一種盛裝蝕刻液的裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及攪拌蝕刻液的技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種盛裝蝕刻液的裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，電路板在蝕刻過程中，蝕刻液腐蝕電路板上的銅條，隨著銅材料的不斷溶解，溶液的比重不斷升高，當(dāng)比重超過一定值后，自動補償氯化銨和氨水體系的蝕刻液，調(diào)整比重到合適的范圍。一般比重控制在18~240Be。溶液PH值的影響蝕刻液的PH值應(yīng)保持在8.0~8.8之間。
[0003]當(dāng)蝕刻液的PH值降低到8.0以下時，一方面是對金屬抗蝕層不利，另一方面，蝕刻液中的銅不能完全絡(luò)合成銅氨絡(luò)離子，溶液會出現(xiàn)沉淀，并在槽底形成泥狀沉淀，這些沉淀能夠在加熱器上結(jié)成硬皮，可能損壞加熱器，還會堵塞泵和噴嘴，給蝕刻造成困難。只有不斷的攪拌蝕刻液使蝕刻液不斷的運動，以防止溶液出現(xiàn)沉淀，當(dāng)需要使用蝕刻液蝕刻電路板時，放出蝕刻液即可，目前，大多數(shù)采用攪拌器攪拌蝕刻液，然而該攪拌器結(jié)構(gòu)復(fù)雜，其上的攪拌葉片溶液被蝕刻液腐蝕，不推廣使用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點，提供一種結(jié)構(gòu)緊湊、制造成本低、操作簡單、能夠有效避免蝕刻液產(chǎn)生沉淀的盛裝蝕刻液的裝置。
[0005]本發(fā)明的目的通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn):一種盛裝蝕刻液的裝置，它包括機座、伺服電機和儲罐，所述的機座上設(shè)置有垂直于機座的立柱A和立柱B，所述的伺服電機垂直于立柱B設(shè)置且固定安裝在立柱B上，所述的儲罐的兩側(cè)分別設(shè)置有轉(zhuǎn)軸I和轉(zhuǎn)軸II，轉(zhuǎn)軸I和轉(zhuǎn)軸II對稱設(shè)置，轉(zhuǎn)軸I的另一端旋轉(zhuǎn)安裝在立柱A上，轉(zhuǎn)軸II與伺服電機的輸出端連接，所述的儲罐內(nèi)設(shè)置有用于盛裝蝕刻液的型腔，儲罐的頂部、底部分別設(shè)置有進液口、出液口，進液口和出液口均與型腔連通，所述的儲罐的兩個側(cè)壁上均設(shè)置有多個與型腔連通的進氣口。
[0006]它還包括控制器，所述的控制器與伺服電機連接。
[0007]所述的進液口和出液口處均連接有截至閥。
[0008]本發(fā)明具有以下優(yōu)點:本發(fā)明的儲罐的兩個側(cè)壁上均設(shè)置有多個與型腔連通的進氣口，經(jīng)進氣口向儲罐內(nèi)通入潔凈的高壓空氣，高壓空氣推動蝕刻液在型腔內(nèi)做不規(guī)則的往復(fù)運動，并結(jié)合電機帶動儲罐做旋轉(zhuǎn)運動，有效的避免了蝕刻液產(chǎn)生沉淀。
【附圖說明】
[0009]圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖中，1-機座，2-伺服電機，3-儲罐，4-立柱A，5-立柱B，6-轉(zhuǎn)軸I，7-轉(zhuǎn)軸II，8-型腔，9-進液口，10-出液口，11-進氣P, 12-截至閥ο
【具體實施方式】
[0010]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明做進一步的描述，本發(fā)明的保護范圍不局限于以下所述: 如圖1所示，一種盛裝蝕刻液的裝置，它包括機座1、伺服電機2和儲罐3，所述的機座I
上設(shè)置有垂直于機座I的立柱A4和立柱B5，所述的伺服電機2垂直于立柱B5設(shè)置且固定安裝在立柱B5上，所述的儲罐3的兩側(cè)分別設(shè)置有轉(zhuǎn)軸16和轉(zhuǎn)軸117，轉(zhuǎn)軸16和轉(zhuǎn)軸117對稱設(shè)置，轉(zhuǎn)軸16的另一端旋轉(zhuǎn)安裝在立柱A4上，轉(zhuǎn)軸117與伺服電機2的輸出端連接，所述的儲罐3內(nèi)設(shè)置有用于盛裝蝕刻液的型腔8，儲罐3的頂部、底部分別設(shè)置有進液口 9、出液口 10，進液口 9和出液口 10均與型腔8連通，所述的進液口 9和出液口 10處均連接有截至閥12。所述的儲罐3的兩個側(cè)壁上均設(shè)置有多個與型腔8連通的進氣口 11。
[0011]它還包括控制器，所述的控制器與伺服電機2連接，可通過控制器控制伺服電機2的啟動或關(guān)閉，同時還能控制伺服電機2的轉(zhuǎn)速，操作非常方便。
[0012]本發(fā)明的工作過程如下:先打開進液口 9處的截至閥12，往型腔8內(nèi)注入一定量的蝕刻液隨后關(guān)閉該截止閥2，再控制伺服電機2的啟動，伺服電機2帶動轉(zhuǎn)軸117轉(zhuǎn)動，轉(zhuǎn)軸117帶動儲罐3做旋轉(zhuǎn)運動，從而帶動蝕刻液做旋轉(zhuǎn)運動，同時經(jīng)進氣口 11向儲罐3內(nèi)通入潔凈的高壓空氣，高壓空氣推動蝕刻液在型腔8內(nèi)做不規(guī)則的往復(fù)運動，并結(jié)合旋轉(zhuǎn)運動，有效避免了蝕刻液產(chǎn)生沉淀。當(dāng)要取用蝕刻液時，只需關(guān)閉伺服電機2，打開出液口10處的截止閥12，將蝕刻液放出。
[0013]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明并非局限于本文所披露的形式，不應(yīng)看作是對其他實施例的排除，而可用于各種其他組合、修改和環(huán)境，并能夠在本文所述構(gòu)想范圍內(nèi)，通過上述教導(dǎo)或相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)或知識進行改動。而本領(lǐng)域人員所進行的改動和變化不脫離本發(fā)明的精神和范圍，則都應(yīng)在本發(fā)明所附權(quán)利要求的保護范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種盛裝蝕刻液的裝置，其特征在于:它包括機座(I)、伺服電機(2)和儲罐(3)，所述的機座(I)上設(shè)置有垂直于機座(I)的立柱A (4)和立柱B (5)，所述的伺服電機(2)垂直于立柱B (5)設(shè)置且固定安裝在立柱B (5)上，所述的儲罐(3)的兩側(cè)分別設(shè)置有轉(zhuǎn)軸I(6)和轉(zhuǎn)軸II (7)，轉(zhuǎn)軸I (6)和轉(zhuǎn)軸II (7)對稱設(shè)置，轉(zhuǎn)軸I (6)的另一端旋轉(zhuǎn)安裝在立柱A (4)上，轉(zhuǎn)軸II (7)與伺服電機(2)的輸出端連接，所述的儲罐(3)內(nèi)設(shè)置有用于盛裝蝕刻液的型腔(8 )，儲罐(3 )的頂部、底部分別設(shè)置有進液口( 9 )、出液口( 10 )，進液口( 9 )和出液口(10)均與型腔(8)連通，所述的儲罐(3)的兩個側(cè)壁上均設(shè)置有多個與型腔(8)連通的進氣口(11)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種盛裝蝕刻液的裝置，其特征在于:它還包括控制器，所述的控制器與伺服電機(2)連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種盛裝蝕刻液的裝置，其特征在于:所述的進液口(9)和出液口( 10 )處均連接有截至閥(12 )。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種盛裝蝕刻液的裝置，它包括機座（1）、伺服電機（2）和儲罐（3），伺服電機（2）垂直于立柱B（5）設(shè)置且固定安裝在立柱B（5）上，儲罐（3）的兩側(cè)分別設(shè)置有轉(zhuǎn)軸I（6）和轉(zhuǎn)軸II（7），轉(zhuǎn)軸I（6）的另一端旋轉(zhuǎn)安裝在立柱A（4）上，轉(zhuǎn)軸II（7）與伺服電機（2）的輸出端連接，儲罐（3）內(nèi)設(shè)置有用于盛裝蝕刻液的型腔（8），儲罐（3）的頂部、底部分別設(shè)置有進液口（9）、出液口（10），進液口（9）和出液口（10）均與型腔（8）連通，儲罐（3）的兩個側(cè)壁上均設(shè)置有多個與型腔（8）連通的進氣口（11）。本發(fā)明的有益效果是：制造成本低、操作簡單、能夠有效避免蝕刻液產(chǎn)生沉淀。
【IPC分類】C23F1-08
【公開號】CN104878387
【申請?zhí)枴緾N201510332190
【發(fā)明人】韋建敏, 趙興文, 張曉蓓, 張小波
【申請人】成都虹華環(huán)?？萍脊煞萦邢薰?br>【公開日】2015年9月2日
【申請日】2015年6月16日