一種基于磁控濺射技術的鋼球鍍膜夾具裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明是有關于一種滾動軸承鋼球鍍膜夾具裝置，尤其是一種基于磁控濺射技術的鋼球鍍膜夾具裝置。
【背景技術】
[0002]軸承時各類機械裝備的重要基礎零件，其精度、性能可靠性以及壽命對主體機械的精度、性能可靠性及壽命有著重要影響。為了提高軸承的性能特性及其應用范圍，需要對組成軸承的各個零件，如:內(nèi)圈、鋼球、外圈、保持架等，進行表面改性處理。磁控濺射鍍膜是一種先進的表面改性技術，但現(xiàn)有的濺射技術存在濺射過程不穩(wěn)定，濺射對象鍍膜不均衡等問題。使得軸承鋼球在使用磁控濺射技術進行表面鍍膜時產(chǎn)生機械性能差、表面均勻性差等冋題。
[0003]有鑒于上述現(xiàn)有的鋼球鍍膜存在的缺陷，本發(fā)明人基于從事此類產(chǎn)品設計制造多年豐富的實務經(jīng)驗及專業(yè)知識，并配合學理的運用，積極加以研宄創(chuàng)新，以期創(chuàng)設一種新型的基于磁控濺射技術的鋼球鍍膜夾具，能夠改進一般現(xiàn)有的磁控濺射鍍膜存在的問題，使其更具有實用性。經(jīng)過不斷的研宄、設計，并經(jīng)過反復試作樣品及改進后，終于創(chuàng)設出確具實用價值的本發(fā)明。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于，克服現(xiàn)有的磁控濺射鍍膜存在的問題，而提供一種基于磁控濺射技術的鋼球鍍膜夾具裝置，使其能夠解決鋼球鍍膜時表面鍍膜不均衡的問題，從而提高鋼球的機械性能和表面均勻性。
[0005]本發(fā)明的目的及解決其技術問題是采用以下技術方案來實現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提出的一種基于磁控濺射技術的鋼球鍍膜夾具裝置，包含底板、立柱、鋼球鍍膜盤、旋轉(zhuǎn)主軸、連接軸、滑塊以及圓錐臺，其中立柱固設在底板上，且其上部有空腔；鋼球鍍膜盤與定位構件緊固連接，且該定位構件嵌裝在立柱上的空腔內(nèi)，且該定位構件與所述空腔之間有間距；旋轉(zhuǎn)主軸固定在底板上，且其下端與該磁控濺射設備的旋轉(zhuǎn)主軸對接；連接軸水平固定在旋轉(zhuǎn)主軸上；圓錐臺連接在連接軸上，且該圓錐臺與鋼球鍍膜盤的底面相接觸，并使鋼球鍍膜盤傾斜；以及滑塊設在底板上臨近立柱的地方，且該滑塊固定在磁控濺射設備的相應軌道上。
[0006]本發(fā)明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現(xiàn)。
[0007]前述的裝置，其中所述的立柱，其個數(shù)不少于3個，且環(huán)繞鋼球鍍膜盤均勻分布。
[0008]前述的裝置，其中所述的鋼球鍍膜盤，其上設有環(huán)形軌道，且該軌道緊鄰鋼球鍍膜盤外徑，其寬度為鍍膜鋼球直徑的4-6倍。
[0009]前述的裝置，其中所述的環(huán)形軌道，其深度為鍍膜鋼球直徑的42% -48%。
[0010]前述的裝置，其中所述的環(huán)形軌道，其表面進行超精拋光加工處理后，在其表面涂覆一層0.1 ym厚的自潤滑碳膜，以減小鋼球表面摩擦磨損，保證鋼球原有的幾何精度。
[0011]前述的裝置，其中所述的定位構件與所述空腔在立柱軸向方向有5mm-10mm的距離，使得鋼球鍍膜盤的擺動角度為1° -2°。
[0012]前述的裝置，其中所述的各組成構件的材質(zhì)，除滑塊為聚四氟乙烯外，其余全為優(yōu)質(zhì)不銹鋼或純銅。
[0013]借由上述技術方案，本發(fā)明一種基于磁控濺射技術的鋼球鍍膜夾具至少具有下列優(yōu)點及有益效果:該裝置的鋼球鍍膜托盤在圓錐臺和定位構件的作用下作偏擺運動，從而使得托盤內(nèi)的鋼球同時作公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)運動，使得鋼球表面的鍍層均勻、穩(wěn)定。
[0014]上述說明僅是本發(fā)明技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細說明如下。
【附圖說明】
[0015]圖1為本發(fā)明實施例一種基于磁控濺射技術的鋼球鍍膜夾具的結構示意圖；
[0016]圖2為本發(fā)明實施例一種基于磁控濺射技術的鋼球鍍膜夾具裝置的鋼球鍍膜盤的軌道示意圖。
[0017]【主要元件符號說明】
[0018]1:底板
[0019]2:螺栓
[0020]3:立柱
[0021]4:圓錐臺
[0022]5:彈簧擋圈
[0023]6:軸承
[0024]7:彈簧擋圈
[0025]8:連接軸
[0026]9:定位構件
[0027]10:鋼球鍍膜盤
[0028]11:滑塊
[0029]12:軸承蓋
[0030]13:軸承
[0031]14:旋轉(zhuǎn)主軸
[0032]15:彈簧墊
【具體實施方式】
[0033]為更進一步闡述本發(fā)明為達成預定發(fā)明目的所采取的技術手段及功效，以下結合附圖及較佳實施例，對依據(jù)本發(fā)明提出的一種基于磁控濺射技術的鋼球鍍膜夾具裝置的【具體實施方式】、結構、特征及其功效，詳細說明如后。
[0034]請參閱圖1，其為本發(fā)明一種基于磁控濺射技術的鋼球鍍膜夾具裝置的實施例，其包括底板1、立柱3、鋼球鍍膜盤10、旋轉(zhuǎn)主軸14、連接軸8、滑塊11以及圓錐臺4。
[0035]請參閱圖1，旋轉(zhuǎn)主軸14的下端與該磁控濺射設備的旋轉(zhuǎn)主軸對接，一起作旋轉(zhuǎn)運動。旋轉(zhuǎn)主軸14通過軸承13固定在底板I上，其中旋轉(zhuǎn)主軸14與軸承13內(nèi)圈緊固安裝，軸承13安裝在底板I上。連接軸8水平固定在旋轉(zhuǎn)主軸14上。圓錐臺4通過軸承6連接在連接軸8上，且圓錐臺4與鋼球鍍膜盤10的底面相接觸，并使鋼球鍍膜盤10傾斜。該圓錐臺4與鋼球鍍膜盤的接觸為面接觸，接觸平穩(wěn)，使得鍍膜盤平穩(wěn)的運動。圓錐臺4與軸承6外圈緊固安裝，軸承6內(nèi)圈與連接軸8緊固安裝，該結構其使在旋轉(zhuǎn)過程中，保證鋼球鍍膜盤10平穩(wěn)擺動，提高鍍膜質(zhì)量。
[0036]請參閱圖1，該裝置設有4個環(huán)繞鋼球鍍膜盤10均勻分布，即沿圓周呈90°分布的立柱3，其上皆具有空腔，且上述立柱3俱通過螺栓2固定在底板I上。該裝置設置的立柱3可使鋼球在鍍膜盤上非常平穩(wěn)的運動。底板I的邊緣，靠近立柱的地方設有滑塊11，滑塊11固定在磁控濺射設備的相應的軌道上。
[0037]請參閱圖1及圖2，鋼球鍍膜盤10與定位構件9緊固連接，該定位構件9嵌裝在立柱3上的空腔內(nèi)，且該定位構件9可沿立柱3的軸向有5mm-10mm的位移，使鋼球鍍膜盤有1° -2°的擺動角度。該鋼球鍍膜盤10上設有環(huán)形軌道，該環(huán)形軌道表面進行超精拋光加工處理后，在其表面涂覆一層0.1 ym厚的自潤滑碳膜，以減小鋼球表面摩擦磨損，保證鋼球原有的幾何精度。所述環(huán)形軌道緊鄰鍍膜盤外徑，且該環(huán)形軌道不應太寬，一般取鍍膜鋼球直徑4-6倍為宜，環(huán)形軌道深度取鍍膜鋼球直徑的42% -48%。該鋼球鍍膜盤10的擺度及軌道設計保證了鋼球在鍍膜的均勻性、保證鍍膜機械性能和性能的一致性。
[0038]在本發(fā)明一種鋼球鍍膜夾具裝置的另一實施例中，該裝置設有3個沿鋼球鍍膜盤10均勻分布，即沿鋼球鍍膜盤圓周呈120°分布的立柱3，其上具有空腔，且所述立柱3皆通過螺栓2固定在底板I上。
[0039]本發(fā)明實施例一種基于磁控濺射技術的鋼球鍍膜夾具裝置的工作原理如下所述。在旋轉(zhuǎn)主軸14的帶動下，連接軸8、軸承6及安裝在軸承6上的圓錐臺4 一起做旋轉(zhuǎn)運動，使鋼球鍍膜盤10做有規(guī)律的上下擺動，帶動鍍膜鋼球在其圓環(huán)形軌道內(nèi)勻速隨機滾動，進而可在鋼球表面實現(xiàn)均勻鍍膜。該裝置結構簡單，制造、使用方便?？筛鶕?jù)鍍膜鋼球的不同只更換鋼球鍍膜盤10，其余部分正常使用。
[0040]本裝置除滑塊11的材質(zhì)為聚四氟乙烯外，全為優(yōu)質(zhì)不銹鋼或純銅。
[0041]以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術人員，在不脫離本發(fā)明技術方案范圍內(nèi)，當可利用上述揭示的技術內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術方案的范圍內(nèi)。
【主權項】
1.一種基于磁控濺射技術的鋼球鍍膜夾具裝置，包含底板、立柱、鋼球鍍膜盤、旋轉(zhuǎn)主軸、連接軸、滑塊以及圓錐臺，其特征在于: 所述立柱固設在底板上，且其上部有空腔； 所述的鋼球鍍膜盤與定位構件緊固連接，該定位構件嵌裝在立柱上的空腔內(nèi)，且該定位構件與所述空腔之間有間距； 所述的旋轉(zhuǎn)主軸固定在底板上，且其下端與該磁控濺射設備的旋轉(zhuǎn)主軸對接； 所述的連接軸水平固定在旋轉(zhuǎn)主軸上； 所述的圓錐臺連接在連接軸上，且該圓錐臺與鋼球鍍膜盤的底面相接觸，并使鋼球鍍膜盤傾斜；以及 所述的滑塊設在底板上臨近立柱的地方，且該滑塊固定在磁控濺射設備的相應軌道上。
2.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其特征在于，其中所述的立柱，其個數(shù)不少于3個，且環(huán)繞鋼球鍍膜盤均勻分布。
3.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其特征在于，其中所述的鋼球鍍膜盤，其上設有環(huán)形軌道，且該軌道緊鄰鋼球鍍膜盤外徑，其寬度為鍍膜鋼球直徑的4-6倍。
4.根據(jù)權利要求3所述的裝置，其特征在于，其中所述的環(huán)形軌道，其深度為鍍膜鋼球直徑的42% -48%。
5.根據(jù)權利要求3所述的裝置，其特征在于，其中所述的環(huán)形軌道的表面涂覆一層0.1ym厚的自潤滑碳膜。
6.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其特征在于，其中所述的定位構件與所述空腔在立柱軸向方向有5mm-10mm的間距，使得鋼球鍍膜盤的擺動角度為1° -2°。
7.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其特征在于，各組成構件的材質(zhì)，除滑塊為聚四氟乙烯外，其余全為優(yōu)質(zhì)不銹鋼或純銅。
【專利摘要】本發(fā)明是有關于一種基于磁控濺射技術的鋼球鍍膜夾具裝置，包含底板、立柱、鋼球鍍膜盤、旋轉(zhuǎn)主軸、連接軸、滑塊以及圓錐臺，其中立柱固設在底板上，且其上部有空腔；鋼球鍍膜盤與定位構件緊固連接，該定位構件嵌裝在立柱上的空腔內(nèi)，且該定位構件與所述空腔之間有間距；旋轉(zhuǎn)主軸固定在底板上，且其下端與該磁控濺射設備的旋轉(zhuǎn)主軸對接；連接軸水平固定在旋轉(zhuǎn)主軸上；圓錐臺連接在連接軸上，且該圓錐臺與鋼球鍍膜盤的底面相接觸，并使鋼球鍍膜盤傾斜；以及滑塊設在底板上臨近立柱的地方，且該滑塊固定在磁控濺射設備的相應軌道上。本發(fā)明鋼球鍍膜夾具裝置使得托盤內(nèi)的鋼球同時作公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)運動，使得鋼球表面的鍍層均勻、穩(wěn)定。
【IPC分類】C23C14-50, C23C14-35
【公開號】CN104862661
【申請?zhí)枴緾N201510222626
【發(fā)明人】賈貴西, 胡鵬飛, 王海霞, 趙海軍
【申請人】洛陽理工學院
【公開日】2015年8月26日
【申請日】2015年5月4日