高強(qiáng)度鈦銅的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及適合作為FPC連接器或自動(dòng)聚焦相機(jī)模組等電子零件用彈簧材的高 強(qiáng)度鈦銅。
【背景技術(shù)】
[0002] 近年來(lái)，以便攜終端等為代表的電子設(shè)備的小型化日益進(jìn)展，因而在其中使用的 連接器窄間距化及低高度化的趨勢(shì)顯著。越是小型的連接器針寬越窄，為較小地折疊的加 工形狀，所以對(duì)于使用的部件，要求用來(lái)得到需要的彈簧性的高強(qiáng)度。這一點(diǎn)，含有鈦的銅 合金（以下稱(chēng)作"鈦銅"）由于強(qiáng)度比較高、在應(yīng)力緩和特性方面也在銅合金中最好，所以從 很久以來(lái)就被作為特別要求強(qiáng)度的信號(hào)類(lèi)端子用部件使用。
[0003] 鈦銅是時(shí)效硬化型的銅合金。通過(guò)溶體處理形成作為溶質(zhì)原子的Ti的過(guò)飽和固 溶體，如果從該狀態(tài)在低溫下實(shí)施比較長(zhǎng)時(shí)間的熱處理，則通過(guò)亞穩(wěn)相分解，在母相中作為 Ti濃度的周期性變動(dòng)的調(diào)制構(gòu)造發(fā)展，強(qiáng)度提高。此時(shí)，成為問(wèn)題的是強(qiáng)度與彎曲加工性相 反的特性這一點(diǎn)。即，如果使強(qiáng)度提高則彎曲加工性受損，相反，如果重視彎曲加工性則不 能得到希望的強(qiáng)度。一般而言，使冷軋的壓下率越高，導(dǎo)入的錯(cuò)位量越多，錯(cuò)位密度越高，所 以有利于析出的核生成點(diǎn)增加，能夠使時(shí)效處理后的強(qiáng)度變高，但如果使壓下率過(guò)高，則彎 曲加工性惡化。因此，課題是實(shí)現(xiàn)強(qiáng)度及彎曲加工性的兼顧。
[0004] 所以，從添加Fe、Co、Ni、Si等第三元素(專(zhuān)利文獻(xiàn)1)、限制固溶到母相中的雜質(zhì)元 素群的濃度且將它們作為第二相粒子（Cu-Ti一X類(lèi)粒子)使其以規(guī)定的分布形態(tài)析出而 使調(diào)制構(gòu)造的規(guī)則性變高(專(zhuān)利文獻(xiàn)2)、規(guī)定對(duì)于使結(jié)晶粒微細(xì)化有效的微量添加元素和 第二相粒子的密度(專(zhuān)利文獻(xiàn)3)、使結(jié)晶粒微細(xì)化(專(zhuān)利文獻(xiàn)4)等的觀點(diǎn)，提出了想要實(shí)現(xiàn) 鈦銅的強(qiáng)度和彎曲加工性的兼顧的技術(shù)。
[0005] 在鈦銅的情況下，還提出了下述鈦銅：存在對(duì)于作為母相的a相相容性較差的0 相（TiCu3)、和相容性較好的0 '相（TiCu4)，0相給彎曲加工性帶來(lái)不良影響，而使0 '相 均勻且微細(xì)地分散有利于強(qiáng)度和彎曲加工性的兼顧，在抑制0相的同時(shí)使相微細(xì)分散 (專(zhuān)利文獻(xiàn)5)。
[0006] 著眼于結(jié)晶方位，還提出了通過(guò)控制結(jié)晶取向以滿足1{420}/1。{420}>1.0及 1(220}/%{220} < 3. 0、來(lái)改善強(qiáng)度、彎曲加工性及耐應(yīng)力緩和性的技術(shù)(專(zhuān)利文獻(xiàn)6)。
[0007] 但是，在上述先行文獻(xiàn)所記載的哪種鈦銅中，其制造方法都以由鑄錠的熔化鑄造 -均質(zhì)化退火一熱軋一（退火及冷軋的反復(fù)）一最終溶體化處理一冷軋一時(shí)效處理的順序 構(gòu)成為基礎(chǔ)，在特性改善方面有限度。
[0008] 在這樣的狀況下，近年來(lái)，還嘗試了將在最終溶體化處理后進(jìn)行的冷軋及時(shí)效處 理的順序與以往相反地進(jìn)行，即，代替時(shí)效處理一冷軋的順序，最后實(shí)施去應(yīng)變退火，使彎 曲加工性提高(專(zhuān)利文獻(xiàn)7)。根據(jù)該文獻(xiàn)，通過(guò)采用這樣的制造方法，得到的鈦銅的錯(cuò)位密 度上升。并且，根據(jù)軋制面上的{220}結(jié)晶面的X射線衍射線強(qiáng)度峰值的半值寬度間接地 評(píng)價(jià)錯(cuò)位密度，規(guī)定作為來(lái)自軋制面的{220}結(jié)晶面的X射線衍射強(qiáng)度峰值的半值寬度的 0 {220}和作為來(lái)自純銅標(biāo)準(zhǔn)粉末的{220}結(jié)晶面的X射線衍射強(qiáng)度峰值的半值寬度的 0。{22〇}滿足下式：3. 0 < 0 {22〇}/0。{22〇} < 6. 0。
[0009] 專(zhuān)利文獻(xiàn)1 :特開(kāi)2004 - 231985號(hào)公報(bào) 專(zhuān)利文獻(xiàn)2 :特開(kāi)2004 - 176163號(hào)公報(bào) 專(zhuān)利文獻(xiàn)3 :特開(kāi)2005 - 97638號(hào)公報(bào) 專(zhuān)利文獻(xiàn)4 :特開(kāi)2006 - 265611號(hào)公報(bào) 專(zhuān)利文獻(xiàn)5 :特開(kāi)2006 - 283142號(hào)公報(bào) 專(zhuān)利文獻(xiàn)6 :特開(kāi)2008 - 308734號(hào)公報(bào) 專(zhuān)利文獻(xiàn)7 :特開(kāi)2012 - 062575號(hào)公報(bào)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010] 這樣，以往較多地進(jìn)行了從強(qiáng)度及彎曲加工性的兩面謀求特性的改善的努力，但 在連接器中也有幾乎不被要求彎曲加工性者。例如，F(xiàn)PC連接器或自動(dòng)聚焦相機(jī)模組由于 不進(jìn)行彎曲加工，所以沒(méi)有改善彎曲加工性的要求。另一方面，連接器在使用時(shí)暴露在高溫 環(huán)境下的情況也較多，但存在如果將鈦銅在高溫條件下長(zhǎng)時(shí)間暴露則發(fā)生永久變形(彈力 減弱)、作為彈簧材的功能下降的問(wèn)題。對(duì)此還沒(méi)有進(jìn)行充分的研宄。
[0011] 所以，本發(fā)明的目的是提供一種適合作為在FPC連接器或相機(jī)模組等電子零件中 使用的導(dǎo)電性彈簧材的高強(qiáng)度鈦銅。
[0012] 本發(fā)明者們對(duì)鈦銅的〇? 2%耐受力與彈力減弱的關(guān)系及結(jié)晶方位與彈力減弱的關(guān) 系專(zhuān)心地進(jìn)行了調(diào)查，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，當(dāng)0. 2%耐受力較高并且在EBSD(ElectronBackScatter Diffraction:電子后方散射衍射）測(cè)量的結(jié)晶方位解析中KAM值為1. 5~3. 0時(shí)，高溫暴 露時(shí)的耐彈力減弱性特別被改善。本發(fā)明是以以上的認(rèn)識(shí)為背景完成的，通過(guò)以下特定。
[0013] 本發(fā)明在一技術(shù)方案中，是一種鈦銅，含有2.0~4.0質(zhì)量％的Ti，作為第三元素 而合計(jì)含有0~〇? 5質(zhì)量％的從由Fe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B及P構(gòu)成的 群中選擇的1種以上，其余部由銅及不可避免的雜質(zhì)構(gòu)成，在EBSD測(cè)量的結(jié)晶方位解析中， KAM值為 1. 5~3.0。
[0014] 在有關(guān)本發(fā)明的鈦銅的一實(shí)施方式中，0? 2%耐受力為llOOMPa以上。
[0015] 本發(fā)明在另一技術(shù)方案中，是具備有關(guān)本發(fā)明的鈦銅的展銅品。
[0016] 本發(fā)明在再另一技術(shù)方案中，是具備有關(guān)本發(fā)明的鈦銅的電子零件。
[0017] 有關(guān)本發(fā)明的電子零件在一實(shí)施方式中，是自動(dòng)聚焦相機(jī)模組。
[0018] 本發(fā)明在再另一技術(shù)方案中，是一種自動(dòng)聚焦相機(jī)模組，具備：透鏡；彈簧部件， 將該透鏡向光軸方向的初始位置彈性施力；和電磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，產(chǎn)生抵抗該彈簧部件的作用 力的電磁力而能夠?qū)⑸鲜鐾哥R向光軸方向驅(qū)動(dòng)；上述彈簧部件是有關(guān)本發(fā)明的鈦銅。
[0019] 能夠得到適合作為在相機(jī)模組等電子零件中使用的導(dǎo)電性彈簧材的高強(qiáng)度鈦銅。
【附圖說(shuō)明】
[0020] 圖1是表示有關(guān)本發(fā)明的自動(dòng)聚焦相機(jī)模組的剖視圖。
[0021] 圖2是圖1的自動(dòng)聚焦相機(jī)模組的分解立體圖。
[0022] 圖3是表示圖1的自動(dòng)聚焦相機(jī)模組的動(dòng)作的剖視圖。
[0023] 圖4是表示測(cè)量彈力減弱量的方法的概略圖。
【具體實(shí)施方式】
[0024] (l)Ti濃度 在有關(guān)本發(fā)明的鈦銅中，使Ti濃度為2. 0~4. 0質(zhì)量％。鈦銅通過(guò)溶體化處理向Cu基 體中固溶Ti，通過(guò)時(shí)效處理使微細(xì)的析出物分散到合金中，由此使強(qiáng)度及導(dǎo)電率上升。
[0025] 如果Ti濃度不到2. 0質(zhì)量％，則析出物的析出變得不充分，不能得到希望的強(qiáng)度。 如果Ti濃度超過(guò)4. 0質(zhì)量％，則加工性劣化，在軋制時(shí)材料容易裂紋。如果考慮強(qiáng)度及加工 性的平衡，則優(yōu)選的Ti濃度是2. 5~3. 5質(zhì)量％。
[0026] (2)第三元素 在有關(guān)本發(fā)明的鈦銅中，通過(guò)含有從由Fe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B及P構(gòu)成的群中選擇的第三元素的1種以上，能夠使強(qiáng)度進(jìn)一步提高。但是，如果第三元素的合 計(jì)濃度超過(guò)〇. 5質(zhì)量％，則加工性劣化，在軋制時(shí)材料容易裂紋。所以，這些第三元素合計(jì) 可以含有〇~〇. 5質(zhì)量％，如果考慮強(qiáng)度及加工性的平衡，則優(yōu)選的是以總量0. 1~0. 4質(zhì) 量％含有上述元素的1種以上。
[0027] (3)0.2%耐受力 在有關(guān)本發(fā)明的