一種線性蒸發(fā)源的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明有關(guān)一種蒸發(fā)源，特別是指一種能保證蒸鍍膜厚度均勻的線性蒸發(fā)源。
【背景技術(shù)】
[0002]在OLED (有機(jī)發(fā)光二極管)制作工藝中，隨著蒸鍍基板尺寸的變大，為了保證蒸鍍膜厚度均勻性，同時(shí)兼顧到材料利用率的提升，蒸鍍?cè)O(shè)備使用的蒸發(fā)源已由原來(lái)的點(diǎn)源(point source)更換為線性源(linear source)ο
[0003]如圖1與圖2所示，目前使用的線性源一般由坩禍I和設(shè)于坩禍I上方的多個(gè)噴嘴2組成，坩禍I與噴嘴2外周緣設(shè)有加熱絲3，通過(guò)對(duì)坩禍I進(jìn)行加熱，使其中的蒸鍍材料變?yōu)檎羝?，在坩禍I內(nèi)部均勻后蒸汽從噴嘴2噴出至基板上成膜。
[0004]目前的線性蒸發(fā)源因加熱蒸鍍材料與蒸汽混合同時(shí)在坩禍中進(jìn)行，蒸汽混合均一化的空間有限，容易出現(xiàn)材料蒸汽還沒(méi)有來(lái)得及均一化就已經(jīng)從噴嘴噴出，進(jìn)而導(dǎo)致蒸鍍膜厚度均勻性變差。尤其是剛加滿材料的坩禍，可用于材料蒸汽均衡壓力的空間更為有限，對(duì)蒸鍍膜厚度均勻性影響更大。且目前的蒸發(fā)源的加熱絲為分段式加熱，加熱方式復(fù)雜。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]有鑒于此，本發(fā)明的主要目的在于提供一種能使蒸鍍膜厚度均勻的線性蒸發(fā)源。
[0006]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供一種線性蒸發(fā)源，其包括用于容置蒸鍍材料的加熱腔、位于所述加熱腔上方用于混合蒸鍍材料蒸汽的混合腔，及用于連通所述加熱腔和混合腔的通道；所述混合腔一端與所述加熱腔通過(guò)所述通道導(dǎo)通，另一端設(shè)有多個(gè)用于噴射所述蒸鍍材料蒸汽的噴嘴；所述加熱腔、混合腔、通道及噴嘴外圍分別設(shè)有加熱器。
[0007]所述通道為多個(gè)。
[0008]多個(gè)所述通道均勻排列設(shè)置在所述加熱腔和混合腔之間。
[0009]所述通道內(nèi)設(shè)有能透過(guò)所述蒸鍍材料蒸汽的中板，所述中板卡固在所述通道內(nèi)壁。
[0010]所述中板上設(shè)有多個(gè)通孔。
[0011]所述中板的邊緣為鋸齒形狀。
[0012]所述通道上設(shè)有控制流經(jīng)的所述蒸鍍材料蒸汽流通速度與流量的閥門(mén)。
[0013]所述加熱器為均勻環(huán)繞在所述加熱腔、混合腔、通道或噴嘴外圍的加熱絲。
[0014]所述加熱腔、混合腔、通道及噴嘴外圍的加熱絲為一體成型。
[0015]所述加熱腔、混合腔、通道及噴嘴外圍的加熱器為加熱片。
[0016]本發(fā)明的線性蒸發(fā)源因蒸鍍材料的加熱和蒸鍍材料蒸汽的混合在兩個(gè)獨(dú)立的空間中進(jìn)行，能夠控制蒸鍍膜厚度具有更好的均勻性，且設(shè)于加熱腔、混合腔、通道及噴嘴外圍的加熱器可同時(shí)進(jìn)行加熱，無(wú)需分段加熱，簡(jiǎn)化了加熱方式。
【附圖說(shuō)明】
[0017]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中線性蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為圖1的側(cè)視圖；
圖3為本發(fā)明線性蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖4為圖3的側(cè)視圖；
圖5為本發(fā)明線性蒸發(fā)源另一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖6為圖5的側(cè)視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018]為便于對(duì)本發(fā)明的結(jié)構(gòu)及達(dá)到的效果有進(jìn)一步的了解，現(xiàn)結(jié)合附圖并舉較佳實(shí)施例詳細(xì)說(shuō)明如下。
[0019]如圖3與圖4所示，本發(fā)明的線性蒸發(fā)源包括加熱腔4、位于加熱腔4上方的混合腔5及用于連通加熱腔4與混合腔5的通道6，該混合腔5 —端與加熱腔4通過(guò)通道6導(dǎo)通，另一端設(shè)有多個(gè)噴嘴50，該加熱腔4、混合腔5、通道6及噴嘴50外圍分別設(shè)有加熱器?。
[0020]本發(fā)明的線性蒸發(fā)源在對(duì)基板進(jìn)行蒸鍍時(shí)，將蒸鍍材料放置于加熱腔4中，加熱腔4與混合腔5及通道6及噴嘴50外圍的加熱器7分別對(duì)相對(duì)應(yīng)部分進(jìn)行加熱，蒸鍍材料在加熱腔4中熔融并蒸發(fā)為蒸鍍材料蒸汽，或蒸鍍材料直接氣化為蒸鍍材料蒸汽，蒸鍍材料蒸汽由通道6進(jìn)入混合腔5中，由于在混合腔5中只進(jìn)行蒸鍍材料蒸汽的混合，因此蒸鍍材料蒸汽可在混合腔5中能夠均衡壓力，混合均勻后的蒸鍍材料蒸汽由噴嘴50噴出可保證在基板上形成厚度均勻的蒸鍍膜，以對(duì)基板完成蒸鍍。本發(fā)明中的多個(gè)噴嘴50可均勻設(shè)于混合腔5上，以便于蒸鍍材料蒸汽可均勻由噴嘴50噴出，形成厚度更為均勻的蒸鍍膜。
[0021]本發(fā)明在加熱腔4與混合腔5之間的通道6內(nèi)可設(shè)有中板60，該中板60卡固在通道6內(nèi)壁，該中板60上設(shè)有多個(gè)通孔，當(dāng)蒸鍍材料在加熱腔4中恪融后，中板60可防止未蒸發(fā)的熔液噴濺進(jìn)入混合腔5。同時(shí)加熱腔4中的蒸鍍材料蒸汽在進(jìn)入混合腔5前遇到中板60，中板60對(duì)蒸鍍材料蒸汽有一定阻擋作用，因此中板60可對(duì)蒸鍍材料蒸汽進(jìn)行初步均勻混合，并在混合腔5中再進(jìn)行二次均勻混合，可進(jìn)一步保證基板上形成的蒸鍍膜厚度均勻。本發(fā)明的中板60邊緣也可為鋸齒形狀，蒸鍍材料蒸汽可由中板60與通道6內(nèi)壁之間的鋸齒空隙進(jìn)入混合腔5，中板60可防止未蒸發(fā)的熔液噴濺進(jìn)入混合腔5，并對(duì)蒸鍍材料蒸汽進(jìn)入混合腔5之前進(jìn)行初步均勻混合。
[0022]如圖5與圖6所示，本發(fā)明中加熱腔4與混合腔5之間的通道6可為多個(gè)，均勻排列于加熱腔4與混合腔5之間，各通道6上可分別設(shè)有閥門(mén)61，通過(guò)閥門(mén)61可以控制流經(jīng)各通道6的蒸鍍材料蒸汽的流通速度與流量，以便使混合腔5中的蒸鍍材料蒸汽更加均一化。例如，在加熱腔5中對(duì)應(yīng)某一通道處的蒸鍍材料較多，產(chǎn)生的蒸鍍材料蒸汽也多，流經(jīng)該通道內(nèi)的蒸鍍材料蒸汽速度快、流量大，可通過(guò)控制該通道上的閥門(mén)控制流經(jīng)該通道的蒸鍍材料蒸汽速度與流量。
[0023]本發(fā)明中的加熱器7可為均勻環(huán)繞在加熱腔4、混合腔5、通道6及噴嘴50外圍的加熱絲，因此可對(duì)加熱腔4中的蒸鍍材料及流經(jīng)通道6、混合腔5與噴嘴50處的蒸鍍材料蒸汽進(jìn)行充分均勻地加熱，以便控制基板蒸鍍膜厚度的均勻性。本發(fā)明中的加熱器7也可為加熱片，分別對(duì)對(duì)應(yīng)的加熱腔4、混合腔5、通道6及噴嘴50進(jìn)行加熱，并可根據(jù)實(shí)際情況調(diào)節(jié)各加熱片的溫度。
[0024]本發(fā)明的線性蒸發(fā)源因蒸鍍材料的加熱和蒸鍍材料蒸汽的混合分別在加熱腔4與混合腔5兩個(gè)獨(dú)立的空間中進(jìn)行，能夠控制蒸鍍膜厚度具有更好的均勻性。同時(shí)本發(fā)明中加熱腔4與混合腔5及通道6及噴嘴50外周緣各處的加熱絲可為整體的構(gòu)造，無(wú)需分段加熱，簡(jiǎn)化了加熱方式。
[0025]以上所述，僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非用于限定本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種線性蒸發(fā)源，其特征在于，其包括用于容置蒸鍍材料的加熱腔、位于所述加熱腔上方用于混合蒸鍍材料蒸汽的混合腔，及用于連通所述加熱腔和混合腔的通道；所述混合腔一端與所述加熱腔通過(guò)所述通道導(dǎo)通，另一端設(shè)有多個(gè)用于噴射所述蒸鍍材料蒸汽的噴嘴；所述加熱腔、混合腔、通道及噴嘴外圍分別設(shè)有加熱器。
2.如權(quán)利要求1所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述通道為多個(gè)。
3.如權(quán)利要求2所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，多個(gè)所述通道均勻排列設(shè)置在所述加熱腔和混合腔之間。
4.如權(quán)利要求1所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述通道內(nèi)設(shè)有能透過(guò)所述蒸鍍材料蒸汽的中板，所述中板卡固在所述通道內(nèi)壁。
5.如權(quán)利要求4所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述中板上設(shè)有多個(gè)通孔。
6.如權(quán)利要求4所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述中板的邊緣為鋸齒形狀。
7.如權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述通道上設(shè)有控制流經(jīng)的所述蒸鍍材料蒸汽流通速度與流量的閥門(mén)。
8.如權(quán)利要求1所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述加熱器為均勻環(huán)繞在所述加熱腔、混合腔、通道或噴嘴外圍的加熱絲。
9.如權(quán)利要求8所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述加熱腔、混合腔、通道及噴嘴外圍的加熱絲為一體成型。
10.如權(quán)利要求8所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述加熱腔、混合腔、通道及噴嘴外圍的加熱器為加熱片。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種線性蒸發(fā)源，其包括用于容置蒸鍍材料的加熱腔、位于該加熱腔上方用于混合蒸鍍材料蒸汽的混合腔，及用于連通所述加熱腔和混合腔的通道；該混合腔一端與所述加熱腔通過(guò)所述通道導(dǎo)通，另一端設(shè)有多個(gè)用于噴射所述蒸鍍材料蒸汽的噴嘴，該加熱腔、該混合腔、該通道及該噴嘴外圍分別設(shè)有加熱器。本發(fā)明的線性蒸發(fā)源因蒸鍍材料的加熱和材料蒸汽的混合在兩個(gè)獨(dú)立的空間中進(jìn)行，能夠控制蒸鍍膜厚度具有更好的均勻性。
【IPC分類】C23C14-24
【公開(kāi)號(hào)】CN104561905
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410831691
【發(fā)明人】彭兆基, 張伸福
【申請(qǐng)人】昆山國(guó)顯光電有限公司
【公開(kāi)日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2014年12月29日