專利名稱：在光學基片上蒸鍍鍍膜的真空鍍膜設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種在光學基片如塑料眼鏡片表面上蒸鍍鍍膜的真空鍍膜設備，光學基片可被夾緊在支架上，支架本身在一個可抽成真空的容器內(nèi)在可更換的蒸發(fā)源上方或下方。
在這種已知的用于在真空中在光學基片尤其是眼鏡片上至少蒸鍍一層鍍膜層的設備中，預定數(shù)量的這種基片在通常蒸鍍多層后，從基片表面在其中經(jīng)受可更換的蒸發(fā)源作用的平面內(nèi)移出，并再次將同樣數(shù)量的基片表面移入此平面中，以便接著同樣為它們蒸鍍一次或多次。
為此例如常用一種可置于真空中的轉臺，在轉臺的圓周上設有多個工位，用于可拆式地固定基片。此設備還至少包括一個與相對的基片表面建立工作聯(lián)系的蒸發(fā)源。其中，每一個工作配備有一個回轉機構，用于可拆式地固定每兩個基片的固定裝置便位于此回轉機構處，在兩個基片之間延伸有一塊擋板。如果在一側的基片表面上已連續(xù)蒸鍍了各個鍍膜層，則通過旋轉轉臺回轉固定裝置，接著蒸鍍另一些基片表面。
但這種設備復雜、昂貴和工作非常緩慢。
此外，還已知一種設備，它采用多個所謂的球形罩作為支架，它們在容器上部呈圓頂狀延伸并可以旋轉，以及，它們有許多，例如總共36個在球形罩表面均勻分布的用于安放基片的夾緊孔。通過回轉每一個球形罩，可以同時轉動多個基片。
若這里也已在一側的基片表面連續(xù)蒸鍍了各鍍膜層，則通過旋轉回轉機構使球形罩回轉，然后蒸鍍另一些基片表面。
然而這些設備已經(jīng)不能滿足今日之要求，因為在每個蒸鍍過程要切斷蒸發(fā)源，并在冷卻后為了一層新的鍍膜必須置入一個新的蒸發(fā)源。在為回轉后的基片表面鍍膜時所有這一切要再次重復。此外，由于多次加熱蒸發(fā)源，這些蒸發(fā)源例如可以是電子束蒸發(fā)器或電阻加熱蒸發(fā)器，所以存在著蒸發(fā)材料分解和生成低氧化物以及由此造成折射值改變的危險。
本申請人在一項同類的專利申請中，對一種采用上述類型的設備為光學基片尤其是眼鏡片或透鏡鍍膜的方法提出了權利要求，按此發(fā)明，總是在為形成一層鍍膜的一個蒸鍍過程中首先蒸鍍夾緊在支架上的基片上面朝蒸發(fā)源的那些表面，然后，在蒸發(fā)源不關閉的情況下，支架帶著基片迅速回轉，現(xiàn)在同樣蒸鍍基片面朝蒸發(fā)源的那些表面，之后進行周期性的更換蒸發(fā)源，以便在一個新的蒸鍍過程中在基片表面鍍上另一層鍍膜。
采用了這些措施后，現(xiàn)在周期性更換蒸發(fā)源減少了一半，因此也減少了蒸發(fā)源的加熱次數(shù)，從而顯著減少了使蒸發(fā)材料分解和生成低氧化物以及由此造成折射值改變的危險。
本發(fā)明的目的是提供一種上述類型的真空鍍膜設備，這種設備允許同時地并在不中斷蒸發(fā)流的情況下快速回轉全部基片。
按本發(fā)明為達到上述目的，使支架由回轉架裝置構成，并有多個圍繞一塊圓形支承板設置的徑向回轉架，它們分別支承在一根臨時可旋轉180°的轉軸上，其中，每一個回轉架包括用于夾緊地固定一個要雙面鍍膜的基片的裝置，或用于固定兩個要單面鍍膜的基片的裝置，以及，在回轉架或轉軸上連接有用于同時回轉全部回轉架的回轉機構。
本發(fā)明一種有利的結構形式在于，回轉機構包括一個圍繞支承板圓周凸起的齒環(huán)，在齒環(huán)中各嚙合一個傳動齒輪，傳動齒輪與回轉架的轉軸以及與另一個可臨時旋轉的相配齒環(huán)在工作上連接起來。
在這里有重要意義的是，此工作上的連接至少可以通過液壓或氣動地實現(xiàn)，并可通過計算機操縱系統(tǒng)控制。
采取了這些措施后，從現(xiàn)在起可以在形成一層鍍膜的一個蒸鍍過程內(nèi)，首先蒸鍍夾緊在支架上的基片面朝蒸發(fā)源的那些表面，接著，在蒸發(fā)源不關閉的情況下，支架帶著基片迅速回轉，現(xiàn)在同樣蒸鍍基片面朝蒸發(fā)源的那些表面，然后，周期性的更換蒸發(fā)源，以便在一個新的蒸鍍過程中在基片表面鍍上另一層鍍膜。由此將周期性更換蒸發(fā)源減少了一半并因而也減少了蒸發(fā)源加熱次數(shù)，從而顯著減少了使蒸發(fā)材料分解和生成低氧化物以及由此造成折射值改變的危險。
下面借助于附圖詳細說明本發(fā)明的實施例。其中

圖1用于蒸鍍多個在回轉架裝置上的光學基片的真空鍍膜設備簡化示意的縱剖面圖；以及圖2按本發(fā)明的圖1所示設備的回轉架裝置的比例放大示意圖。
圖1中舉例表示的用于在光學基片例如塑料眼鏡片10上蒸鍍鍍膜的真空鍍膜設備，包括一個用真空泵2可抽成真空的容器1。
在此容器1上部腔室內(nèi)裝有按本發(fā)明的回轉架裝置3，它有多個(圖中可看到2個)圍繞一塊圓形支承板23設置的徑向回轉架21，它們分別支承在一根可臨時旋轉180°的轉軸22上，其中，每一個回轉架21包括用于夾緊地固定一個要雙面鍍膜的基片的裝置，或用于固定兩個要單面鍍膜的基片的裝置(圖中未表示)。
下面更詳細地說明按本發(fā)明的回轉架裝置3。
在容器1下部表示了一個蒸發(fā)源100，在這里它包括一個帶加熱絲15的電子槍，在加熱后由其射出的電子在聚焦器16中聚合成射線束。電子束例如可以由一個處于負高壓的鎢絲陰極產(chǎn)生，并可通過一個成型文納爾電極預聚焦?，F(xiàn)在此電子束通過偏轉磁場13可轉入一個坩堝17中，蒸發(fā)材料便置于此坩堝內(nèi)。
為了操縱要在真空容器1內(nèi)運動的器具，例如擋板14等，需要一些從外部伸入真空腔內(nèi)的操縱構件(圖中未表示)。由于這種真空蒸鍍設備的結構和工作方式其他方面總的來說是眾所周知的，所以對結構作詳細的介紹便是多余的了。
本發(fā)明的要點首先是，如由圖2可見，回轉架裝置3包括多個圍繞圓形支承板23設置的徑向回轉架21，它們分別支承在一根可臨時旋轉180°的轉軸22上，其中，每一個回轉架21包括用于夾緊地固定一個要雙面鍍膜的基片的裝置，或用于固定兩個要單面鍍膜的基片的裝置，以及，在回轉架(21)或轉軸(22)上連接有同時回轉全部回轉架的回轉機構。
為此，回轉機構包括一個從支承板23圓周凸起的齒環(huán)25，在齒環(huán)25中各嚙合有一個傳動齒輪24，傳動齒輪24與回轉架21的轉軸22以及與另一個可臨時旋轉的相配齒環(huán)26在工作上連接起來。
因此，可以在適當?shù)臅r刻使相配齒環(huán)26相對于齒環(huán)25旋轉，直至使回轉架21帶著它的基片通過各自的傳動齒輪24旋轉180°。這一工作在不到一秒鐘的時間內(nèi)完成，也就是迅速到無需中斷蒸鍍的電子束。
由以上的介紹得到的是一種用于在光學基片上蒸鍍多層鍍膜的真空鍍膜設備，它能滿足當今對此類設備所提出的所有要求。
當然，可以在不離開本發(fā)明構思的情況下對上述設備作出一系列修改。這既可以涉及回轉機構，也可以涉及回轉架和它用于夾緊地固定基片的裝置。此外，通過液壓或氣動地建立工作上的連系以及通過計算機操縱系統(tǒng)對此加以控制也可以有許多類型。
權利要求
1.用于在光學基片如塑料眼鏡片表面蒸鍍鍍膜的真空鍍膜設備，光學基片可被夾緊在支架上，支架本身在一個可抽成真空的容器內(nèi)在可更換的蒸發(fā)源的上方或下方，其特征為支架由回轉架裝置(3)構成，并有多個圍繞一塊圓形支承板(23)設置的徑向回轉架(21)，它們分別支承在一根臨時可旋轉180°的轉軸(22)上，其中，每一個回轉架(21)包括用于夾緊地固定一個要雙面鍍膜的基片的裝置，或用于固定兩個要單面鍍膜的基片的裝置，以及，在回轉架(21)或轉軸(22)上連接有用于同時回轉全部回轉架的回轉機構。
2.按照權利要求1所述的真空鍍膜設備，其特征為回轉機構包括一個從支承板(23)圓周凸起的齒環(huán)(25)，在齒環(huán)(25)中各嚙合一個傳動齒輪(24)，傳動齒輪(24)與回轉架(21)的轉軸(22)以及與另一個可臨時旋轉的相配齒環(huán)(26)在工作上連接起來。
3.按照權利要求2所述的真空鍍膜設備，其特征為此工作上的連接至少可以通過液壓或氣動地實現(xiàn)，并可通過計算機操縱系統(tǒng)控制。
全文摘要
在用于在光學基片如塑料眼鏡片表面上蒸鍍鍍膜的真空鍍膜設備中,光學基片被夾緊在支架上,支架本身在一個可抽成真空的容器內(nèi)在可更換的蒸發(fā)源的上方或下方,支架由回轉架裝置構成,并有多個圍繞一塊圓形支承板(23)設置的徑向回轉架,它們分別支承在一根臨時可旋轉180°的轉軸上,其中,每一個回轉架包括用于夾緊在固定一個要雙面鍍膜的基片的裝置,或用于固定兩個要單面鍍膜的基片的裝置,以及,在回轉架(21)或轉軸(22)上連接有用于同時回轉全部回轉架的回轉機構。
文檔編號C23C14/24GK1170774SQ9711150
公開日1998年1月21日 申請日期1997年5月9日 優(yōu)先權日1996年5月10日
發(fā)明者R·蘇特 申請人:薩蒂斯真空工業(yè)銷售股份公司