專利名稱：活塞環(huán)槽高頻淬火感應(yīng)器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于金屬熱處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種新型的活塞環(huán)槽高頻淬火感應(yīng)器。
發(fā)動(dòng)機(jī)活塞環(huán)槽，由于空間狹窄，給其上下表面的熱處理工藝帶來(lái)很大困難。國(guó)外有人采用對(duì)整個(gè)活塞進(jìn)行整體軟氮化處理的方法，這樣需要的時(shí)間較長(zhǎng)，容易使活塞變形，對(duì)活塞上的螺紋保護(hù)較為復(fù)雜，而且處理的厚度和硬度都很不理想。激光淬火雖然解決了整體加熱變形問(wèn)題，但是激光頭無(wú)法進(jìn)入環(huán)槽，只能從外向內(nèi)斜射，這樣不僅很難達(dá)到應(yīng)有的機(jī)械性能指標(biāo)，而且容易使環(huán)槽邊緣熔融損壞。
本實(shí)用新型的目的就是要克服上述現(xiàn)有技術(shù)之不足，提供一種改善加熱淬火效果的活塞環(huán)槽高頻淬火感應(yīng)器。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的一種活塞環(huán)槽高頻淬火感應(yīng)器，為具有冷卻水循環(huán)腔的導(dǎo)電體1，其特征在于該導(dǎo)電體1采用U形回路的扁矩形管結(jié)構(gòu)。
為了更好地實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的目的，所述U形回路中間設(shè)有導(dǎo)磁體2。
為了更好地實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的目的，所述U形回路矩形管的一側(cè)設(shè)置兩排分別斜對(duì)上下平面的噴水孔3。
本實(shí)用新型的技術(shù)方案，由于采用針對(duì)活塞環(huán)槽的仿型結(jié)構(gòu)，因而感應(yīng)器可以深入環(huán)槽，便于只對(duì)環(huán)槽上、下內(nèi)表面均勻感應(yīng)加熱；由于在U形回路中設(shè)置了導(dǎo)磁體，因而提高了加熱效果；由于在U形回路矩形管的一側(cè)設(shè)置兩排分別斜對(duì)上下平面的噴水孔，因而可以對(duì)加熱過(guò)的表面及時(shí)噴水均勻淬火，而并不影響對(duì)后續(xù)表面的加熱。


圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例的示意圖。
以下結(jié)合附圖詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型的實(shí)施例。
本實(shí)用新型的活塞環(huán)槽高頻淬火感應(yīng)器，其導(dǎo)電體1為U形回路的扁矩形銅管，銅管內(nèi)腔可通冷卻循環(huán)水、U形回路中間設(shè)有導(dǎo)磁體2，以提高磁路的導(dǎo)磁效果。在U形回路矩形管的一側(cè)設(shè)置上下兩排分別斜對(duì)上下平面的噴水孔3，噴水孔3的噴射方向分別與上下平面成45°。工作時(shí)，電加熱體1探入活塞環(huán)槽內(nèi)，噴水孔3以與感應(yīng)器前進(jìn)方向相反的方向朝活塞環(huán)槽的上下內(nèi)表面噴水。
權(quán)利要求1.一種活塞環(huán)槽高頻淬火感應(yīng)器，為具有冷卻水循環(huán)腔的導(dǎo)電體1，其特征在于該導(dǎo)電體1采用U形回路的扁矩形管結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的活塞環(huán)槽高頻淬火感應(yīng)器，其特征在于所述U形回路中間設(shè)有導(dǎo)磁體2。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的活塞環(huán)槽高頻淬火感應(yīng)器，其特征在于所述U形回路矩形管的一側(cè)設(shè)置兩排分別斜對(duì)上下平面的噴水孔3。
專利摘要本實(shí)用新型的活塞環(huán)槽中、高頻淬火感應(yīng)器,具有冷卻水循環(huán)腔的導(dǎo)電體1,采用U形回路的扁矩形管仿形結(jié)構(gòu),U形回路中間設(shè)有導(dǎo)磁體2,矩形管的一側(cè)設(shè)置兩排分別斜對(duì)上下平面的噴水孔3?？缮钊氕h(huán)槽,便于只對(duì)環(huán)槽上、下內(nèi)表面均勻感應(yīng)加熱,對(duì)加熱過(guò)的表面及時(shí)噴水均勻淬火,不影響對(duì)后續(xù)表面的加熱。
文檔編號(hào)C21D1/42GK2368855SQ9922317
公開(kāi)日2000年3月15日 申請(qǐng)日期1999年3月22日 優(yōu)先權(quán)日1999年3月22日
發(fā)明者王克和, 韓裕樸, 鄭玉林 申請(qǐng)人:王克和, 韓裕樸, 鄭玉林