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用于高鎳奧氏體球墨鑄鐵的砂處理工藝的制作方法

文檔序號:8494205閱讀:493來源:國知局
用于高鎳奧氏體球墨鑄鐵的砂處理工藝的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及用于高鎳奧氏體球墨鑄鐵的砂處理工藝。
【背景技術(shù)】
[0002]高鎳奧氏體球墨鑄鐵強(qiáng)度高、耐高溫、耐腐蝕、抗蠕變,能夠承受發(fā)動機(jī)尾氣1000°C無收縮、不變形,連續(xù)工作500小時無變化,是制造汽油機(jī)渦輪增壓器的渦殼的理想材料,但高鎳材質(zhì)往往鑄造難,鑄件分子結(jié)構(gòu)不均勻,容易產(chǎn)生縮松、縮孔和疏松現(xiàn)象。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了克服以上的不足,本發(fā)明提供了用于高鎳奧氏體球墨鑄鐵的砂處理工藝,生產(chǎn)效率高、可重復(fù)利用舊砂,生產(chǎn)出的鑄件分子結(jié)構(gòu)均勻,有效減少縮松、縮孔和疏松現(xiàn)象發(fā)生,提高鑄件合格率。
[0004]本發(fā)明的目的通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):一種用于高鎳奧氏體球墨鑄鐵的砂處理工藝,所述用于高鎳奧氏體球墨鑄鐵的砂處理工藝包括有以下步驟:
(1)造型砂處理工藝:a)設(shè)有二條消失模造型線,二條消失模造型線的生產(chǎn)率均為20t/h,大線的砂箱尺寸為1000 X 1000 X 1650,小線的砂箱尺寸為800 X 800 X 1050,每條消失模造型線均設(shè)有70副砂箱,10個澆注工位,每個澆注工位設(shè)一個隨流孕育裝置,同時,每條消失模造型線均設(shè)有一套抽真空裝置;
b)將模束裝入模架中,同時在砂箱中加砂,下模束于砂箱中并將模束側(cè)豎于砂箱內(nèi),接著通過雨淋加砂閥門進(jìn)行干砂填充,通過水平振實(shí)臺將砂子振實(shí),接著下澆口杯進(jìn)行負(fù)壓澆注,冷卻120min后通過翻轉(zhuǎn)機(jī)倒至接鑄件柵格上,然后用抓鑄件機(jī)械手抓起放到鑄件框內(nèi)轉(zhuǎn)運(yùn);
(2)舊砂處理工藝:a)二條消失模造型線各配一套舊砂處理系統(tǒng),大線的舊砂處理系統(tǒng)的生產(chǎn)率均為50t/h,小線的舊砂處理系統(tǒng)的生產(chǎn)率均為30t/h ;
b)舊砂通過直線振動篩進(jìn)行篩分除去粗大雜物,再通過磁選裝置進(jìn)行磁選,通過風(fēng)力分選機(jī)及抽風(fēng)去除粉塵,接著通過冷卻器對舊砂進(jìn)行冷卻,使得舊砂溫度小于50°C后進(jìn)行運(yùn)輸和儲存回用。
[0005]其中消失模造型線和舊砂處理系統(tǒng)采用一套共用的PLC集中控制系統(tǒng)。
[0006]該制作工藝與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn):
本發(fā)明采用二條消失模造型線,生產(chǎn)效率高;二條消失模造型線各配一套舊砂處理系統(tǒng),可重復(fù)利用舊砂,減少生產(chǎn)成本,同時減少舊砂對環(huán)境的污染;通過雨淋加砂閥門進(jìn)行干砂填充,可是砂流均勻?qū)δJ鴽_擊??;通過水平振實(shí)臺實(shí)現(xiàn)砂子對模束的最佳充填和緊實(shí),并保證模束不產(chǎn)生變形和損壞;通過本發(fā)明生產(chǎn)出的鑄件分子結(jié)構(gòu)均勻,有效減少縮松、縮孔和疏松現(xiàn)象發(fā)生,提高了鑄件合格率。
[0007]【具體實(shí)施方式】:
為了加深對本發(fā)明的理解,下面將結(jié)合實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳述,該實(shí)施例僅用于解釋本發(fā)明,并不構(gòu)成對本發(fā)明保護(hù)范圍的限定。
[0008]實(shí)施例1
本發(fā)明提供了用于高鎳奧氏體球墨鑄鐵的砂處理工藝,所述用于高鎳奧氏體球墨鑄鐵的砂處理工藝包括有以下步驟:
(1)造型砂處理工藝:a)設(shè)有二條消失模造型線,消失模造型線由水平振實(shí)臺、砂箱、轉(zhuǎn)運(yùn)車、推送和緩沖油缸、邊輥組、定位裝置、液壓站、液壓管道系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、翻轉(zhuǎn)機(jī)和真空系統(tǒng)組成,二條消失模造型線的生產(chǎn)率均為20t/h,大線的砂箱尺寸為1000X 1000X 1650,小線的砂箱尺寸為800 X 800 X 1050,每條消失模造型線均設(shè)有70副砂箱,10個澆注工位,每個澆注工位設(shè)一個隨流孕育裝置,同時,每條消失模造型線均設(shè)有一套抽真空裝置;
b)將模束裝入模架中,同時在砂箱中加砂,下模束于砂箱中并將模束側(cè)豎于砂箱內(nèi),接著通過雨淋加砂閥門進(jìn)行干砂填充,通過水平振實(shí)臺將砂子振實(shí),接著下澆口杯進(jìn)行負(fù)壓澆注,冷卻120min后通過翻轉(zhuǎn)機(jī)倒至接鑄件柵格上,然后用抓鑄件機(jī)械手抓起放到鑄件框內(nèi)轉(zhuǎn)運(yùn),舊砂倒入落砂振動輸送槽,進(jìn)入舊砂處理系統(tǒng);
(2)舊砂處理工藝:a)二條消失模造型線各配一套舊砂處理系統(tǒng),大線的舊砂處理系統(tǒng)的生產(chǎn)率均為50t/h,小線的舊砂處理系統(tǒng)的生產(chǎn)率均為30t/h,補(bǔ)充干新砂量為1-3% ;
b)舊砂通過直線振動篩進(jìn)行篩分除去粗大雜物,再通過磁選裝置進(jìn)行磁選,通過風(fēng)力分選機(jī)及抽風(fēng)去除粉塵,接著通過冷卻器對舊砂進(jìn)行冷卻,使得舊砂溫度小于50°C后進(jìn)行運(yùn)輸和儲存回用。
[0009]消失模造型線和舊砂處理系統(tǒng)采用一套共用的PLC集中控制系統(tǒng),設(shè)計算機(jī)屏幕顯示及故障監(jiān)測報警裝置,可實(shí)現(xiàn)自動或手動控制。
[0010]前面提供了對實(shí)施例的描述,以使本領(lǐng)域內(nèi)的任何技術(shù)人員可使用或利用本發(fā)明。對這些實(shí)施例的各種修改對本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員是顯而易見的,可把這里所述的總的原理應(yīng)用到其他實(shí)施例而不使用創(chuàng)造性。因而,本發(fā)明將不限于這里所示的實(shí)施例,而應(yīng)依據(jù)符合這里所揭示的原理和新特征的最寬范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于高鎳奧氏體球墨鑄鐵的砂處理工藝,其特征在于:所述用于高鎳奧氏體球墨鑄鐵的砂處理工藝包括有以下步驟: (1)造型砂處理工藝:a)設(shè)有二條消失模造型線,二條消失模造型線的生產(chǎn)率均為20t/h,大線的砂箱尺寸為1000 X 1000 X 1650,小線的砂箱尺寸為800 X 800 X 1050,每條消失模造型線均設(shè)有70副砂箱,10個澆注工位,每個澆注工位設(shè)一個隨流孕育裝置,同時,每條消失模造型線均設(shè)有一套抽真空裝置; b)將模束裝入模架中,同時在砂箱中加砂,下模束于砂箱中并將模束側(cè)豎于砂箱內(nèi),接著通過雨淋加砂閥門進(jìn)行干砂填充,通過水平振實(shí)臺將砂子振實(shí),接著下澆口杯進(jìn)行負(fù)壓澆注,冷卻120min后通過翻轉(zhuǎn)機(jī)倒至接鑄件柵格上,然后用抓鑄件機(jī)械手抓起放到鑄件框內(nèi)轉(zhuǎn)運(yùn); (2)舊砂處理工藝:a)二條消失模造型線各配一套舊砂處理系統(tǒng),大線的舊砂處理系統(tǒng)的生產(chǎn)率均為50t/h,小線的舊砂處理系統(tǒng)的生產(chǎn)率均為30t/h ; b)舊砂通過直線振動篩進(jìn)行篩分除去粗大雜物,再通過磁選裝置進(jìn)行磁選,通過風(fēng)力分選機(jī)及抽風(fēng)去除粉塵,接著通過冷卻器對舊砂進(jìn)行冷卻,使得舊砂溫度小于50°C后進(jìn)行運(yùn)輸和儲存回用。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于高鎳奧氏體球墨鑄鐵的砂處理工藝,其特征在于:所述消失模造型線和舊砂處理系統(tǒng)采用一套共用的PLC集中控制系統(tǒng)。
【專利摘要】本發(fā)明公開了用于高鎳奧氏體球墨鑄鐵的砂處理工藝,所述用于高鎳奧氏體球墨鑄鐵的砂處理工藝包括有以下步驟:(1)造型砂處理工藝:a)設(shè)有二條消失模造型線,每條消失模造型線均設(shè)有70副砂箱,10個澆注工位,每個澆注工位設(shè)一個隨流孕育裝置,同時,每條消失模造型線均設(shè)有一套抽真空裝置;b)下模束、加砂、振實(shí)、澆注、冷卻、落砂;(2)舊砂處理工藝:a)二條消失模造型線各配一套舊砂處理系統(tǒng);b)篩分、磁選、風(fēng)選、冷卻、運(yùn)輸和儲存回用。該制備工藝生產(chǎn)效率高、可重復(fù)利用舊砂,生產(chǎn)出的鑄件分子結(jié)構(gòu)均勻,有效減少縮松、縮孔和疏松現(xiàn)象發(fā)生,提高鑄件合格率。
【IPC分類】B22C9-04, B22C5-00
【公開號】CN104815945
【申請?zhí)枴緾N201510144947
【發(fā)明人】于會明, 胥傳信, 丁丹, 孫傳琴
【申請人】安徽惠明機(jī)械制造有限公司
【公開日】2015年8月5日
【申請日】2015年3月31日
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