一種拋光機(jī)的下拋光盤的制作方法
【專利說明】一種拋光機(jī)的下拋光盤
[0001]
技術(shù)領(lǐng)域
[0002]本發(fā)明涉及研磨機(jī)或拋光機(jī)的結(jié)構(gòu)，具體涉及一種拋光機(jī)的下拋光盤。
【背景技術(shù)】
[0003]用于藍(lán)寶石襯底材料拋光機(jī)的下拋光盤，由于在拋光過程中會產(chǎn)生大量的熱，溫度的變化必然會導(dǎo)致拋光盤發(fā)生形變，進(jìn)而影響加工質(zhì)量，因此必須嚴(yán)格控制拋光盤的溫度。近年來藍(lán)寶石襯底晶片的尺寸趨向大直徑化，對藍(lán)寶石晶片的質(zhì)量要求也越來越嚴(yán)，對于用來進(jìn)行藍(lán)寶石晶片拋光加工的拋光設(shè)備，必須嚴(yán)格控制拋盤的形變。
[0004]此前生產(chǎn)的雙面拋光機(jī)的拋盤采用整體式結(jié)構(gòu)，沒有進(jìn)行專門溫度控制的裝置，拋光加工過程中所產(chǎn)生的熱量主要靠拋光液帶走，屬于被動式冷卻，拋盤溫度的變化不可控。而藍(lán)寶石襯底材料的應(yīng)用行業(yè)對藍(lán)寶石片的品質(zhì)要求比較高，對上下拋光盤進(jìn)行精密溫度控制是必需的，因此必須采用新的下盤結(jié)構(gòu)，以便對拋盤進(jìn)行冷卻，達(dá)到溫度精確控制的目的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的以上問題，提供一種拋光機(jī)的下拋光盤。
[0006]為實現(xiàn)上述目的，達(dá)到上述技術(shù)效果，本發(fā)明通過以下技術(shù)方案實現(xiàn):
一種拋光機(jī)的下拋光盤，包括下盤工作盤，所述下盤工作盤的下方設(shè)有下盤基盤，所述下盤基盤與所述下盤工作盤之間形成冷卻腔，在下盤基盤上設(shè)有進(jìn)水口和出水口，分別與所述冷卻腔連通，所述下盤基盤與所述下盤工作盤之間外圈設(shè)有外圈密封圈，內(nèi)圈設(shè)有內(nèi)圈密封圈，所述下盤基盤的外緣設(shè)有排水孔。
[0007]進(jìn)一步的，所述冷卻腔為下凹的扇形冷卻腔，且有12個，每個下凹的扇形冷卻腔設(shè)有出水管，所述出水管與所述出水口連通。
[0008]進(jìn)一步的，所述外圈密封圈和所述內(nèi)圈密封圈外部都設(shè)有密封圈槽。
[0009]優(yōu)選的，所述下盤工作盤上設(shè)有為出水管進(jìn)水的讓位孔。
[0010]進(jìn)一步的，所述下盤基盤與下盤工作盤由設(shè)在分隔筋上的連接螺釘連接。
[0011]本發(fā)明的有益效果是:
本發(fā)明的特殊的水冷盤結(jié)構(gòu)避免了冷卻水走捷徑，只有在冷卻水充滿腔體后才能從出水口流出，確保了冷卻水能對拋盤進(jìn)行充分冷卻，及時帶走因加工而產(chǎn)生的熱量，對拋盤起到了強(qiáng)制冷卻的作用，較傳統(tǒng)的被動式冷卻更可靠。結(jié)合精密的測溫系統(tǒng)及冷卻水流量調(diào)節(jié)系統(tǒng)，實現(xiàn)了拋盤溫度的精密控制。
[0012]上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，并可依照說明書的內(nèi)容予以實施，以下以本發(fā)明的較佳實施例并配合附圖詳細(xì)說明如后。本發(fā)明的【具體實施方式】由以下實施例及其附圖詳細(xì)給出。
【附圖說明】
[0013]此處所說明的附圖用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請的一部分，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中:
圖1是本發(fā)明拋光機(jī)的下拋光盤的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2是本發(fā)明拋光機(jī)的下拋光盤的剖視圖。
[0014]圖中標(biāo)號說明:
1、下盤工作盤，2、外圈密封圈，3、內(nèi)圈密封圈，4、進(jìn)水口，5、出水管，6、連接螺釘，7、排水孔，8、下盤基盤，9、冷卻腔，10、讓位孔，11、出水口，12、密封圈槽。
【具體實施方式】
[0015]下面將參考附圖并結(jié)合實施例，來詳述本發(fā)明的結(jié)構(gòu)特點及技術(shù)實施過程:
如圖1和圖2所示，一種拋光機(jī)的下拋光盤，包括下盤工作盤I，所述下盤工作盤I的下方設(shè)有下盤基盤8，所述下盤基盤8與所述下盤工作盤I之間形成冷卻腔9，在下盤基盤8上設(shè)有進(jìn)水口 4和出水口 11，分別與所述冷卻腔9連通，所述下盤基盤8與所述下盤工作盤I之間外圈設(shè)有外圈密封圈2，內(nèi)圈設(shè)有內(nèi)圈密封圈3，所述下盤基盤8的外緣設(shè)有排水孔7。
[0016]優(yōu)選的，排水孔7用于長時間停機(jī)或維護(hù)時排去冷卻水。
[0017]進(jìn)一步的，所述冷卻腔9為下凹的扇形冷卻腔，且有12個，每個下凹的扇形冷卻腔設(shè)有出水管5，所述出水管5與所述出水口 11連通，所述出水管5為了進(jìn)水水位的提升，保證水充滿整個下凹的扇形冷卻腔9。
[0018]進(jìn)一步的，所述外圈密封圈2和所述內(nèi)圈密封圈3外部都設(shè)有密封圈槽12。
[0019]優(yōu)選的，所述下盤工作盤I上設(shè)有為出水管5進(jìn)水的讓位孔10。
[0020]進(jìn)一步的，所述下盤基盤8與下盤工作盤I由設(shè)在分隔筋上的連接螺釘6連接。
[0021]本發(fā)明的原理:
本發(fā)明下拋光盤均采用復(fù)合雙層結(jié)構(gòu)，為中空結(jié)構(gòu)，上層為工作盤，下層為水冷盤，中間可通冷卻水。下盤設(shè)有十二個獨立的扇形區(qū)域腔，內(nèi)布水冷通道，采用獨特的循環(huán)通道，在出水口處裝有水管保證回水口的高度高于復(fù)合盤體的結(jié)合面，冷卻水必須完全充滿腔體后才能從回水口流出，確保拋盤能得到充分的冷卻，盤體內(nèi)外側(cè)結(jié)合面裝以及螺釘連接處裝有密封圈，用于防止泄露。
[0022]以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種拋光機(jī)的下拋光盤，其特征在于，包括下盤工作盤(1)，所述下盤工作盤(I)的下方設(shè)有下盤基盤(8)，所述下盤基盤(8)與所述下盤工作盤(I)之間形成冷卻腔(9)，在下盤基盤(8 )上設(shè)有進(jìn)水口( 4 )和出水口( 11)，分別與所述冷卻腔(9 )連通，所述下盤基盤(8)與所述下盤工作盤(I)之間外圈設(shè)有外圈密封圈(2)，內(nèi)圈設(shè)有內(nèi)圈密封圈(3)，所述下盤基盤(8)的外緣設(shè)有排水孔(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機(jī)的下拋光盤，其特征在于，所述冷卻腔(9)為下凹的扇形冷卻腔，且有12個，每個下凹的扇形冷卻腔設(shè)有出水管(5)，所述出水管(5)與所述出水口(11)連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機(jī)的下拋光盤，其特征在于，所述外圈密封圈(2)和所述內(nèi)圈密封圈(3)外部都設(shè)有密封圈槽(12)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機(jī)的下拋光盤，其特征在于，所述下盤工作盤(I)上設(shè)有為出水管(5)進(jìn)水的讓位孔(10)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機(jī)的下拋光盤，其特征在于，所述下盤基盤(8)與下盤工作盤(I)由設(shè)在分隔筋上的連接螺釘(6)連接。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種拋光機(jī)的下拋光盤，包括下盤工作盤，所述下盤工作盤的下方設(shè)有下盤基盤，所述下盤基盤與所述下盤工作盤之間形成冷卻腔，在下盤基盤上設(shè)有進(jìn)水口和出水口，分別與所述冷卻腔連通，所述下盤基盤與所述下盤工作盤之間外圈設(shè)有外圈密封圈，內(nèi)圈設(shè)有內(nèi)圈密封圈，所述下盤基盤的外緣設(shè)有排水孔。本發(fā)明的特殊的水冷盤結(jié)構(gòu)避免了冷卻水走捷徑，只有在冷卻水充滿腔體后才能從出水口流出，確保了冷卻水能對拋盤進(jìn)行充分冷卻，及時帶走因加工而產(chǎn)生的熱量，對拋盤起到了強(qiáng)制冷卻的作用，較傳統(tǒng)的被動式冷卻更可靠。結(jié)合精密的測溫系統(tǒng)及冷卻水流量調(diào)節(jié)系統(tǒng)，實現(xiàn)了拋盤溫度的精密控制。
【IPC分類】B24D13-18
【公開號】CN104772718
【申請?zhí)枴緾N201510138337
【發(fā)明人】金萬斌, 李方俊, 陳麗春
【申請人】蘇州赫瑞特電子專用設(shè)備科技有限公司
【公開日】2015年7月15日
【申請日】2015年3月27日