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成膜裝置、載體和制造成膜基板的方法

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成膜裝置、載體和制造成膜基板的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及成膜裝置、載體和制造成膜基板的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]硬盤(pán)裝置等中使用的磁性記錄介質(zhì)例如具有晶種膜、基膜、磁性記錄膜、保護(hù)膜和潤(rùn)滑劑膜依次形成于非磁性基板的一個(gè)或兩個(gè)表面的結(jié)構(gòu),且通常,這種磁性記錄介質(zhì)通過(guò)在輸送保持基板的載體的同時(shí)執(zhí)行成膜工序的連續(xù)式成膜裝置制造(例如,專利文獻(xiàn)I和專利文獻(xiàn)2)。
[0003]專利文獻(xiàn)I披露的連續(xù)式成膜裝置具有執(zhí)行成膜工序的多個(gè)室通過(guò)閘閥連接的結(jié)構(gòu)。在每個(gè)室中,圍繞水平軸線轉(zhuǎn)動(dòng)的多個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)體被成排地設(shè)置于載體的輸送方向上,且載體由多個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)體引導(dǎo)。此外,在每個(gè)室中,圍繞鉛直軸轉(zhuǎn)動(dòng)的多個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)體被成排地設(shè)置于載體的輸送方向上,且載體也由多個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)體弓I導(dǎo)。
[0004]另一方面,載體包括多個(gè)保持件,每個(gè)保持件設(shè)置有用于將基板配置于其內(nèi)部的孔部以及可彈性變形且圍繞孔部安裝的多個(gè)夾子。保持件可拆裝地保持安裝于夾子內(nèi)部的基板。
[0005]同樣,在專利文獻(xiàn)2披露的連續(xù)式的成膜裝置中,提供了進(jìn)行成膜工序的多個(gè)室通過(guò)門(mén)連接的結(jié)構(gòu)。同樣在該成膜裝置中,在輸送保持基板的載體的同時(shí)進(jìn)行成膜工序。在成膜裝置中,在通過(guò)利用磁力等將載體的側(cè)表面壓抵軌道的側(cè)表面的同時(shí)輸送載體。因此,在抑制載體的振動(dòng)的同時(shí)輸送載體。
[0006]引用列表
[0007]專利文獻(xiàn)
[0008]專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)平8-274142號(hào)公報(bào)
[0009]專利文獻(xiàn)2:美國(guó)專利N0.8382965

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]發(fā)明要解決的問(wèn)題
[0011]附帶地,如上述描述,在利用轉(zhuǎn)動(dòng)體引導(dǎo)載體的情況下,容易導(dǎo)致載體的振動(dòng)。在設(shè)置有轉(zhuǎn)動(dòng)體的構(gòu)造中,每次載體到達(dá)轉(zhuǎn)動(dòng)體時(shí),轉(zhuǎn)動(dòng)體和載體彼此碰撞,由此載體振動(dòng)。如果載體以這種方式振動(dòng),則由載體保持的基板容易掉落。此外,載體的振動(dòng)引起載體和周邊組件之間的磨擦,且由于磨擦產(chǎn)生磨擦顆粒。此時(shí),磨擦顆粒導(dǎo)致產(chǎn)品質(zhì)量的下降。
[0012]另一方面,如上述描述,在利用磁力等使載體的側(cè)表面壓抵軌道的側(cè)表面的同時(shí)輸送載體的構(gòu)造中,相比于上述利用轉(zhuǎn)動(dòng)體的構(gòu)造抑制了載體的振動(dòng)。然而,在利用磁力等使載體壓抵軌道的情況下,結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜。此外,在這種情況下,存在載體的輸送變得不穩(wěn)定的可能性,從而使得載體難以在磁場(chǎng)強(qiáng)度大的位置被輸送,而在磁場(chǎng)強(qiáng)度小的位置容易移動(dòng)。
[0013]考慮到傳統(tǒng)情況而提出本發(fā)明的目的,且本發(fā)明的目的在于抑制輸送載體時(shí)產(chǎn)生的載體振動(dòng),由此穩(wěn)定地輸送載體。
[0014]用于解決問(wèn)題的方案
[0015]本發(fā)明所應(yīng)用到的成膜裝置包括:引導(dǎo)機(jī)構(gòu),所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)在載體保持基板的情況下引導(dǎo)被沿著輸送路徑輸送的所述載體,在所述基板上進(jìn)行成膜處理,其中,所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)包括:第一支撐面,所述第一支撐面被配置于所述輸送路徑的一側(cè)方,并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分;以及第二支撐面,所述第二支撐面被配置于隔著所述輸送路徑與所述第一支撐面相對(duì)的對(duì)向側(cè),并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分,其中,所述第一支撐面朝向所述第二支撐面所在側(cè)下降地傾斜設(shè)置,并且所述第二支撐面朝向所述第一支撐面所在側(cè)下降地傾斜設(shè)置。
[0016]這里,所述第一支撐面被配置于所述輸送路徑的所述一側(cè)方,且沿著所述輸送路徑配置以從下方支撐并引導(dǎo)在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分,且所述第二支撐面被配置于所述輸送路徑的另一側(cè)方,且沿著所述輸送路徑配置以從下方支撐并引導(dǎo)在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分。
[0017]此外,所述載體的待由所述第一支撐面支撐的一部分以及所述載體的待由所述第二支撐面支撐的一部分均設(shè)置有轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件。在這種情況下,能夠平穩(wěn)地輸送載體。
[0018]此外,待由所述第一支撐面支撐的部分設(shè)置有第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件,且待由所述第二支撐面支撐的部分設(shè)置有第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件,所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng),且所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng),所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被配置成使得,其轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且其轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述另一端被定位于所述一側(cè)方,且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸相對(duì)于水平方向傾斜,且所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被配置成使得,其轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且其轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述另一端被定位于所述另一側(cè)方,且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸相對(duì)于水平方向傾斜。在這種情況下,易于沿著所述第一支撐面配置所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的外周面,且易于沿著所述第二支撐面配置所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的外周面,因此,能夠更穩(wěn)定地通過(guò)所述第一支撐面支撐所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件且通過(guò)所述第二支撐面支撐所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件。
[0019]此外,所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件和所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件均包括圓筒狀的轉(zhuǎn)動(dòng)體,所述第一支撐面從下方與所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的所述轉(zhuǎn)動(dòng)體的外周面接觸,以支撐所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件,并且所述第二支撐面從下方與所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的所述轉(zhuǎn)動(dòng)體的外周面接觸,以支撐所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件。在這種情況下,能夠減少由于所述第一支撐面和所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件之間的磨擦產(chǎn)生的磨擦顆粒以及由于所述第二支撐面和所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件之間的磨擦產(chǎn)生的磨擦顆粒。
[0020]此外,所述載體的待由所述第一支撐面支撐的部分以及所述載體的待由所述第二支撐面支撐的部分都位于所述載體的重心的上方。在這種情況下,能夠減小所述載體的上部的振動(dòng)。
[0021]在本發(fā)明為載體的情況下,應(yīng)用本發(fā)明的載體是如下載體,待進(jìn)行成膜處理的基板安裝于該載體,該載體在由設(shè)置于輸送路徑的一側(cè)方的引導(dǎo)部以及設(shè)置于所述輸送路徑的另一側(cè)方的引導(dǎo)部引導(dǎo)的同時(shí)被沿著所述輸送路徑輸送,其中,所述輸送路徑設(shè)置于成膜裝置中,所述載體包括:載體主體,所述基板安裝于所述載體主體,該載體主體在所述成膜裝置中的所述輸送路徑上被輸送;第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件,所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被設(shè)置成能夠圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng),當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí),設(shè)置于所述一側(cè)方的引導(dǎo)部在從下方支撐所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的同時(shí)引導(dǎo)所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件;和第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件,所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被設(shè)置成能夠圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng),當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí),設(shè)置于所述另一側(cè)方的引導(dǎo)部在從下方支撐所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的同時(shí)引導(dǎo)所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件;其中,所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被配置成使得,當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí),所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且所述另一端被定位于所述一側(cè)方,且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸相對(duì)于水平方向傾斜,且所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被配置成使得,當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí),所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且所述另一端被定位于所述另一側(cè)方,且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸相對(duì)于水平方向傾斜。
[0022]這里,所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件和所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被設(shè)置成使得,當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí),所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件和所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的設(shè)定位置在輸送方向上彼此不同。這種情況下,與當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí),所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件和所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的設(shè)定位置在輸送方向上相同的情況相比,能夠減小所述載體在垂直于所述輸送方向的方向上的厚度。
[0023]在本發(fā)明為制造成膜基板的方法的情況下,應(yīng)用本發(fā)明的制造成膜基板的方法是如下的方法:輸送保持基板的載體且在所述基板上進(jìn)行成膜處理以制造成膜基板,所述基板是待進(jìn)行所述成膜處理的基板,所述方法包括:當(dāng)輸送所述載體時(shí),通過(guò)引導(dǎo)機(jī)構(gòu)引導(dǎo)所述載體,所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)引導(dǎo)所述載體以沿著預(yù)定的輸送路徑輸送所述載體,其中,所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)包括:第一支撐面,所述第一支撐面被配置于所述輸送路徑的一側(cè)方,并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分;以及第二支撐面,所述第二支撐面被配置于隔著所述輸送路徑與所述第一支撐面相對(duì)的對(duì)向側(cè),并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分,其中,所述第一支撐面朝向所述第二支撐面所在側(cè)下降地傾斜設(shè)置,并且所述第二支撐面朝向所述第一支撐面所在側(cè)下降地傾斜設(shè)置。
[0024]發(fā)明的效果
[0025]根據(jù)本發(fā)明,能夠在穩(wěn)定地輸送載體的同時(shí),抑制輸送載體時(shí)產(chǎn)生的載體振動(dòng)。
【附圖說(shuō)明】
[0026]圖1是通過(guò)磁性記錄介質(zhì)制造裝置制造的磁性記錄介質(zhì)的截面圖;
[0027]圖2是用于圖示制造裝置的圖;
[0028]圖3是載體的立體圖;
[0029]圖4是示出從圖3的箭頭IV的方向觀察時(shí)位于圖3的
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