專利名稱：從砂上清除附著物的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及從砂如型砂的表面清除附著物的裝置。
在某些技術(shù)領(lǐng)域中，一般要使用從砂上清除附著物的裝置。例如，在使用型砂生產(chǎn)鑄模的領(lǐng)域，在日本專利申請公開文本JP(Y)61-35，325中公開了一種從砂表面清除異物以重復(fù)使用型砂的裝置。為在砂使用后再次使用，該裝置將用過的砂送至一葉輪，從而將用過的砂摔打在壁上，以便從砂的表面清除異物。但是，由于在該方法中對砂的沖擊太強，砂容易變得更為細(xì)小，這樣所造成的缺點是重復(fù)使用型砂時需要加入型砂的粘合材料量增加。
本發(fā)明的目的是提供一種能夠保持砂的原有粒度的清除附著在砂表面的異物的裝置。
本發(fā)明的裝置設(shè)有一個旋轉(zhuǎn)箱，用于清除附著在砂上的異物。這種旋轉(zhuǎn)箱由驅(qū)動裝置轉(zhuǎn)動，以便使在箱中待處理的砂產(chǎn)生離心力。旋轉(zhuǎn)箱包括一圓形底板，從底板圓形外周向上向外延伸的傾斜周壁，以及從傾斜周壁的頂部向內(nèi)延伸的環(huán)形部分。該裝置包括設(shè)置在旋轉(zhuǎn)箱中的活動裝置如滾輪?；顒友b置具有基本平行于旋轉(zhuǎn)箱傾斜周壁且與其間隔開來的活動表面。當(dāng)旋轉(zhuǎn)箱的砂受到離心力作用，周向地沉積在旋轉(zhuǎn)箱的傾斜周壁上時，在該壁上形成砂層。當(dāng)旋轉(zhuǎn)箱繼續(xù)轉(zhuǎn)動時，沉積在傾斜周壁上的砂層逐漸變厚，然后接觸活動表面，從而使活動表面以旋轉(zhuǎn)箱相同的轉(zhuǎn)向旋轉(zhuǎn)。待處理的砂壓在活動面和傾斜周壁之間，承剪切力和壓力。異物通過剪切力從砂的表面除去。然后，經(jīng)過處理的砂從旋轉(zhuǎn)箱的環(huán)形部分溢流并落下。
現(xiàn)對照以下附圖詳述本發(fā)明。


圖1是本發(fā)明一實施例的剖視圖;
圖2是沿圖1中Ⅱ-Ⅱ線的剖視圖;
圖3是本發(fā)明一實施例的剖視圖;
圖4是沿圖3中Ⅳ-Ⅳ線的剖視圖;
圖5是圖3所示實施例的剖視圖;
圖6是本發(fā)明一實施例的剖視圖;
圖7是沿圖6中Ⅶ-Ⅶ線的剖視圖;
圖8是沿圖6中Ⅷ-Ⅷ線的后視圖。
圖1和2表示本發(fā)明裝置的一個實施例。清除砂表面附著物的裝置具有一圓筒形殼體1。一框架2裝在殼體1的上部。一溜槽3裝在殼體上端。一旋轉(zhuǎn)箱5設(shè)置在殼體內(nèi)。溜槽3具一個口部4，要處理的砂從口部4送入旋轉(zhuǎn)箱5。殼體下端具有一帶排出孔7的圓錐部分6?；顒友b置8裝在框架2上?；顒友b置8包括一對滾輪9，9。每個滾輪9具有一根伸入一個軸承10的軸11，使?jié)L輪9可在軸承10中轉(zhuǎn)動，因而滾輪9的表面15是活動的。
另一框架12也設(shè)在殼體1中，且從殼體中伸出。驅(qū)動裝置20裝在框架12上。驅(qū)動裝置20包括一電機(jī)21，電機(jī)21裝在框架12的一端且具有一輸出軸22。驅(qū)動裝置也包括一個裝在輸出軸22上的滑輪23，一條傳動皮帶24和一個裝在旋轉(zhuǎn)箱5的軸13上的滑輪25。軸13可轉(zhuǎn)動地支承在軸承14內(nèi)，軸承14裝在框架12的另一端。
旋轉(zhuǎn)箱5工作中連接于驅(qū)動裝置20，因而當(dāng)電機(jī)21工作時旋轉(zhuǎn)箱5轉(zhuǎn)動。旋轉(zhuǎn)箱5具有一圓形底板5A，一個從該底板向上向外延伸的傾斜周壁5B，以及一個從傾斜周壁向內(nèi)延伸的環(huán)形部分5C。
活動裝置8的滾輪9和軸承10在傾斜位置上對稱布置，因而使活動裝置8的活動表面15基本平行于旋轉(zhuǎn)箱的傾斜周壁。另外，活動表面也與傾斜周壁5B間隔開來。在每個活動表面和傾斜周壁之間的間隙寬度小于環(huán)形部分5C的寬度。
下面描述裝置的工作。要處理的砂連續(xù)地從溜槽3裝入旋轉(zhuǎn)箱5，同時旋轉(zhuǎn)箱5由驅(qū)動裝置20轉(zhuǎn)動。旋轉(zhuǎn)箱使砂在離心力作用下趨向傾斜周壁5B。如圖2中標(biāo)號S所示，砂周向地沉積在傾斜周壁上。隨著工作的繼續(xù)，砂層S逐漸變厚。當(dāng)砂層的厚度超過活動表面15和傾斜周壁5B內(nèi)面之間的距離時，砂層5B接觸兩滾輪9即活動裝置8的表面15。通過這種摩擦接觸，滾輪9開始與旋轉(zhuǎn)箱5同向轉(zhuǎn)動。當(dāng)工作繼續(xù)時，砂層S變厚，砂從環(huán)形部分5C溢流。因此，砂層S保持等于環(huán)形部分5C寬度的恒定厚度。
在這種狀態(tài)下，砂層S與旋轉(zhuǎn)箱5一起轉(zhuǎn)動。當(dāng)砂層S的一部分趨近活動表面15時，即壓在表面15和傾斜周壁5B之間并同時承受壓力和剪切力。由于這些力的作用，砂表面上的附著物被清除。經(jīng)過處理的砂從環(huán)形部分5C溢流并落下，從殼體1的孔7排出。
當(dāng)砂受壓中承受剪切力時，可有效地清除附著在砂上的異物。另外，與旋轉(zhuǎn)箱5同向轉(zhuǎn)動的活動表面15有利于砂在可活動表面15和旋轉(zhuǎn)箱5的傾斜周壁5B之間通過。從殼體的孔7排出的砂可以經(jīng)過后處理，使異物與砂分離。
壁5B之所以要向外傾斜的原因是要形成環(huán)形砂層S，使砂層沿環(huán)的整個高度有均勻的厚度。如果壁與水平線垂直，那么由于重力的影響，環(huán)形砂層的內(nèi)徑在下部就會小于較高部分。這樣可保證砂層受到活動表面的均勻壓力。
雖然在圖中畫出兩個滾輪，但是也可以使用一個，三個或三個以上的滾輪。另外，活動表面可覆以磨料，使其可研磨砂表面。
現(xiàn)在參閱圖3，4和5描述本發(fā)明裝置的第二實施例。該裝置與上述實施例相似，只有下述差別。第一點不同是活動裝置8的滾輪9和軸承10是在豎直位置布設(shè)的，每個滾輪9有一傾斜表面15基本平行于旋轉(zhuǎn)箱15的傾斜周壁5B。
第二點不同在于，旋轉(zhuǎn)箱5的驅(qū)動裝置20的電機(jī)21的負(fù)載電流可被監(jiān)測并保持在一預(yù)定的值。第三點不同在于，該裝置還包括調(diào)節(jié)活動裝置8位置的調(diào)節(jié)裝置30，因此可以調(diào)節(jié)活動表面15和傾斜周壁5B之間的距離。
當(dāng)活動表面長期使用而磨損時，電機(jī)21的負(fù)載減小，從而使電機(jī)的電流負(fù)載減小。當(dāng)負(fù)載電流小于預(yù)定值時，可使用調(diào)節(jié)裝置30將上述距離調(diào)節(jié)至一適當(dāng)?shù)闹怠?br> 在殼體1的前壁1A和后壁B上固定著多個托架32。一個蓋31放置在托架上。多個導(dǎo)輪33可轉(zhuǎn)動地安裝在托架32上。一軌形件35可移動地裝在導(dǎo)輪33上。螺母36在相應(yīng)于軌形件35的位置固定在后壁1B上。一個一端設(shè)有一手柄38的絲杠37通過螺紋連接于螺母36。絲杠37的另一端通過一接頭(未畫)可轉(zhuǎn)動地連接于軌形件35的一端。軸承10固定在橫桿34上，橫桿34則固定于軌形件35。
通過上述結(jié)構(gòu)，當(dāng)手柄30轉(zhuǎn)動時，軌形件以圖4和5中箭頭的方向移動，從而使磨損的活動表面15移向旋轉(zhuǎn)箱5的傾斜周壁5B，從而將間距保持在預(yù)定值。
在第二實施例中，滾輪可長期使用。另外，由于間距保持不變，除去附著物的過程可均勻一致地進(jìn)行。雖然圖中畫出用于操縱位置調(diào)節(jié)裝置30的絲杠的手柄，但是，絲杠也可由步進(jìn)電機(jī)或類似裝置操縱，步進(jìn)電機(jī)則與驅(qū)動旋轉(zhuǎn)箱5的電機(jī)21配合工作。
現(xiàn)對照附圖6，7和8描述本發(fā)明的第三實施例。該實施例與第一實施例相似，其區(qū)別是該裝置設(shè)有在預(yù)定壓力下將活動表面15壓向旋轉(zhuǎn)箱5的傾斜周壁5B的裝置50。
如圖6和7所示，兩滾輪9通過軸承可轉(zhuǎn)動地安裝在支承件45上。支承件45固定在臂46的端部。臂46的另一端則固定于壓緊裝置50的水平軸53上。軸53，53可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在承軸52，52中并從殼體1伸出。壓緊裝置50還包括轉(zhuǎn)臂54，54和連接于每條轉(zhuǎn)臂54，54的一端的缸55。每條轉(zhuǎn)臂54的另一端固定地連接于相應(yīng)的軸53。由于缸55以預(yù)定的壓力驅(qū)動，使活動表面15壓向旋轉(zhuǎn)箱55的傾斜周壁5B。
由于上述結(jié)構(gòu)，即使活動表面15已磨損，砂層S總是承受相同的壓力。在轉(zhuǎn)臂54，54之間也可使用螺旋壓簧取代缸55。
本專業(yè)技術(shù)人員懂得，本發(fā)明實施中也可不同于上述各實施例，上述實施例只是為了描述的目的，并不是對于本發(fā)明的限定。
權(quán)利要求
1.一種從砂表面清除附著物的裝置，具有一個水平地旋轉(zhuǎn)，用于從砂表面清除附著物的旋轉(zhuǎn)箱(5)，所述旋轉(zhuǎn)箱包括一圓形底板(5A)，一從所述底板端部向上向外延伸的傾斜周壁(5B)，以及從所述傾斜周壁的頂部向內(nèi)延伸的環(huán)形部分(5C)；用于轉(zhuǎn)動所述旋轉(zhuǎn)箱的驅(qū)動裝置(20)；以及具有活動表面(15)的活動裝置(8)，所述活動表面基本平行于所述旋轉(zhuǎn)箱的傾斜周壁且與其間隔開來。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于該裝置具有一殼體(1)，所述旋轉(zhuǎn)箱(5)和活動裝置(8)安裝在殼體(1)上，在旋轉(zhuǎn)箱(5)上方有一溜槽(3)安裝在殼體(5)上，用于將待處理的砂送入所述旋轉(zhuǎn)箱。
3.如權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于在所述殼體下部設(shè)有一個孔(7)，用于排出由旋轉(zhuǎn)箱處理過的砂。
4.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于所述活動裝置(8)包括可繞基本平行于所述旋轉(zhuǎn)箱的傾斜周壁(5B)的軸線旋轉(zhuǎn)的多個滾輪(9)。
5.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于所述活動裝置(8)包括多個可繞豎直軸線轉(zhuǎn)動的滾輪(9)，每個滾輪(9)具有基本平行于所述旋轉(zhuǎn)箱的傾斜周壁(5B)的活動表面(15)。
6.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于在所述傾斜周壁(5B)和所述活動表面(15)之間的距離是可調(diào)節(jié)的。
7.如權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于所述裝置還具有一位置調(diào)節(jié)裝置(30)，用于在朝向和背離所述傾斜周壁(5B)的方向移動所述活動裝置(8)，從而調(diào)節(jié)所述距離。
8.如權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于所述驅(qū)動裝置(20)包括一電機(jī)(21)，所述電機(jī)的負(fù)載電流是可監(jiān)測的，所述距離是按照電機(jī)的負(fù)載電流調(diào)節(jié)的。
9.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于所述裝置還包括壓緊裝置(50)，用于以預(yù)定壓力將活動表面(50)壓向所述旋轉(zhuǎn)箱的傾斜周壁(5B)。
10.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于所述裝置清除附著于型砂的異物。
全文摘要
一種從砂表面清除附著物的裝置包括一旋轉(zhuǎn)箱，用于轉(zhuǎn)動旋轉(zhuǎn)箱的驅(qū)動裝置，以及具有一活動表面的活動裝置。旋轉(zhuǎn)箱包括圓形底板，傾斜周壁和環(huán)形部分?；顒颖砻婊酒叫杏趦A斜周壁且與其間隔開來。旋轉(zhuǎn)箱使砂受離心力而沿傾斜周壁形成砂層。厚度大于活動表面和傾斜周壁間的距離的砂層隨旋轉(zhuǎn)箱轉(zhuǎn)動，從而同時承受壓力和剪切力，以便有效地清除砂表面的附著物。然后，經(jīng)過處理的砂從旋轉(zhuǎn)箱的環(huán)形部分溢流出來。
文檔編號B22C5/04GK1105917SQ9411649
公開日1995年8月2日 申請日期1994年9月24日 優(yōu)先權(quán)日1993年9月24日
發(fā)明者修增野, 嚴(yán)富田, 和春松井, 昭夫磯野, 武彥松本, 毅村田, 之典青木 申請人:新東工業(yè)株式會社