一種硅片自動(dòng)研磨裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種硅片自動(dòng)研磨裝置，包括機(jī)架，其特征在于：所述機(jī)架上設(shè)置有左右往復(fù)運(yùn)動(dòng)的X軸橫移機(jī)構(gòu)、設(shè)置有前后往復(fù)運(yùn)動(dòng)的Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)、與所述Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)相連的氣動(dòng)馬達(dá)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述氣動(dòng)馬達(dá)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上設(shè)置有用于磨削硅片的磨頭。通過(guò)采用上述結(jié)構(gòu)，利用X軸橫移機(jī)構(gòu)代替人工的來(lái)回往復(fù)手持操作，利用Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)代替人工換硅片研磨面的操作，利用氣動(dòng)馬達(dá)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)磨頭快速轉(zhuǎn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)硅片的磨削。
【專利說(shuō)明】
一種硅片自動(dòng)研磨裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種硅片自動(dòng)研磨裝置，尤其涉及一種生產(chǎn)效率高、加工方便的硅片自動(dòng)研磨裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]硅片在生產(chǎn)過(guò)程中由于尺度可能存在一定的偏差，因此就需要人工手持的方式在砂輪的來(lái)回校正，但是由于采用手持的方式，因此該操作就會(huì)帶來(lái)以下缺點(diǎn):I，浪費(fèi)專門研磨的I個(gè)勞動(dòng)力；2，由于手持過(guò)程中可能會(huì)出現(xiàn)輕微晃動(dòng)，導(dǎo)致研磨的平整度人為很難把握，報(bào)廢率相對(duì)較大;人工操作，效率相對(duì)不高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種硅片自動(dòng)研磨裝置，具有生產(chǎn)效率高、加工方便的特點(diǎn)。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的技術(shù)方案為:一種硅片自動(dòng)研磨裝置，包括機(jī)架，其創(chuàng)新點(diǎn)在于:所述機(jī)架上設(shè)置有左右往復(fù)運(yùn)動(dòng)的X軸橫移機(jī)構(gòu)、設(shè)置有前后往復(fù)運(yùn)動(dòng)的Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)、與所述Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)相連的氣動(dòng)馬達(dá)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述氣動(dòng)馬達(dá)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上設(shè)置有用于磨削娃片的磨頭。
[0005]優(yōu)選的，所述X軸橫移機(jī)構(gòu)包括X軸工作臺(tái)、設(shè)置在所述X軸工作臺(tái)上對(duì)稱設(shè)置的兩個(gè)導(dǎo)軌、設(shè)置在兩個(gè)所述導(dǎo)軌之間的X軸驅(qū)動(dòng)電機(jī)和與該X軸驅(qū)動(dòng)電機(jī)的電機(jī)軸相連的X軸用絲桿、與所述X軸用絲桿配合的X軸活動(dòng)平臺(tái)，所述X軸活動(dòng)平臺(tái)配合在兩個(gè)所述導(dǎo)軌上。
[0006]優(yōu)選的，所述Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)包括Y軸工作平臺(tái)、設(shè)置在所述Y軸工作平臺(tái)上對(duì)稱設(shè)置的兩個(gè)Y軸用導(dǎo)軌、設(shè)置在兩個(gè)所述Y軸用導(dǎo)軌之間的Y軸驅(qū)動(dòng)電機(jī)和與該Y軸用驅(qū)動(dòng)電機(jī)的電機(jī)軸相連的Y軸絲桿。
[0007]優(yōu)選的，所述氣動(dòng)馬達(dá)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括基座和設(shè)置在所述基座上的氣動(dòng)馬達(dá)。
[0008]優(yōu)選的，所述支架上設(shè)置有用于水冷卻的循環(huán)水箱。
[0009]優(yōu)選的，所述支架為鏤空支架。
[0010]優(yōu)選的，所述支架上設(shè)置有人機(jī)界面操作模塊。
[0011]優(yōu)選的，所述支架上設(shè)置有配電盤模塊，所述配電盤模塊包括與氣動(dòng)馬達(dá)信號(hào)連接的伺服器模塊和與所述氣動(dòng)馬達(dá)相連的馬達(dá)電阻調(diào)整模塊。
[0012]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:通過(guò)采用上述結(jié)構(gòu)，利用X軸橫移機(jī)構(gòu)代替人工的來(lái)回往復(fù)手持操作，利用Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)代替人工換硅片研磨面的操作，利用氣動(dòng)馬達(dá)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)磨頭快速轉(zhuǎn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)硅片的磨削。
【附圖說(shuō)明】
[0013]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的描述。
[0014]圖1是本發(fā)明一種硅片自動(dòng)研磨裝置的主視圖。
[0015]圖2是本發(fā)明一種硅片自動(dòng)研磨裝置的左視圖。
[0016]圖3是本發(fā)明一種硅片自動(dòng)研磨裝置的俯視圖。
[0017]圖中:1_機(jī)架、2-X軸工作臺(tái)、3-導(dǎo)軌、4-X軸驅(qū)動(dòng)電機(jī)、5-X軸用絲桿、6-X軸活動(dòng)平臺(tái)、7-Y軸工作平臺(tái)、8-Y軸用導(dǎo)軌、9-Y軸驅(qū)動(dòng)電機(jī)、1-Y軸絲桿、11-基座、12-氣動(dòng)馬達(dá)、13-循環(huán)水箱、14-人機(jī)界面操作模塊、15-配電盤模塊、151-伺服器模塊、152-馬達(dá)電阻調(diào)整模塊。
【具體實(shí)施方式】
[0018]本發(fā)明硅片自動(dòng)研磨裝置包括機(jī)架I，機(jī)架I上設(shè)置有左右往復(fù)運(yùn)動(dòng)的X軸橫移機(jī)構(gòu)、設(shè)置有前后往復(fù)運(yùn)動(dòng)的Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)、與Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)相連的氣動(dòng)馬達(dá)12旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，氣動(dòng)馬達(dá)12旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上設(shè)置有用于磨削硅片的磨頭。通過(guò)采用上述結(jié)構(gòu)，利用X軸橫移機(jī)構(gòu)代替人工的來(lái)回往復(fù)手持操作，利用Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)代替人工換硅片研磨面的操作，利用氣動(dòng)馬達(dá)12旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)磨頭快速轉(zhuǎn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)硅片的磨削。
[0019]上述的X軸橫移機(jī)構(gòu)包括X軸工作臺(tái)2、設(shè)置在X軸工作臺(tái)2上對(duì)稱設(shè)置的兩個(gè)導(dǎo)軌3、設(shè)置在兩個(gè)導(dǎo)軌3之間的X軸驅(qū)動(dòng)電機(jī)4和與該X軸驅(qū)動(dòng)電機(jī)4的電機(jī)軸相連的X軸用絲桿
5、與X軸用絲桿5配合的X軸活動(dòng)平臺(tái)6，X軸活動(dòng)平臺(tái)6配合在兩個(gè)導(dǎo)軌3上。Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)包括Y軸工作平臺(tái)7、設(shè)置在Y軸工作平臺(tái)7上對(duì)稱設(shè)置的兩個(gè)Y軸用導(dǎo)軌8、設(shè)置在兩個(gè)Y軸用導(dǎo)軌8之間的Y軸驅(qū)動(dòng)電機(jī)9和與該Y軸用驅(qū)動(dòng)電機(jī)的電機(jī)軸相連的Y軸絲桿1。
[0020]上述的氣動(dòng)馬達(dá)12旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括基座11和設(shè)置在基座11上的氣動(dòng)馬達(dá)12;支架上設(shè)置有用于水冷卻的循環(huán)水箱13;為了節(jié)約材料，支架為鏤空支架；為了便于實(shí)現(xiàn)人機(jī)互動(dòng)，支架上設(shè)置有人機(jī)界面操作模塊14。為了實(shí)時(shí)控制氣動(dòng)馬達(dá)12，支架上設(shè)置有配電盤模塊15，配電盤模塊15包括與氣動(dòng)馬達(dá)12信號(hào)連接的伺服器模塊151和與氣動(dòng)馬達(dá)12相連的馬達(dá)電阻調(diào)整模塊152。
[0021]最后需要說(shuō)明的是，以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制性技術(shù)方案，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，那些對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本技術(shù)方案的宗旨和范圍，均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種硅片自動(dòng)研磨裝置，包括機(jī)架，其特征在于:所述機(jī)架上設(shè)置有左右往復(fù)運(yùn)動(dòng)的X軸橫移機(jī)構(gòu)、設(shè)置有前后往復(fù)運(yùn)動(dòng)的Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)、與所述Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)相連的氣動(dòng)馬達(dá)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述氣動(dòng)馬達(dá)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上設(shè)置有用于磨削硅片的磨頭。2.如權(quán)利要求1所述的一種硅片自動(dòng)研磨裝置，其特征在于:所述X軸橫移機(jī)構(gòu)包括X軸工作臺(tái)、設(shè)置在所述X軸工作臺(tái)上對(duì)稱設(shè)置的兩個(gè)導(dǎo)軌、設(shè)置在兩個(gè)所述導(dǎo)軌之間的X軸驅(qū)動(dòng)電機(jī)和與該X軸驅(qū)動(dòng)電機(jī)的電機(jī)軸相連的X軸用絲桿、與所述X軸用絲桿配合的X軸活動(dòng)平臺(tái)，所述X軸活動(dòng)平臺(tái)配合在兩個(gè)所述導(dǎo)軌上。3.如權(quán)利要求1所述的一種硅片自動(dòng)研磨裝置，其特征在于:所述Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)包括Y軸工作平臺(tái)、設(shè)置在所述Y軸工作平臺(tái)上對(duì)稱設(shè)置的兩個(gè)Y軸用導(dǎo)軌、設(shè)置在兩個(gè)所述Y軸用導(dǎo)軌之間的Y軸驅(qū)動(dòng)電機(jī)和與該Y軸用驅(qū)動(dòng)電機(jī)的電機(jī)軸相連的Y軸絲桿。4.如權(quán)利要求1所述的一種硅片自動(dòng)研磨裝置，其特征在于:所述氣動(dòng)馬達(dá)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括基座和設(shè)置在所述基座上的氣動(dòng)馬達(dá)。5.如權(quán)利要求1所述的一種硅片自動(dòng)研磨裝置，其特征在于:所述支架上設(shè)置有用于水冷卻的循環(huán)水箱。6.如權(quán)利要求5所述的一種硅片自動(dòng)研磨裝置，其特征在于:所述支架為鏤空支架。7.如權(quán)利要求5所述的一種硅片自動(dòng)研磨裝置，其特征在于:所述支架上設(shè)置有人機(jī)界面操作模塊。8.如權(quán)利要求5所述的一種硅片自動(dòng)研磨裝置，其特征在于:所述支架上設(shè)置有配電盤模塊，所述配電盤模塊包括與氣動(dòng)馬達(dá)信號(hào)連接的伺服器模塊和與所述氣動(dòng)馬達(dá)相連的馬達(dá)電阻調(diào)整模塊。
【文檔編號(hào)】B24B47/20GK105834889SQ201610310377
【公開日】2016年8月10日
【申請(qǐng)日】2016年5月12日
【發(fā)明人】吉成東
【申請(qǐng)人】蘇州市展進(jìn)機(jī)電設(shè)備有限公司