一種遮罩組件的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種金屬遮罩制程，尤其涉及一種包含精細金屬遮罩與金屬框架的遮罩組件。
【背景技術】
[0002]在現行的圖案化制程中，往往通過多個遮罩條所組成的遮罩搭配鍍膜制程來形成各種圖案化膜層。在此，遮罩(mask)是金屬薄板通過蝕刻(etching)的方式制作多條細長的金屬線，利用這些金屬線之間的空隙作為鍍膜制程時的開口區(qū)。一般來說，由于金屬線相當細長，易扭曲變形，因此在遮罩條的兩側往往設有拉伸區(qū)，當遮罩條被固定至框架上以構成遮罩組件時，于拉伸區(qū)施以預張力，使金屬線橫向繃緊。如此一來，可讓金屬線基本維持直線從而使開口區(qū)保持正確的形狀與位置，并得以對抗鍍膜時溫度升高所引起的膨脹量，以及抵抗遮罩與欲鍍膜的基板重量所造成的彎曲變形。然而，在施加上述預張力時，現有架構的拉伸區(qū)靠近施力點的位置在力量轉換以及受力形變方面的自由度不夠高，導致靠近拉伸區(qū)的開口區(qū)容易出現波浪狀的褶皺(wrinkle)，使遮罩條無法服帖于欲鍍膜的基板，造成開口區(qū)的位置偏移、鍍膜厚度不均以及欲鍍膜的目標位置走位等問題。
[0003]以有機發(fā)光二極管(Organic Light Emitting D1de，0LED)的蒸鍍過程為例，其所需的遮罩條為精細金屬遮罩(Fine Metal Mask,FMM)。在遮罩組件的制程中，我們通常利用夾子(gripper)調節(jié)精細金屬遮罩的位置以便做出的產品符合期望的設計規(guī)格。但是，精細金屬遮罩的金屬線細長以及夾子的拉伸力作用，在精細金屬遮罩的表面容易呈現波浪形的褶皺，給后續(xù)的測量、焊接以及面板良率帶來了不良影響。舉例來說，褶皺意味著同一遮罩條的高低不平，則遮罩條并未很好地與框架貼合，而在沒有貼合的部分，焊點就會失效。另外，幅度過大的褶皺還會造成在后續(xù)制程中，精細金屬遮罩與陣列玻璃基板不能很好地貼合，造成混色(color mura)的困擾。
[0004]有鑒于此，如何設計一種新穎的遮罩組件，或對現有的遮罩組件進行有效改進，以克服現有技術中的上述缺陷或不足，是業(yè)內相關技術人員亟待解決的一項課題。

【發(fā)明內容】

[0005]針對現有技術中的遮罩組件所存在的上述缺陷，本發(fā)明提供一種可減少或消除褶皺的、包括精細金屬遮罩與金屬框架的遮罩組件。
[0006]依據本發(fā)明的一個方面，提供了一種遮罩組件，包括一精細金屬遮罩(Fine MetalMask，FMM)和一金屬框架(Metal Frame)，所述精細金屬遮罩固定于所述金屬框架，其中，所述精細金屬遮罩具有兩個拉伸區(qū)與一圖案區(qū)，所述拉伸區(qū)分別位于所述圖案區(qū)的相對兩偵U，其中，每個拉伸區(qū)包括一半圓弧形的鏤空部，藉由所述鏤空部來改善拉伸過程中的應力分布O
[0007]在其中的一實施例，當所述精細金屬遮罩固定于所述金屬框架之后，所述圖案區(qū)位于所述金屬框架內。
[0008]在其中的一實施例，所述拉伸區(qū)還包括沿所述精細金屬遮罩寬度方向的一焊接線，當所述精細金屬遮罩焊接并固定于所述金屬框架后，以所述焊接線為分界，移除所述拉伸區(qū)中的遠離所述圖案區(qū)的一側。
[0009]在其中的一實施例，所述鏤空部位于所述拉伸區(qū)的焊接線的、遠離所述圖案區(qū)的一側。
[0010]在其中的一實施例，所述鏤空部的直徑大小隨所述鏤空部與所述焊接線間的距離縮短而增加。
[0011]在其中的一實施例，所述鏤空部的直徑比所述精細金屬遮罩的寬度值小6_。
[0012]在其中的一實施例，所述精細金屬遮罩的厚度為30微米或40微米。
[0013]在其中的一實施例，所述遮罩組件適用于有機發(fā)光二極管的蒸鍍制程。
[0014]采用本發(fā)明的遮罩組件，其包括一精細金屬遮罩和一金屬框架，精細金屬遮罩固定于金屬框架且具有兩個拉伸區(qū)與一圖案區(qū)，拉伸區(qū)分別位于圖案區(qū)的相對兩側，其中，每個拉伸區(qū)包括一半圓弧形的鏤空部，藉由該鏤空部來改善拉伸過程中的應力分布。相比于現有技術，本發(fā)明在精細金屬遮罩的拉伸區(qū)各切割形成一個半圓弧狀的鏤空部，藉由該鏤空部可降低應力(stress reduct1n)，使拉伸過程中的張力在精細金屬遮罩的表面更加均勻的分布。此外，本發(fā)明還可減少或消除精細金屬遮罩在張網過程中的褶皺不良情形，提高對位量測的準確性，減少焊接過程中的焊點失敗的可能。
【附圖說明】
[0015]讀者在參照附圖閱讀了本發(fā)明的【具體實施方式】以后，將會更清楚地了解本發(fā)明的各個方面。其中，
[0016]圖1A示出現有技術中的一種遮罩組件的精細金屬遮罩和金屬框架在固定之前的分解不意圖；
[0017]圖1B示出圖1A的精細金屬遮罩和金屬框架在固定之后的狀態(tài)示意圖；
[0018]圖2示出本發(fā)明的可改善張網過程中的褶皺現象的遮罩組件的第一實施例；以及
[0019]圖3示出本發(fā)明的可改善張網過程中的褶皺現象的遮罩組件的第二實施例。
【具體實施方式】
[0020]為了使本申請所揭示的技術內容更加詳盡與完備，可參照附圖以及本發(fā)明的下述各種具體實施例，附圖中相同的標記代表相同或相似的組件。然而，本領域的普通技術人員應當理解，下文中所提供的實施例并非用來限制本發(fā)明所涵蓋的范圍。此外，附圖僅僅用于示意性地加以說明，并未依照其原尺寸進行繪制。
[0021]下面參照附圖，對本發(fā)明各個方面的【具體實施方式】作進一步的詳細描述。
[0022]圖1A示出現有技術中的一種遮罩組件的精細金屬遮罩和金屬框架在固定之前的分解示意圖。圖1B示出圖1A的精細金屬遮罩和金屬框架在固定之后的狀態(tài)示意圖。
[0023]參照圖1A和圖1B，精細金屬遮罩(Fine Metal Mask，FMM)具有兩個拉伸區(qū)10和12、位于兩個拉伸區(qū)10和12之間的一圖案區(qū)14。精細金屬遮罩可通過焊接、鎖固或其它方式被固定于金屬框架20上。此外，精細金屬遮罩所包括的遮罩條的數量可以大于I。換言之，通常一個精細金屬遮罩由被固定在金屬框架20上的多個遮罩條所構成，以便于進行大面積的蒸鍍或其它制程。
[0024]—般來說，出于分辨率(resolut1n)的考慮，越薄的遮罩越能得到高分辨率的像素，因此現有制程往往采用30微米或40微米厚度的精細金屬遮罩。在實務上，由于精細金屬遮罩中的各條金屬線十分細長，易扭曲變形，因此通過在拉伸區(qū)10和12施加預張力，使金屬線繃緊并固定于金屬框架20上，可避免于鍍膜制程時欲鍍膜位置走位，并提供足以承載鍍膜時溫度所造成的膨脹量以及遮罩與欲鍍膜的基板的重量所造成的彎曲變形。
[0025]具體地，在左拉伸區(qū)1和右拉伸區(qū)I 2各自的拉伸位置1 2和I 2 2利用夾子(gripper)夾住精細金屬遮罩，并且將其移動至設計位置附近。然后根據當前的像素坐標與設計坐標的差異值(PPA)，夾子會微調精細金屬遮罩的位置，直至達到預期規(guī)格。這是因為，精細金屬遮罩制程以及機臺誤差，我們并不能保證精細金屬遮罩送進設計位置后馬上就能夠達到標準，因此需要利用PPA的值進行位置微調。PPA越小，表示精細金屬遮罩越接近設計值。等精細金屬遮罩到達我們想要的位置后，將精細金屬遮罩固定焊接在金屬框架20上。
[0026]在精細金屬遮罩被固定焊接于金屬框架20后，圖案區(qū)14位于金屬框架20內，拉伸區(qū)位于金屬框架20外。若以數字104和124標識焊接線，則焊接結束以后，僅保留拉伸區(qū)10和12的