本技術涉及半導體腔室，具體為一種半導體腔室的支撐塊固定結構。

背景技術：

1、物理氣相沉積技術是指在真空條件下采用物理方法將材料源(固體或液體)表面氣化成氣態(tài)原子或分子，或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。

2、公告號為cn218901179u的專利公開了一種半導體腔室的進排氣結構，包括腔室、冷卻機構、過濾機構、出氣口，所述腔室上設置有冷卻機構，所述腔室上固定連接有支撐塊，所述支撐塊上通過螺紋連接有螺釘，所述腔室的上端設置有進氣管，所述進氣管上設置有擴氣口，所述出氣口與腔室相通。該專利通過設計循環(huán)器、進水管、冷凝管等，通過循環(huán)器使得冷凝液在冷凝管中循環(huán)流動，從而對氣體內的氣體進行降溫，通過設計密封套、過濾網(wǎng)、定位槽，使得腔室內氣體通過時，可以對氣體內的顆粒物進行過濾，從而對氣體進行清潔。

3、上述技術所示，實際生產(chǎn)時濺射工藝開始后，真空泵不斷去除半導體腔室內部的空氣，直至半導體腔室內部形成真空，然后向半導體腔室內部注入少量氬氣，形成低壓氬氣環(huán)境，低壓環(huán)境有可能造成腔室發(fā)生微形坍塌形變，濺射目標中的磁體陣列在工作時會產(chǎn)生大量熱量，熱脹冷縮也有可能導致半導體腔室發(fā)生微弱形變，進而影響真空環(huán)境。

技術實現(xiàn)思路

1、針對現(xiàn)有技術的不足，本實用新型提供了一種半導體腔室的支撐塊固定結構，解決了真空泵不斷去除半導體腔室內部的空氣，直至半導體腔室內部形成真空，然后向半導體腔室內部注入少量氬氣，形成低壓氬氣環(huán)境，低壓環(huán)境有可能造成腔室發(fā)生微形坍塌形變，濺射目標中的磁體陣列在工作時會產(chǎn)生大量熱量，熱脹冷縮也有可能導致半導體腔室發(fā)生微弱形變，進而影響真空環(huán)境的問題。

2、為實現(xiàn)以上目的，本實用新型通過以下技術方案予以實現(xiàn)：一種半導體腔室的支撐塊固定結構，包括：

3、腔室本體，所述腔室本體的表面開設有兩個真空槽；

4、固定組件，所述固定組件位于腔室本體的內部，所述固定組件用于對腔室本體的框架進行支撐加強；

5、密封組件，所述密封組件與腔室本體的底部固定連接，所述密封組件用于腔室本體工作時的密封；

6、真空泵，所述真空泵的抽氣管與真空槽連通，所述真空泵底部的一側通過托架與腔室本體背面的一側固定連接。

7、優(yōu)選的，所述固定組件包括與腔室本體內壁的四角均固定連接有拐角支架板，所述腔室本體內壁的頂部和底部均固定連接有第一夾持板和第二夾持板，所述第一夾持板和第二夾持板的表面貫穿有螺絲桿，所述第一夾持板和第二夾持板的內壁活動連接有接插折板。

8、優(yōu)選的，所述接插折板的一側固定連接有中央隔離板，所述中央隔離板表面的兩側均固定連接有密封條。

9、優(yōu)選的，所述真空槽的內壁固定連接有加強環(huán)，所述加強環(huán)的內壁固定連接有十字交叉板。

10、優(yōu)選的，所述密封組件包括與腔室本體底部固定連接的輔助板，所述輔助板的一側固定連接有伸縮桿。

11、優(yōu)選的，所述伸縮桿的一端固定連接有銜接板，所述銜接板的一側固定連接有密封蓋，所述密封蓋的一側固定連接有密封墊。

12、有益效果

13、本實用新型提供了一種半導體腔室的支撐塊固定結構。與現(xiàn)有技術相比具備以下有益效果：

14、(1)、該半導體腔室的支撐塊固定結構，利用固定組件的設置，裝置采用中央隔離板對腔室本體內壁的頂部和底部進行可靠支撐，提高了半導體腔室的內壁強度，同時中央隔離板的表面采用接插折板與第一夾持板和第二夾持板嵌入后固定，方便工作人員對其進行快速安裝，利用加強環(huán)和十字交叉板對真空槽的內表面進行有效支撐，進一步輔助提高了腔室的穩(wěn)定性，利用拐角支架板的設置，腔室的四角被穩(wěn)定支撐，裝置能夠穩(wěn)定運行。

15、(2)、該半導體腔室的支撐塊固定結構，利用密封組件的設置，裝置采用伸縮桿作為動力源對密封蓋和密封墊進行移動，控制密封蓋和密封墊對腔室本體的表面進行密封，密封后的腔體能夠有效保證真空程度，密封墊能夠對腔室本體的內壁進行支撐，進一步提高使用強度，兩個獨立設置的伸縮桿能夠保證至少有一側半導體腔室處于可靠工作狀態(tài)。

技術特征：

1.一種半導體腔室的支撐塊固定結構，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權利要求1所述的一種半導體腔室的支撐塊固定結構，其特征在于：所述固定組件(3)包括與腔室本體(1)內壁的四角均固定連接有拐角支架板(31)，所述腔室本體(1)內壁的頂部和底部均固定連接有第一夾持板(32)和第二夾持板(33)，所述第一夾持板(32)和第二夾持板(33)的表面貫穿有螺絲桿(34)，所述第一夾持板(32)和第二夾持板(33)的內壁活動連接有接插折板(35)。

3.根據(jù)權利要求2所述的一種半導體腔室的支撐塊固定結構，其特征在于：所述接插折板(35)的一側固定連接有中央隔離板(36)，所述中央隔離板(36)表面的兩側均固定連接有密封條(37)。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種半導體腔室的支撐塊固定結構，其特征在于：所述真空槽(2)的內壁固定連接有加強環(huán)(38)，所述加強環(huán)(38)的內壁固定連接有十字交叉板(39)。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種半導體腔室的支撐塊固定結構，其特征在于：所述密封組件(4)包括與腔室本體(1)底部固定連接的輔助板(41)，所述輔助板(41)的一側固定連接有伸縮桿(42)。

6.根據(jù)權利要求5所述的一種半導體腔室的支撐塊固定結構，其特征在于：所述伸縮桿(42)的一端固定連接有銜接板(43)，所述銜接板(43)的一側固定連接有密封蓋(44)，所述密封蓋(44)的一側固定連接有密封墊(45)。

技術總結
本技術公開了一種半導體腔室的支撐塊固定結構，包括：腔室本體，所述腔室本體的表面開設有兩個真空槽；固定組件，所述固定組件位于腔室本體的內部，所述固定組件用于對腔室本體的框架進行支撐加強；密封組件，所述密封組件與腔室本體的底部固定連接，密封組件用于腔室本體工作時的密封；真空泵，真空泵的抽氣管與真空槽連通，本技術涉及半導體腔室技術領域。該半導體腔室的支撐塊固定結構，利用固定組件的設置，裝置采用中央隔離板對腔室本體內壁的頂部和底部進行可靠支撐，提高了半導體腔室的內壁強度，同時中央隔離板的表面采用接插折板與第一夾持板和第二夾持板嵌入后固定，方便工作人員對其進行快速安裝。

技術研發(fā)人員：金昆根,張海娟,金烽
受保護的技術使用者：杭州杭宇機械制造有限公司
技術研發(fā)日：20240709
技術公布日：2025/1/9