專利名稱：一種多用途真空鍍膜機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源-柱狀磁控濺射源鍍膜機。屬于等離子體氣相沉積領(lǐng)域。既能用于表面鍍純金屬膜，也可以用于鍍氮化鈦等化合物膜，是一種多用途的真空鍍膜機。
真空鍍膜機的種類很多，與柱狀鍍膜源相關(guān)的鍍膜機有以下幾種類型單獨安裝柱狀磁控濺射源(簡稱柱狀靶)的鍍膜機、單獨安裝旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源(簡稱柱弧源)的鍍膜機。也有在鍍膜室壁上安裝平面弧源，鍍膜室中央安裝柱狀靶的鍍膜機、在鍍膜室壁上安裝平面弧源，鍍膜室中央安裝柱狀弧源的鍍膜機、還有在鍍膜室壁上安裝平面磁控濺射靶，在鍍膜室中央安裝柱弧源的鍍膜機。尚沒有在一臺鍍膜機中既能安裝柱狀靶又能安裝柱弧源的多用途鍍膜機。
本實用新型公開了一種旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源-旋轉(zhuǎn)磁控柱狀磁控濺射源鍍膜機。其特征是在一臺鍍膜機中既可以安裝旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源又可以安裝旋轉(zhuǎn)磁控柱狀磁控濺射源?？梢詥为毷褂弥鶢罨≡村兊伒然衔锿繉樱挚梢詥为毷褂弥鶢畎性谒芰系鹊蜏鼗纳襄兗兘饘倌?。本實用新型是一種多用途鍍膜機，克服了單獨安裝柱弧源或單獨安裝柱狀靶的鍍膜機只能鍍氮化鈦膜或者只能鍍純金屬膜的不足。
本實用新型是這樣實現(xiàn)的，在鍍膜室的中央可以安裝旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源，也可以安裝旋轉(zhuǎn)磁控柱狀磁控濺射靶。當(dāng)廠家承接了鍍氮化鈦膜的任務(wù)時將柱弧源安裝在鍍膜室的中央，用所配的弧電源產(chǎn)生冷場致弧光放電，工件在弧光放電等離子體條件下反應(yīng)鍍氮化鈦膜，由于弧光放電等離子體密度高，很容易得到絢麗的仿金色澤，鍍膜工藝簡便。當(dāng)接到在塑料等低溫基材上鍍純金屬膜的任務(wù)時，可以將柱弧源拆下?lián)Q上柱狀靶，用所配的磁控濺射電源產(chǎn)生輝光放電，工件在輝放電等離子體條件下鍍純金屬膜。由于輝光放電等離子體密度低，鍍氮化鈦的工藝難度大。但是，被氬離子濺射下來的膜層粒子的能量低，不易使零件升溫。適于在承受溫度低的零件上鍍膜。因此，本實用新型是一種多用途的鍍膜機，對于鍍膜生產(chǎn)廠家擴大生產(chǎn)范圍是非常有利的。
本實用新型的另一個特征是在柱弧源或柱狀靶的管狀靶材中均安裝條形永磁體，永磁體在靶管中做旋轉(zhuǎn)運動，在靶管表面的弧斑軌跡或輝光放電軌跡呈直線狀或曲線狀。靶面刻蝕均勻，靶材利用率高。
圖1是本實用新型的實施例簡圖。由旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源(1)、弧源電源(2)、工件轉(zhuǎn)架(3)、烘烤加熱源(4)、鍍膜室(5)、真空系統(tǒng)(6)、引弧針(7)、工件偏壓電源(8)、進氣系統(tǒng)(9)和旋轉(zhuǎn)磁控柱狀磁控濺射靶(Ⅰ)及靶電源(Ⅱ)組成。
下面結(jié)合鍍膜過程對本實用新型做進一步說明。
鍍氮化鈦膜工件清洗、安裝后開啟真空機組抽真空，對工件進行烘烤加熱、氬離子轟擊凈化，引燃旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源，通入氮氣，施加一定的工件偏壓后在工件表面沉積氮化鈦膜層。獲得預(yù)定的膜厚之后停弧源及氣源、工件旋轉(zhuǎn)機構(gòu)等。
在塑料零件上鍍純金屬膜工件噴底漆并烘干后安裝在鍍膜室中，開啟真空機組抽真空，通入氬氣，開啟旋轉(zhuǎn)磁控柱狀磁控濺射靶鍍鋁等塑料金屬化膜。獲得預(yù)定膜厚之后，停柱狀磁控靶及氣源、工件旋轉(zhuǎn)機構(gòu)等。
權(quán)利要求1．一種多用途真空鍍膜機，其特征是在一臺鍍膜機中既可以安裝旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源又可以安裝旋轉(zhuǎn)磁控柱狀磁控濺射源，可以單獨使用柱孤源鍍氮化鈦等化合物涂層，又可以單獨使用旋轉(zhuǎn)磁控柱狀磁控濺射源鍍純金屬膜，在柱弧源和柱狀靶中均安裝條形永磁體，永磁體在靶管中做旋轉(zhuǎn)運動，靶管表面上的弧斑軌跡或輝光放電軌跡呈直線狀或曲線狀。
2．如權(quán)利要求1所述的一種多用途真空鍍膜機，其特征是在一臺鍍膜機中既可以安裝旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源又可以安裝旋轉(zhuǎn)磁控柱狀磁控濺射源。
3．如權(quán)利要求1所述的一種多用途鍍膜機，其特征是可以單獨使用柱弧源鍍氮化鈦等化合物涂層或單獨使用柱狀靶鍍純金屬膜。
4．如權(quán)利要求1所述的一種多用途真空鍍膜機，其特征是柱狀弧源或柱狀靶的靶管中均安裝條形永磁體，永磁體在靶管中做旋轉(zhuǎn)運動，在靶管表面上的弧斑軌跡或輝光放電軌跡呈直線形或曲線形。
專利摘要本實用新型公開了一種多用途真空鍍膜機。在鍍膜室中央可以安裝旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源,用于鍍氮化鈦等化合物膜,也可以安裝旋轉(zhuǎn)磁控柱狀磁控濺射源,用于在低熔點基材上鍍純金屬膜。是一種多用途真空鍍膜機。在柱弧源和柱狀靶的靶管中安裝的條形永磁體做旋轉(zhuǎn)運動,在靶管表面的弧斑軌跡或輝光放電軌跡呈直線形或曲線形。
文檔編號C23C14/35GK2305408SQ97225988
公開日1999年1月27日 申請日期1997年9月22日 優(yōu)先權(quán)日1997年9月22日
發(fā)明者王福貞 申請人:王福貞