與若干所述第二避讓槽相對應(yīng)，若干所述滑動塊的下側(cè)均轉(zhuǎn)動安裝有收束單元。

3、優(yōu)選的，所述收束單元包括若干連接桿，若干所述連接桿均轉(zhuǎn)動安裝在若干所述滑動塊的下側(cè)，若干所述連接桿的相對端均轉(zhuǎn)動安裝有同一個拉塊。

4、優(yōu)選的，所述底盤的表面開設(shè)有第一安裝孔，所述彈性層的表面開設(shè)有第二安裝孔，所述拋光層的表面開設(shè)有第三安裝孔，所述第一安裝孔內(nèi)安裝有螺管，所述螺管的一側(cè)安裝有第一橡膠圈，所述螺管的另一側(cè)安裝有第二橡膠圈。

5、優(yōu)選的，所述拋光層的表面安裝有若干擋板，所述擋板與所述刮塊相適配。

6、綜上，本實用新型的技術(shù)效果和優(yōu)點：

7、1、本實用新型中，通過拉動拉塊，拉塊同時帶動若干連接桿運動，若干連接桿分別帶動各自的滑動塊滑動，若干滑動塊帶動各自的刮塊進(jìn)行運動，對擋板、拋光層的第二避讓槽與彈性層的第一避讓槽進(jìn)行刮除清潔，達(dá)到了便于清潔的效果。

8、2、本實用新型中，通過設(shè)置海綿層，可以在進(jìn)行打磨前使海綿層吸入水分，打磨的過程中可以提供水分，防止火花飛濺的問題，提升了拋光的安全性。

技術(shù)特征：

1.一種晶片拋光用的拋光墊，包括底盤(1)，其特征在于：所述底盤(1)的上側(cè)安裝有彈性層(2)，所述彈性層(2)的上側(cè)安裝有拋光層(3)，所述拋光層(3)的上側(cè)安裝有海綿層(4)，所述海綿層(4)的一側(cè)安裝有磨砂層(5)，所述底盤(1)的表面開設(shè)有若干滑槽，若干所述滑槽的內(nèi)壁均滑動安裝有滑動塊(8)，若干所述滑動塊(8)的上側(cè)均安裝有刮塊(9)，所述彈性層(2)的上側(cè)開設(shè)有若干第一避讓槽，所述拋光層(3)開設(shè)有若干第二避讓槽，若干所述刮塊(9)與若干所述第二避讓槽相對應(yīng)，若干所述滑動塊(8)的下側(cè)均轉(zhuǎn)動安裝有收束單元。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片拋光用的拋光墊，其特征在于：所述收束單元包括若干連接桿(10)，若干所述連接桿(10)均轉(zhuǎn)動安裝在若干所述滑動塊(8)的下側(cè)，若干所述連接桿(10)的相對端均轉(zhuǎn)動安裝有同一個拉塊(11)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片拋光用的拋光墊，其特征在于：所述底盤(1)的表面開設(shè)有第一安裝孔，所述彈性層(2)的表面開設(shè)有第二安裝孔，所述拋光層(3)的表面開設(shè)有第三安裝孔，所述第一安裝孔內(nèi)安裝有螺管(7)，所述螺管(7)的一側(cè)安裝有第一橡膠圈(12)，所述螺管(7)的另一側(cè)安裝有第二橡膠圈(13)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片拋光用的拋光墊，其特征在于：所述拋光層(3)的表面安裝有若干擋板(6)，所述擋板(6)與所述刮塊(9)相適配。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種晶片拋光用的拋光墊，涉及拋光墊技術(shù)領(lǐng)域，包括底盤，所述底盤的上側(cè)安裝有彈性層，所述彈性層的上側(cè)安裝有拋光層，所述拋光層的上側(cè)安裝有海綿層，所述海綿層的一側(cè)安裝有磨砂層，所述底盤的表面開設(shè)有若干滑槽，若干所述滑槽的內(nèi)壁均滑動安裝有滑動塊，若干所述滑動塊的上側(cè)均安裝有刮塊，所述彈性層的上側(cè)開設(shè)有若干第一避讓槽，所述拋光層開設(shè)有若干第二避讓槽，若干所述刮塊與若干所述第二避讓槽相對應(yīng)，若干所述滑動塊的下側(cè)均轉(zhuǎn)動安裝有收束單元，本技術(shù)通過拉動拉塊，拉塊同時帶動若干連接桿運動，若干連接桿分別帶動各自的滑動塊滑動，若干滑動塊帶動各自的刮塊進(jìn)行運動，對擋板、拋光層的第二避讓槽與彈性層的第一避讓槽進(jìn)行刮除清潔，達(dá)到了便于清潔的效果。

技術(shù)研發(fā)人員：楊來保,趙建濤
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳市今成科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240516
技術(shù)公布日：2025/1/6