空腔室2提供所述真空壓力。應當知道，真空腔室2自身可以形成反應腔室3，基板在該反應腔室3中由前體進行處理，或者也可選擇，單獨的反應腔室3可以布置在真空腔室2內部，如圖中所示。當提供單獨的反應腔室3時，基板在反應腔室3內部進行處理，前體也供給至該單獨反應腔室3內。
[0016]ALD單元I還包括前體傳送系統(tǒng)(圖中未示出)，用于將氣態(tài)前體供給反應腔室3，意思是真空腔室2或在該真空腔室2內部的單獨反應腔室3，如在該實例中，以便執(zhí)行原子層沉積。前體傳送系統(tǒng)包括一個或多個前體源(例如氣體容器或坩禍)以及用于將前體導向反應腔室3的管或導管。換句話說，前體以氣態(tài)供給反應腔室3，但是在前體儲罐中，它們可以是氣體、液體或固體。前體傳送系統(tǒng)還可以包括排出裝置，用于從反應腔室3中除去前體或沖洗氣體。
[0017]ALD單元I包括真空腔室2，該真空腔室2確定真空空間20。真空腔室2提供有閘閥21，基板10可以通過該閘閥21而裝載至真空腔室2內部。閘閥21還可以由裝載艙口等代替。ALD單元I還包括單獨的反應腔室3，該反應腔室3布置在真空腔室2內部，反應腔室3確定了在反應腔室3內部的反應空間30。ALD單元I還提供有基板架5，該基板架5包括幾個基板保持器6，基板10裝載在該基板保持器6上。基板架5包括底部板7，基板架5支承在該底部板7上?；寮?還可以包括架框架11，所述基板保持器6布置成與所述框架11連接?；寮?還提供有升高裝置8，該升高裝置8相對于基板架5布置成用于在反應腔室3內部升高基板架5。在反應腔室3的打開位置中，基板架5至少局部在該反應腔室3的外部。裝載裝置布置成由裝載臂9等裝載基板10通過閘閥21進入真空腔室2和裝載至基板架5的基板保持器6上。裝載裝置通常是裝載機器人，該裝載機器人有機器人臂9，用于裝載、卸載和處理基板10。在圖1的實施例中，裝載沿基本水平方向來進行。在基板10的裝載過程中，升高裝置8可以使得基板架5逐漸運動至隨后裝載位置，這樣，裝載裝置和裝載臂9的裝載運動可以每次都總是線性和基本相同。因此，升高裝置8可以使得基板架5逐步地線性向上運動，且裝載裝置可以通過相同的基本線性裝載運動而將基板10裝載至基板架5的重疊基板保持器6上。這使得基板10的裝載簡單和高效，且一批的兩個或更多基板10可以提供給基板架5，而沒有復雜的裝載運動。因此，該裝置還包括升高裝置，該升高裝置設置成用于使得裝載的基板架5升高至反應腔室3內，這樣，反應腔室3布置成通過由升高裝置使得基板架5運動而關閉和打開。在圖1中，基板10裝載在基板架5的頂部基板保持器6上。在本發(fā)明的全部實施例中都不必須使用頂部基板保持器6來用于承載基板10，但是頂部基板保持器6可以在不承載基板10的情況下像基板架5的頂表面一樣起作用。當基板10裝載在頂部基板保持器6上時，其它基板保持器可以保持就位，因為不需要額外的空間來用于裝載。在這樣的方案中，一個或多個促動器42附接在真空腔室2的壁上。促動器42還能夠附接在其它合適位置中。促動器42例如能夠氣動或電操作。
[0018]圖2a_2f表示了 ALD裝置I，但是真空腔室2省去，以便簡化附圖。在這些圖中，基板保持器6相互堆疊，所述基板保持器能夠是具有開口的框架、擱架等，從而使得前體氣體能夠流至基板10的表面上。在圖2a中，反應腔室3打開，全部空的基板保持器彼此在頂上。第一基板10裝載至頂部保持器6上。促動器42的軸41退出。有多種方式來組合促動器的數(shù)目和它們的布置。一種方案是使用四個促動器，在兩個相對側上各兩個促動器。圖2b表示了在第一基板6裝載至頂部基板保持器6上之后底部板7向上運動，直到頂部基板保持器6處于促動器軸41的高度。促動器軸41向外運動，直到軸端部處于基板保持器6的相應孔/槽中。圖2c表示了另一基板10裝載至基板保持器6上。底部板7使得除了頂部基板保持器6之外的全部基板保持器與它一起向下運動。頂部保持器6通過促動器軸41而保持就位。因此，這時在頂部保持器和其余的保持器之間有可用空間，從而能夠裝載下一個基板10。圖2d表示了底部板7向上運動，直到從頂部的第二保持器到達頂部保持器。然后，促動器軸41退出，底部板7進一步向上運動再一個保持器的距離。圖2e表示了促動器軸41向外運動至保持器6的相應孔/槽內。然后，底部板7向下運動，從而打開在兩個頂部保持器6和其余的保持器6之間的空間，因此能夠裝載下一個基板10。圖2f表示了當全部基板10都裝載和全部促動器軸41都退出時，底部板7向上運動，直到反應腔室3關閉。
[0019]有另一種方法來將基板10裝載至基板保持器6上，如下面所述。在該實施例中，頂部基板保持器6已經(jīng)包括基板10，因此要裝載的基板保持器有在它上面的另一基板保持器6。進行裝載的基板保持器6布置在裝載位置，這樣，從它至在它上面的基板保持器6的距離比在處理階段中在所述基板保持器6之間的距離更大。在該實施例中，裝載裝置9在全部裝載階段中都沿豎直方向保持相同位置，因此，為了使得進行裝載的基板保持器6到達正確位置，意味著升高裝置8必須使得基板保持器6向上升高。在進行裝載的基板保持器6和它上面的基板保持器6之間的空間將通過使得進行裝載的基板保持器6運動和/或通過使得其它基板保持器6運動而布置，在這種特殊情況中，在它上面的基板保持器6是最頂側基板保持器，在本例中該最頂側基板保持器不能進一步離開進行裝載的基板保持器6運動，因此進行裝載的基板保持器6必須遠離最頂側基板保持器6，優(yōu)選是在它下面的其它基板保持器6也運動成相互更接近。因此，在裝載階段中，除了進行裝載的基板保持器6之外的基板保持器6布置成通過促動器而運動至等待位置，在該等待位置中，基板保持器6比在處理位置中更相互接近，它們在處理階段中處于該處理位置。在本發(fā)明的另一實施例中，裝載裝置9布置成在特定高度運動至真空腔室2和/或反應腔室3內部，然后向下運動例如大約10-20mm，或者甚至大約200-300mm，以使得基板10布置在基板保持器6上，且裝載裝置9與基板10分離。然后，裝載裝置9在該較低高度從真空腔室2和/或反應腔室3向外運動，或者在真空腔室2和/或反應腔室3內部向上運動，然后向外運動。當兩個上部基板保持器6已經(jīng)裝載和布置于處理位置中(它們在處理階段中處于該處理位置)時，進行裝載的基板保持器6優(yōu)選是遠離在它上面的基板保持器6，且在它下面的其它基板保持器6布置在等待位置，這樣，與在具有處理位置的處理階段中相比，它們彼此更接近。優(yōu)選是，進行裝載的基板保持器6通過促動器而運動，這樣，當兩個上部基板保持器6處于處理位置時，進行裝載的基板保持器6遠離它們，且在進行裝載的基板保持器下面的基板保持器6布置在等待位置，以使得在連續(xù)基板保持器6之間的空間比在處理階段中在相同基板保持器6之間的空間更小。因此，在裝載階段中，已經(jīng)裝有基板10的基板保持器6布置成通過促動器而運動至處理位置，以使得在連續(xù)的裝載基板保持器6之間的距離與在處理階段中相同。還能夠在裝載階段中，除了進行裝載的基板保持器6之外的基板保持器6保持就位，而進行裝載的基板保持器6通過促動器而運動至裝載位置。在裝載階段中，進行裝載的基板保持器6通過促動器而運動至裝載位置。使得所述基板保持器6運動的促動器優(yōu)選是銷結構，這樣，銷布置成穿過反應腔室3和/或真空腔室2的底部，在圖3的情況中為反應腔室3的底部。所述反應腔室3的底部優(yōu)選是由基板架5的底部板7來布置，因此銷結構也布置成穿過底部板7。其它促動器結構也可以，例如將桿布置成穿過腔室壁。促動器還能夠布置成使得運動部件在反應腔室3的外部。因此在運動部件上沒有污染或薄膜沉積，因此不產(chǎn)生顆粒。
[0020]圖3a_3f表示了基板保持器6分別支承在基板架5內的方案?；灞３制髂軌蚴强蚣?、擱架或類似件，具有在彼此之間的空間，從而使得前體氣體能夠流過基板表面。圖3a表示了處于打開位置的反應腔室2，全部空的基板保持器6通過保持器銷45而由架5來支承。第一基板裝載在頂部保持器上。促動器42的軸41退出。有多種方式來組合促動器的數(shù)目和它們的布置。一種方案是使用四個促動器，在兩個相對側上各兩個促動器。圖3b表示了底部板7向上運動，直到頂部基板保持器6處于促動器軸41的高度。促動器軸