S型藍寶石的研磨拋光方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及藍寶石加工技術領域，特別是涉及一種S型藍寶石的研磨拋光方法。
【背景技術】
[0002]目前在藍寶石的加工行業(yè)中，使用的傳統(tǒng)散粒慢速研磨存在以下缺點:
一、磨料散置于磨盤上，為了避免磨料飛濺，磨盤的轉速不能太高，因此加工效率很低；
二、磨料在磨盤上是隨機分布的，其分布密度不均，造成對工件研磨切削量不均，工件面形精度不易控制，特別是磨料與工件間的相對運動具有隨機性，這樣也增加了工件面形精度的不確定因素；
三、研磨加工中要嚴格控制冷卻液的流量，以避免沖走磨料，這樣使得冷卻效果變差，容易引起工件升溫，造成加工精度下降；
四、大顆粒磨料起主要切削作用，容易劃傷工件表面；
五、磨料能夠嵌入軟材質的工件表面，影響工件的使用性能；
六、在研磨中磨料之間會產生相互切削，浪費磨料；
七、磨盤在磨損后很難休整。

【發(fā)明內容】

[0003]本發(fā)明主要解決的技術問題是提供一種S型藍寶石的研磨拋光方法，采用了規(guī)則的S型雕刻圖案，確保了研磨拋光過程中研磨液、拋光液或冷卻水都能夠均勻地分布到整個盤面，保證工件精度得到保障，耗材的使用量也得到減少，從而降低了產品成本，同時提高了產品質量，具有很好的推廣和實用價值，能夠產生良好的經濟效益和社會效益。
[0004]為解決上述技術問題，本發(fā)明采用的一個技術方案是:提供一種S型藍寶石的研磨拋光方法，包括加工墊，所述加工墊包括研磨墊、拋光墊或拋光布，所述加工墊表面的雕亥帽案為規(guī)則的帶有從內圓各點發(fā)散出多條S型曲線的刻槽圖案，所述刻槽圖案中的槽寬為 0.3mm~5.0mm，刻槽間距為 2mm~50mm，外徑為 100mm~2000mm，
所述加工墊的雕刻步驟為:
a、采用Autocad軟件繪制好加工墊表面的雕刻圖案；
b、采用Type軟件編輯路徑并輸入CNC加工中心；
C、使用CNC加工中心按照預定的路徑在加工墊上對雕刻圖案進行刻槽；
所述藍寶石的研磨拋光步驟:
A)、研磨過程:
a、將CNC加工中心加工好的研磨墊粘貼在研磨機的上盤與下盤；
b、將游星片放置在下盤研磨墊的相應位置上；
C、將切割好的藍寶石片放在游星片的相應型腔中，游星片與研磨機的齒圈和太陽輪相互配合設置； d、放下上盤啟動機并與下盤進行配合，然后選擇相應的研磨程序進行研磨加工；
B)拋光過程:
a、將CNC加工中心加工好的拋光墊或拋光布粘貼在拋光機的上盤與下盤；
b、將游星片放置在下盤拋光墊或拋光布的相應位置上；
C、將研磨好的藍寶石片放在游星片的相應型腔中，游星片與拋光機的齒圈和太陽輪相互配合設置；
d、放下上盤啟動機并與下盤進行配合，選擇相應的拋光程序進行拋光加工。
[0005]在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述刻槽圖案為帶有從內圓各點發(fā)散出多條S型曲線的同心圓圖案。
[0006]在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述刻槽圖案為帶有從內圓各點發(fā)散出多條S型曲線的螺旋線圖案。
[0007]在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述刻槽圖案為其中的至少一種。
[0008]在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述CNC加工中心包括一雕刻裝置，所述雕刻裝置包括安裝加工墊的機臺、主軸、以及跨設于機臺上的支架，所述機臺上均布有多個直線方形導軌，所述支架上設置有用于控制支架在機臺上沿X軸、Y軸和Z軸運動的行走機構，所述主軸與行走機構連接，所述支架上還設置有雕刻刀，所述雕刻裝置的數控系統(tǒng)與CAD/CAM軟件兼容。
[0009]在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述CNC加工中心中采用的雕刻刀的刀頭直徑為Φ0.3mm?Φ5.0mm0
[0010]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明S型藍寶石的研磨拋光方法采用了規(guī)則的S型雕刻圖案，確保了研磨拋光過程中研磨液、拋光液或冷卻水都能夠均勻地分布到整個盤面，保證工件精度得到保障，耗材的使用量也得到減少，從而降低了產品成本，同時提高了產品質量，具有很好的推廣和實用價值，能夠產生良好的經濟效益和社會效益。
【附圖說明】
[0011]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其它的附圖，其中:
圖1是本發(fā)明的S型藍寶石的研磨拋光方法中實施例一的雕刻圖案結構示意圖；
圖2是本發(fā)明的S型藍寶石的研磨拋光方法中實施例二的雕刻圖案結構示意圖；
圖3是本發(fā)明的S型藍寶石的研磨拋光方法中CNC加工中心的結構示意圖；
附圖中各部件的標記如下:1、機臺，2、支架，3、導軌，4、行走機構，5、雕刻刀。
【具體實施方式】
[0012]下面將對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發(fā)明的一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0013]請參閱圖1至圖3，本發(fā)明實施例包括:
一種S型藍寶石的研磨拋光方法，包括加工墊，所述加工墊包括研磨墊、拋光墊或拋光布，所述加工墊表面的雕刻圖案為規(guī)則的帶有從內圓各點發(fā)散出多條S型曲線的刻槽圖案，所述刻槽圖案中的槽寬為0.3mm~5.0mm，刻槽間距為2mm~50mm，外徑為100mm~2000mm，所述加工墊的雕刻步驟為:
a、采用Autocad軟件繪制好加工墊表面的雕刻圖案；
b、采用Type軟件編輯路徑并輸入CNC加工中心；
C、使用CNC加工中心按照預定的路徑在加工墊上對雕刻圖案進行刻槽；
所述藍寶石的研磨拋光步驟:
A)、研磨過程:
a、將CNC加工中心加工好的研磨墊粘貼在研磨機的上盤與下盤；
b、將游星片放置在下盤研磨墊的相應位置上；
C、將切割好的藍