銻冶煉反射爐配料裝置的制造方法
【專利說(shuō)明】銻冶煉反射爐配料裝置
[0001]
技術(shù)領(lǐng)域
[0002]本發(fā)明涉及到一種銻冶煉反射爐配料裝置。
【背景技術(shù)】
[0003]銻冶煉用反射爐主要工藝為還原熔料銻氧粉和精煉除雜，除去銻氧粉中的硅、砷、鉛等雜質(zhì)，生產(chǎn)出合格的精銻產(chǎn)品。在加料工序中由于銻氧粉從銻氧倉(cāng)中直接放入反射爐內(nèi)，未對(duì)配入的還原煤、純堿進(jìn)行攪拌，產(chǎn)生一系列問(wèn)題:一是反射爐內(nèi)的銻氧粉與熔劑接觸不均勻，銻氧粉與還原煤接觸多的部分還原后結(jié)塊，與還原煤接觸少的部分熔料慢，銻氧粉與純堿接觸多的部分熔料快，與純堿接觸少的部分熔料慢；二是在加銻氧粉時(shí)，由于反射爐內(nèi)溫度高，從銻氧倉(cāng)內(nèi)直接放料加入爐內(nèi)，會(huì)造成銻氧粉瞬間下料量大，銻氧粉滿出反射爐進(jìn)料口，造成銻氧粉向外跑冒損失；三是在加料時(shí)銻氧粉瞬間下料與反射爐爐內(nèi)高溫熔融液體接觸，造成銻氧粉飛揚(yáng)，產(chǎn)生銻氧粉跑冒損失；四是銻氧粉直接從銻氧倉(cāng)放入反射爐內(nèi)，未對(duì)入爐銻氧粉進(jìn)行計(jì)量，對(duì)生產(chǎn)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確度得不到保證。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種配料計(jì)量準(zhǔn)確和均勻攪拌的銻冶煉反射爐配料裝置。
[0005]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種銻冶煉反射爐配料裝置，包括銻氧倉(cāng)、振動(dòng)器、閥門、進(jìn)料斗、反射爐進(jìn)料口和反射爐，所述銻氧倉(cāng)與所述進(jìn)料斗之間設(shè)有計(jì)量斗。
[0006]所述計(jì)量斗下設(shè)有2個(gè)螺旋攪拌機(jī)。
[0007]所述計(jì)量斗3與所述螺旋攪拌機(jī)5之間設(shè)有導(dǎo)流裝置16。
[0008]所述螺旋攪拌機(jī)5，6內(nèi)設(shè)有不銹鋼螺旋片51，61。
[0009]所述螺旋攪拌機(jī)5，6的內(nèi)壁上設(shè)有襯板15。
[0010]所述進(jìn)料斗12上部設(shè)有收塵管道17。
[0011]所述收塵管道17上設(shè)有閥門18。
[0012]所述計(jì)量斗3上設(shè)有計(jì)量模塊4。
[0013]本發(fā)明的有益效果是:
1、為改變銻氧粉計(jì)量問(wèn)題，在銻氧倉(cāng)與進(jìn)料斗之間加裝計(jì)量斗，可以采取自動(dòng)計(jì)量，達(dá)到設(shè)定重量后，自動(dòng)關(guān)閉銻氧倉(cāng)閥門，銻氧倉(cāng)振動(dòng)器停止振動(dòng)；也可以采取手動(dòng)計(jì)量，通過(guò)控制銻氧倉(cāng)閥門來(lái)控制下料量；
2、銻氧粉在計(jì)量斗內(nèi)稱重之后，手動(dòng)或電動(dòng)打開計(jì)量斗閥門，進(jìn)入螺旋攪拌機(jī)；
3、還原煤通過(guò)手推車計(jì)量、純堿或其它袋裝熔劑通過(guò)袋裝數(shù)量計(jì)量，計(jì)量后的入爐物料可根據(jù)規(guī)定配比進(jìn)行添加，實(shí)現(xiàn)輔助材料的精準(zhǔn)控制； 4、銻氧粉、還原煤、純堿等熔劑進(jìn)入螺旋機(jī)后分別通過(guò)一級(jí)、二級(jí)螺旋機(jī)進(jìn)行攪拌，兩級(jí)螺旋機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)均勻攪拌的目的；
5、螺旋機(jī)內(nèi)部襯麻石或耐堿性、耐摩擦的襯板，能夠有效的保護(hù)螺旋機(jī)外壁，延長(zhǎng)螺旋機(jī)的使用壽命；
6、螺旋機(jī)內(nèi)的螺旋片采用耐腐蝕、耐摩擦，剛性好的不銹鋼材質(zhì)制作；
7、在計(jì)量斗與螺旋機(jī)之間安裝導(dǎo)流裝置，在正常使用時(shí)，將計(jì)量斗內(nèi)的銻氧粉往螺旋機(jī)內(nèi)加入，一旦螺旋機(jī)出現(xiàn)故障，可以將計(jì)量斗內(nèi)的銻氧粉直接往進(jìn)料斗內(nèi)加入；
8、為防止在大量加入銻氧粉時(shí)，因?yàn)檫M(jìn)料位置的高差造成銻氧粉飛揚(yáng)，在進(jìn)料斗上部安裝收塵管道，收塵管道直接與生產(chǎn)主抽風(fēng)管道連接；
9、在收塵管道加裝閥門，不加料時(shí)關(guān)閉閥門，加料時(shí)再打開閥門，盡量減小對(duì)主抽風(fēng)管道的影響；
10、螺旋機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度可通過(guò)調(diào)節(jié)電動(dòng)機(jī)頻率控制，在進(jìn)料量大時(shí)調(diào)高電動(dòng)機(jī)頻率，加快轉(zhuǎn)速，進(jìn)料量小時(shí)，同理進(jìn)行調(diào)節(jié)；
11、經(jīng)過(guò)攪拌后的銻氧粉、還原煤、純堿等入爐物料，通過(guò)進(jìn)料斗和反射爐加料口加入反射爐爐內(nèi)；
12、對(duì)于部分固體顆粒狀的入爐物料可以直接通過(guò)進(jìn)料斗和反射爐加料口加入反射爐爐內(nèi)；
13、該裝置實(shí)現(xiàn)入爐銻氧粉計(jì)量和均勻攪拌，杜絕下料時(shí)銻氧粉等物料的飛揚(yáng)。
【附圖說(shuō)明】
[0014]附圖是本發(fā)明銻冶煉反射爐配料裝置的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
[0016]參見(jiàn)附圖:一種銻冶煉反射爐配料裝置，包括銻氧倉(cāng)1、振動(dòng)器9、閥門2、進(jìn)料斗12、反射爐進(jìn)料口 13和反射爐8，在銻氧倉(cāng)I與進(jìn)料斗12之間設(shè)有計(jì)量斗3。計(jì)量斗3上設(shè)有計(jì)量模塊4。在計(jì)量斗3下設(shè)有2個(gè)螺旋攪拌機(jī)5、6。計(jì)量斗3與螺旋攪拌機(jī)5之間設(shè)有一級(jí)旋轉(zhuǎn)進(jìn)料口 10，螺旋攪拌機(jī)5與螺旋攪拌機(jī)6之間設(shè)有二級(jí)旋轉(zhuǎn)進(jìn)料口 7，螺旋攪拌機(jī)6的右側(cè)設(shè)有旋轉(zhuǎn)下料口 11。
[0017]在計(jì)量斗3與螺旋攪拌機(jī)5之間增設(shè)導(dǎo)流裝置16。一旦螺旋攪拌機(jī)出現(xiàn)故障，可以將計(jì)量斗內(nèi)的銻氧粉直接往進(jìn)料斗內(nèi)加。在螺旋攪拌機(jī)5、6內(nèi)設(shè)有不銹鋼螺旋片51、61。螺旋攪拌機(jī)5、6的內(nèi)壁上設(shè)有襯板15，螺旋機(jī)內(nèi)部襯麻石或耐堿性、耐摩擦的襯板，能夠有效的保護(hù)螺旋機(jī)外壁，延長(zhǎng)螺旋機(jī)的使用壽命。
[0018]在進(jìn)料斗12上部設(shè)有收塵管道17，因?yàn)檫M(jìn)料位置存在高差，能有效防止在大量加入銻氧粉時(shí)造成銻氧粉的飛揚(yáng)。
[0019]在收塵管道17上設(shè)有閥門18，不加料時(shí)關(guān)閉閥門，加料時(shí)再打開閥門，盡量減小對(duì)主抽風(fēng)管道的影響。
[0020]操作時(shí)，銻氧粉等物料經(jīng)銻氧倉(cāng)I的閥門2進(jìn)入計(jì)量斗3內(nèi)，經(jīng)計(jì)量斗3準(zhǔn)確計(jì)量后進(jìn)入螺旋攪拌機(jī)5、6內(nèi)，經(jīng)螺旋攪拌機(jī)5、6的兩次攪拌后，物料經(jīng)進(jìn)料斗12落入反射爐8。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種銻冶煉反射爐配料裝置，包括銻氧倉(cāng)(I)、振動(dòng)器(9)、閥門(2)、進(jìn)料斗(12)、反射爐進(jìn)料口( 13)和反射爐(8)，其特征是:所述銻氧倉(cāng)(I)與所述進(jìn)料斗(12)之間設(shè)有計(jì)量斗(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銻冶煉反射爐配料裝置，其特征是:所述計(jì)量斗(3)下設(shè)有2個(gè)螺旋攪拌機(jī)(5，6)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的銻冶煉反射爐配料裝置，其特征是:所述計(jì)量斗(3)與所述螺旋攪拌機(jī)(5)之間設(shè)有導(dǎo)流裝置(16)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的銻冶煉反射爐配料裝置，其特征是:所述螺旋攪拌機(jī)(5，6)內(nèi)設(shè)有不銹鋼螺旋片(51，61)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的銻冶煉反射爐配料裝置，其特征是:所述螺旋攪拌機(jī)(5，6)的內(nèi)壁上設(shè)有襯板(15)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的銻冶煉反射爐配料裝置，其特征是:所述進(jìn)料斗(12)上部設(shè)有收塵管道(17)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的銻冶煉反射爐配料裝置，其特征是:所述收塵管道(17)上設(shè)有閥門(18)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的銻冶煉反射爐配料裝置，其特征是:所述計(jì)量斗(3)上設(shè)有計(jì)量模塊(4)。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種銻冶煉反射爐配料裝置，包括銻氧倉(cāng)（1）、振動(dòng)器（9）、閥門（2）、進(jìn)料斗（12）、反射爐進(jìn)料口（13）和反射爐（8），銻氧倉(cāng)（1）與進(jìn)料斗之間設(shè)有計(jì)量斗（3）,計(jì)量斗下設(shè)有2個(gè)螺旋攪拌機(jī)（5，6）。采用上述方式方法制成的銻冶煉反射爐配料裝置具有配料計(jì)量準(zhǔn)確和均勻攪拌的優(yōu)點(diǎn)。
【IPC分類】F27D3-00, C22B30-02
【公開號(hào)】CN104561603
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201310479615
【發(fā)明人】李羽, 黃安全, 肖軍華
【申請(qǐng)人】湖南東港銻品有限公司
【公開日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2013年10月15日