電鍍液的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于無電解電鍍領(lǐng)域，具體為電鍍液。
【背景技術(shù)】
[0002]無電解電鍍?yōu)樵诠ぜ显跊]有外加電流的情況下，用純化學的方法，形成一層致密的金屬覆蓋層，如化學鍍鎳、化學鍍銅、化學鍍銀?，F(xiàn)已成為一項成熟的電鍍技術(shù)，目前主要應用于非晶圓的物品上；因此，在鍍膜厚度均勻性方面并無嚴格要求，且極少有對于微孔電鍍的要求。
[0003]近年來，隨著半導體技術(shù)的快速發(fā)展，將無電解電鍍技術(shù)應用于晶圓上的機會亦隨著大幅增加；舉凡如硅晶片或砷化鎵晶片背面導孔(backsideviahole)的電鍍技術(shù)等。隨著電子工業(yè)的發(fā)展，電子工業(yè)對無電解電鍍技術(shù)的要求，越來越高，為此，對于無電解電鍍技術(shù)的改良主要可由兩方面著手:其一對無電解電鍍設備加以改良，其二則是為研發(fā)新的電鍍液配方。
[0004]爭對無電解設備的改良上已有多篇專利，如中國專利CN102766858A “無電解電鍍設備與方法”，適用于對至少一晶圓進行無電解電鍍處理；前述設備包括有槽體單元、晶圓承載單元、無電解電鍍液供應單元以及超聲波震蕩單元；其中，前述槽體單元設有至少一入水口，用于承裝一無電解電鍍液；前述晶圓承載單元結(jié)合于前述槽體單元內(nèi)；前述無電解電鍍液供應單元用于將無電解電鍍液經(jīng)前述入水口，供應至該槽體單元內(nèi)；前述超聲波震蕩單元則結(jié)合于該無電解電鍍槽體單元，用于均勻擾動該槽體單元內(nèi)的無電解電鍍液。又如中國專利CN103741177A “一種LED引線框架的電鍍設備”，由壓板、上模、下模、底板、基板、噴射板和電極組成，上模為無孔平板，上模固定在壓板的下方，下模對應需要電鍍的部位形成鏤空孔，下模固定在底板上，底板固定在基板上，基板的下方安裝電極和噴射板，底板、基板和噴射板上開有供電鍍液流過的通孔，其用于對LED引線框架的背面功能區(qū)選擇電鍍銀、正面功能區(qū)選擇電鍍銀或芯片放置區(qū)局部電鍍銀的單面選擇局部電鍍工序，大大減少了電鍍銀層面積，金屬銀得以有效利用，降低了電鍍成本，并提高塑料與引線框架的結(jié)合力，達到防分層目的，提高了 LED產(chǎn)品的品質(zhì)。
[0005]但關(guān)于無電解電鍍的電解液目前只有中國專利CN1421546 “鈀電鍍液”，它是至少含有按鈀量換算為I?60g/L的可溶性鈀鹽和0.1?300g/L的氨基磺酸或其鹽的鈀電鍍液，且不含光澤劑，其中上述可溶性鈀鹽選自Pd(NH3)4C12、Pd(NH3)4I2、Pd (NH3) 4 (ΟΝΟ) 2、Pd (ΝΗ3) 4 (Ν03) 2、Pd (ΝΗ3) 4 (S03) 2、Pd (ΝΗ3) 4 (S04) 2 和 Pd (ΝΗ3) 4 (Ν02) 2。其主要是為了在表面能夠形成具有針狀結(jié)晶的鍍鈀層。
[0006]就關(guān)于如何改進電鍍液，使其能廣泛應用于各類電子產(chǎn)品的鍍層并具備良好的效果并沒有相應的研究。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種電鍍液，可廣泛應用與各類電子產(chǎn)品的各類鍍層。
[0008]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明所采取的具體技術(shù)方案為:
電鍍液，包括磷酸氫鹽、絡合劑、鍍層的離子源，所述鍍層的離子源為鈀鹽、銅鹽、金鹽、錫鹽、鈷鹽其中一種或任意質(zhì)量比的多種。
[0009]其中，磷酸氫鹽質(zhì)量濃度77_90g/L、絡合劑質(zhì)量濃度10_13g/L、鍍層的離子源質(zhì)量濃度63-80g/L。
[0010]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，所述磷酸氫鹽為磷酸氫二鉀、磷酸氫二鈉、磷酸氫二氨或磷酸氫鋅。
[0011]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，所述絡合劑為氨基羧酸類絡合劑、羧氨基羧酸類絡合劑或甲叉膦酸酯類絡合劑。
[0012]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，所述氨基羧酸絡合劑優(yōu)選為:NTA、EDTA, DTPA, EDTA二鈉或EDTA四鈉。
[0013]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，羧氨基羧酸類優(yōu)選為:HEDTA、EGTA或二羧基甘氨酸。
[0014]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，甲叉膦酸酯類絡合劑優(yōu)選為氨基二甲叉膦酸鹽、氨基三甲叉膦酸鹽、乙二胺四甲叉膦酸鹽、二乙烯三胺五甲叉膦酸鹽或羥乙基乙二胺三甲叉膦酸。
[0015]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，還包括稀硝酸。
[0016]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，所述稀硝酸質(zhì)量濃度為8-10g/L。
[0017]本發(fā)明的有益效果:
1、本發(fā)明的鍍液組成簡單、雜質(zhì)容忍度大；
2、鍍層的離子源為鈀鹽、銅鹽、金鹽、錫鹽、鈷鹽其中一種或任意質(zhì)量比多種，可通過調(diào)整鍍層的離子源來獲得不同鍍層，且鍍層外觀好；
3、電鍍液中加入磷酸氫鹽成分、加入絡合劑，提高鍍液穩(wěn)定性，保證鍍層質(zhì)量，生產(chǎn)范圍寬。
【具體實施方式】
[0018]為了更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案和有益效果，下文結(jié)合實施例對本發(fā)明的優(yōu)選實施方式進行了更詳細地說明。應當理解，這些說明僅為示例性的，而不應理解為以任何方式對本發(fā)明構(gòu)成限制。
[0019]實施例1
電鍍液的組分及各組分大的質(zhì)量濃度為:
磷酸氫二鉀 77g/L NTA10g/L
硝酸鈀63g/L
實施效果:鍍層結(jié)晶形貌為顆粒狀，電鍍外觀半光澤。
[0020]實施例2
電鍍液的組分及各組分大的質(zhì)量濃度為:
磷酸氫二鈉90g/L EDTA13g/L
硫酸銅80g/L
稀硝酸8g/L
實施效果:鍍層結(jié)晶形貌針狀，電鍍外觀光澤。
[0021]
實施例3
電鍍液的組分及各組分大的質(zhì)量濃度為:
磷酸氫二氨 80g/L DTPAllg/L
硝酸金65g/L
稀硝酸8.5g/L
實施效果:鍍層結(jié)晶形貌為針狀和顆粒狀，電鍍外觀半光澤。
[0022]
實施例4
電鍍液的組分及各組分大的質(zhì)量濃度為:
磷酸氫鋅80g/L
EDTA 二鈉12g/L
羥基甲烷磺酸錫 70g/L
稀硝酸9g/L
實施效果:鍍層結(jié)晶形貌針狀，電鍍外觀光澤。
[0023]實施例5
電鍍液的組分及各組分大的質(zhì)量濃度為:
磷酸氫二鉀 83g/L
EDTA 四鈉 llg/L
CoF276g/L
稀硝酸9.5g/L
實施效果:鍍層結(jié)晶形貌針狀，電鍍外觀光澤。
[0024]
實施例6
電鍍液的組分及各組分大的質(zhì)量濃度為:
磷酸氫鋅 80g/L HEDTA10g/L
硝酸鈀63g/L
硝酸銅80g/L
稀硝酸10g/L
實施效果:鍍層結(jié)晶形貌針狀，電鍍外觀光澤。
[0025]
實施例7
電鍍液的組分及各組分大的質(zhì)量濃度為: 磷酸氫二氨 81g/L EGTAllg/L
硝酸鈀63g/L
硝酸銅70g/L
硝酸金80g/L
稀硝酸10g/L
實施效果:鍍層結(jié)晶形貌針狀，電鍍外觀光澤.實施例8
電鍍液的組分及各組分大的質(zhì)量濃度為:
磷酸氫二鉀79g/L
二羧基甘氨酸 llg/L
甲烷磺酸錫73g/L
稀硝酸8.5g/L
實施效果:鍍層結(jié)晶形貌針狀，電鍍外觀光澤。
[0026]
實施例9
電鍍液的組分及各組分大的質(zhì)量濃度為:
磷酸氫二氨83g/L
氨基二甲叉膦酸鈉13g/L
硝酸鈀68g/L
稀硝酸9g/L
實施效果:鍍層結(jié)晶形貌針狀，電鍍外觀光澤。
[0027]
實施例10
電鍍液的組分及各組分大的質(zhì)量濃度為:
磷酸氫鋅79g/L
氨基三甲叉膦酸鈉12g/L
Co(N03)275g/L
稀硝酸8.8g/L
實施效果:鍍層結(jié)晶形貌針狀和顆粒狀，電鍍外觀半光澤。
[0028]實施例11
電鍍液的組分及各組分大的質(zhì)量濃度為:
磷酸氫二氨79g/L
羥乙基乙二胺三甲叉膦酸 13g/L 硝酸鈀63g/L
CoBr280g/L
稀硝酸9g/L
實施效果:鍍層結(jié)晶形貌針狀，電鍍外觀光澤。
[0029]實施例12 電鍍液的組分及各組分大的質(zhì)量濃度為:
磷酸氫鋅86g/L
乙二胺四甲叉膦酸鉀12.2g/L
CoBr277g/L
稀硝酸9.5g/L
實施效果:鍍層結(jié)晶形貌:針狀，電鍍外觀光澤。
[0030]實施例13
電鍍液的組分及各組分大的質(zhì)量濃度為:
磷酸氫二氨80g/L
二乙烯三胺五甲叉膦酸鈉11.3g/L
丙烷磺酸錫72.lg/L
CoF268.4g/L
稀硝酸8.8g/L
實施效果:鍍層結(jié)晶形貌針狀，電鍍外觀光澤。
[0031]
以上參照實施例對本發(fā)明的優(yōu)選實施方式作了具體描述，然而這些描述僅為說明性的而非限制性的。本領(lǐng)域技術(shù)人員在不偏離本發(fā)明精髓和范圍的前提下，可以對這些優(yōu)選實施方式作出各種顯而易見的變更和修改，這些變更或修改后的實施方式仍然落在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.電鍍液，其特征在于:包括磷酸氫鹽、絡合劑和鍍層的離子源，所述鍍層的離子源為鈀鹽、銅鹽、金鹽、錫鹽、鈷鹽其中一種或任意質(zhì)量比的多種。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍液，其特征在于:磷酸氫鹽、絡合劑、鍍層的離子源的質(zhì)量濃度分別為:磷酸氫鹽77-90g/L、絡合劑10-13g/L、鍍層的離子源63_80g/L。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍液，其特征在于:所述磷酸氫鹽為磷酸氫二鉀、磷酸氫二鈉、磷酸氫二氨或磷酸氫鋅。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍液，其特征在于:所述絡合劑為氨基羧酸類絡合劑、羧氨基羧酸類絡合劑或甲叉膦酸酯類絡合劑。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電鍍液，其特征在于:所述氨基羧酸絡合劑優(yōu)選為:NTA、EDTA、DTPA、EDTA 二鈉或 EDTA 四鈉。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電鍍液，其特征在于:羧氨基羧酸類優(yōu)選為:HEDTA、EGTA或二羧基甘氨酸。7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電鍍液，其特征在于:甲叉膦酸酯類絡合劑優(yōu)選為氨基二甲叉膦酸鹽、氨基三甲叉膦酸鹽、乙二胺四甲叉膦酸鹽、二乙烯三胺五甲叉膦酸鹽或羥乙基乙二胺三甲叉膦酸。8.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4、5、6或7所述的電鍍液，其特征在于:還包括稀硝酸。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電鍍液，其特征在于:所述稀硝酸質(zhì)量濃度為8-10g/L。
【專利摘要】本發(fā)明屬于無電解電鍍領(lǐng)域，具體為電鍍液，包括磷酸氫鹽、絡合劑和鍍層的離子源，所述鍍層的離子源為鈀鹽、銅鹽、金鹽、錫鹽、鈷鹽其中一種或任意質(zhì)量比多種。因此，本發(fā)明的電鍍液能廣泛應用于各類電子產(chǎn)品的鍍層并具備好的鍍層效果。
【IPC分類】C23C18/16
【公開號】CN105002481
【申請?zhí)枴緾N201510392002
【發(fā)明人】向延海
【申請人】蘇州華日金菱機械有限公司
【公開日】2015年10月28日
【申請日】2015年7月7日