一種自動化程度高的盛裝蝕刻液的裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及防止蝕刻液產生沉淀的技術領域，特別是一種自動化程度高的盛裝蝕刻液的裝置。
【背景技術】
[0002]目前，電路板在蝕刻過程中，蝕刻液腐蝕電路板上的銅條，隨著銅材料的不斷溶解，溶液的比重不斷升高，當比重超過一定值后，自動補償氯化銨和氨水體系的蝕刻液，調整比重到合適的范圍。一般比重控制在18~240Be。溶液PH值的影響蝕刻液的PH值應保持在8.0~8.8之間。
[0003]當蝕刻液的PH值降低到8.0以下時，一方面是對金屬抗蝕層不利，另一方面，蝕刻液中的銅不能完全絡合成銅氨絡離子，溶液會出現沉淀，并在槽底形成泥狀沉淀，這些沉淀能夠在加熱器上結成硬皮，可能損壞加熱器，還會堵塞泵和噴嘴，給蝕刻造成困難。只有不斷的攪拌蝕刻液使蝕刻液不斷的運動，以防止溶液出現沉淀，當需要使用蝕刻液蝕刻電路板時，放出蝕刻液即可，目前，大多數采用攪拌器攪拌蝕刻液，然而該攪拌器結構復雜，其上的攪拌葉片溶液被蝕刻液腐蝕，不推廣使用。

【發(fā)明內容】

[0004]本發(fā)明的目的在于克服現有技術的缺點，提供一種結構緊湊、制造成本低、操作簡單、能夠有效避免蝕刻液產生沉淀的自動化程度高的盛裝蝕刻液的裝置。
[0005]本發(fā)明的目的通過以下技術方案來實現:一種自動化程度高的盛裝蝕刻液的裝置，它包括機座、油缸和儲罐，所述的機座上設置有垂直于機座的立柱A和立柱B，所述的儲罐的兩側分別設置有轉軸I和轉軸II，轉軸I和轉軸II分別旋轉安裝在立柱A和立柱B上，所述的儲罐內設置有用于盛裝蝕刻液的型腔，儲罐的頂部、底部分別設置有進液口、出液口，進液口和出液口均與型腔連通，進液口和出液口處均連接有二位二通電磁換向閥，所述的儲罐的兩個側壁上均設置有多個與型腔連通的進氣口，所述的機座上還設置有機架，機架上設置有平臺，平臺上固定安裝有垂直于轉軸I的油缸，油缸的活塞桿鉸接在儲罐的后端，它還包括設置在機座上的PLC控制器，所述的PLC控制器與兩個二位二通電磁換向閥和油缸連接。
[0006]所述的轉軸I與轉軸II對稱設置。
[0007]所述的PLC控制器設置在立柱B的旁側。
[0008]本發(fā)明具有以下優(yōu)點:(I)本發(fā)明的儲罐的兩個側壁上均設置有多個與型腔連通的進氣口，經進氣口向儲罐內通入潔凈的高壓空氣，高壓空氣推動蝕刻液在型腔內做不規(guī)則的往復運動，并結合油缸推動儲罐使儲罐內的蝕刻液做擺動，從而蝕刻液始終處于運動狀態(tài)，有效避免了蝕刻液產生沉淀。(2)本發(fā)明的PLC控制器與兩個二位二通電磁換向閥和油缸連接，PLC控制器控制兩個二位二通電磁換向閥的啟動或關閉，無需操作人員手動啟閉進液口和出液口，同時PLC控制器還能夠控制油缸的活塞桿做往復的伸出或縮回運動，從而活塞桿帶動儲罐繞轉軸I和轉軸II為支點做擺動，使儲罐內的蝕刻液擺動，具有自動化程度高的特點，操作非常省力且操作簡單。
【附圖說明】
[0009]圖1為本發(fā)明的結構示意圖；
圖2為圖1的A-A剖視圖；
圖中，1-機座，2-油缸，3-儲罐，4-立柱A，5-立柱B，6-轉軸I，7-轉軸II，8-型腔，
9-進液口，10-出液口，11 -進氣口，12- 二位二通電磁換向閥，13-機架，14-平臺，15-PLC控制器。
【具體實施方式】
[0010]下面結合附圖對本發(fā)明做進一步的描述，本發(fā)明的保護范圍不局限于以下所述: 如圖1和圖2所示，一種自動化程度高的盛裝蝕刻液的裝置，它包括機座1、油缸2和儲罐3，所述的機座I上設置有垂直于機座I的立柱A4和立柱B5，所述的儲罐3的兩側分別設置有轉軸16和轉軸117，轉軸16與轉軸117對稱設置，轉軸16和轉軸117分別旋轉安裝在立柱A4和立柱B5上，所述的儲罐3內設置有用于盛裝蝕刻液的型腔8，儲罐3的頂部、底部分別設置有進液口 9、出液口 10，進液口 9和出液口 10均與型腔8連通，進液口 9和出液口 10處均連接有二位二通電磁換向閥12，所述的儲罐3的兩個側壁上均設置有多個與型腔8連通的進氣口 11，所述的機座I上還設置有機架13，機架13上設置有平臺14，平臺14上固定安裝有垂直于轉軸16的油缸2，油缸2的活塞桿鉸接在儲罐3的后端。如圖1所示，它還包括設置在機座I上的PLC控制器15，所述的PLC控制器15設置在立柱B5的旁側，所述的PLC控制器15與兩個二位二通電磁換向閥12和油缸2連接，操作人員可經PLC控制器15控制兩個二位二通電磁換向閥12的啟動或關閉，無需操作人員手動啟閉進液口9和出液口 10，具有自動化程度高的特點，同時PLC控制器15還能夠控制油缸2的活塞桿做往復的伸出或縮回運動，從而活塞桿帶動儲罐3繞轉軸16和轉軸117為支點做擺動，使儲罐3內的蝕刻液擺動。
[0011]本發(fā)明的工作過程如下:先打開進液口 9處的二位二通電磁換向閥12，并往型腔8內注入一定量的蝕刻液隨后經PLC控制器15控制該二位二通電磁換向閥12關閉，再控制油缸2做往復的伸出或縮回的運動，油缸2帶動儲罐3以轉軸16和轉軸117為支點做擺動，同時經進氣口 11向儲罐3內通入潔凈的高壓空氣，高壓空氣推動蝕刻液在型腔8內做不規(guī)則的往復運動，并結合儲罐3的擺動，保證了蝕刻液始終處于運動狀態(tài)，有效避免了蝕刻液產生沉淀。當要取用蝕刻液時，經PLC控制器15控制油缸2關閉，同時控制出液口 10處的二位二通電磁換向閥12打開，將蝕刻液放出。
[0012]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應當理解本發(fā)明并非局限于本文所披露的形式，不應看作是對其他實施例的排除，而可用于各種其他組合、修改和環(huán)境，并能夠在本文所述構想范圍內，通過上述教導或相關領域的技術或知識進行改動。而本領域人員所進行的改動和變化不脫離本發(fā)明的精神和范圍，則都應在本發(fā)明所附權利要求的保護范圍內。
【主權項】
1.一種自動化程度高的盛裝蝕刻液的裝置，其特征在于:它包括機座(I)、油缸(2)和儲罐(3)，所述的機座(I)上設置有垂直于機座(I)的立柱A (4)和立柱B (5)，所述的儲罐(3)的兩側分別設置有轉軸I (6)和轉軸II (7)，轉軸I (6)和轉軸II (7)分別旋轉安裝在立柱A (4)和立柱B (5)上，所述的儲罐(3)內設置有用于盛裝蝕刻液的型腔(8)，儲罐(3)的頂部、底部分別設置有進液口(9)、出液口( 10 )，進液口(9)和出液口( 10)均與型腔(8)連通，進液口(9)和出液口( 10)處均連接有二位二通電磁換向閥(12)，所述的儲罐(3)的兩個側壁上均設置有多個與型腔(8)連通的進氣口(11)，所述的機座(I)上還設置有機架(13)，機架(13)上設置有平臺(14)，平臺(14)上固定安裝有垂直于轉軸I (6)的油缸(2)，油缸(2)的活塞桿鉸接在儲罐(3)的后端，它還包括設置在機座(I)上的PLC控制器(15)，所述的PLC控制器(15)與兩個二位二通電磁換向閥(12)和油缸(2)連接。2.根據權利要求1所述的一種自動化程度高的盛裝蝕刻液的裝置，其特征在于:所述的轉軸I (6)與轉軸II (7)對稱設置。3.根據權利要求1所述的一種自動化程度高的盛裝蝕刻液的裝置，其特征在于:所述的PLC控制器(15)設置在立柱B (5)的旁側。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種自動化程度高的盛裝蝕刻液的裝置，它包括機座（1）、油缸（2）和儲罐（3），轉軸I（6）和轉軸II（7）分別旋轉安裝在立柱A（4）和立柱B（5）上，所述的儲罐（3）內設置有用于盛裝蝕刻液的型腔（8），進液口（9）和出液口（10）均與型腔（8）連通，儲罐（3）的兩個側壁上均設置有多個與型腔（8）連通的進氣口（11），機座（1）上還設置有機架（13），油缸（2）的活塞桿鉸接在儲罐（3）的后端，它還包括設置在機座（1）上的PLC控制器（15），PLC控制器（15）與兩個二位二通電磁換向閥（12）和油缸（2）連接。本發(fā)明的有益效果是：制造成本低、操作簡單、能夠有效避免蝕刻液產生沉淀。
【IPC分類】C23F1/08
【公開號】CN104911591
【申請?zhí)枴緾N201510331971
【發(fā)明人】韋建敏, 趙興文, 張曉蓓, 張小波
【申請人】成都虹華環(huán)?？萍脊煞萦邢薰?br>【公開日】2015年9月16日
【申請日】2015年6月16日