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蒸發(fā)源移送單元、蒸鍍裝置及蒸鍍方法

文檔序號:10517511閱讀:400來源:國知局
蒸發(fā)源移送單元、蒸鍍裝置及蒸鍍方法
【專利摘要】本發(fā)明公開蒸發(fā)源移送單元、蒸鍍裝置及蒸鍍方法。本發(fā)明的蒸發(fā)源移送單元包括:下側軌道,包括線形的第一軌道、線形的第二軌道及曲線的第三軌道,線形的第一軌道在一個中心點與橫穿蒸鍍腔室的虛擬的第一放射方向相垂直,線形的第二軌道在中心點與橫穿蒸鍍腔室的虛擬的第二放射方向相垂直,曲線的第三軌道連接第一軌道和第二軌道;上側軌道,包括線形的第四軌道、線形的第五軌道及曲線的第六軌道,線形的第四軌道與第一軌道相隔開來形成平行,線形的第五軌道與第二軌道相隔開來形成平行,曲線的第六軌道連接第四軌道和第五軌道;移送部,線形的蒸發(fā)源以相對于下側軌道和上側軌道形成垂直的方式結合,移送部沿著下側軌道和上側軌道進行往復移動。
【專利說明】
蒸發(fā)源移送單元、蒸鍍裝置及蒸鍍方法
技術領域
[0001]本發(fā)明涉及一種蒸發(fā)源移送單元、蒸鍍裝置及蒸鍍方法。更詳細地,涉及一種有機物蒸鍍裝置及利用其的蒸鍍方法,上述有機物蒸鍍裝置能夠在一個腔室內(nèi)對多個基板進行蒸鍍工序,而在一個基板的蒸鍍工序過程中,對其他基板進行移送工序或?qū)R工序,從而能夠減少節(jié)拍時間(tact time),并能夠減少在對基板進行移送工序或?qū)R工序的過程中發(fā)生的有機物材料的損失。
【背景技術】
[0002]有機發(fā)光器件(OrganicLuminescence Emitting Device:0LED)作為利用只要在熒光性有機化合物中通電就會發(fā)光的電致發(fā)光現(xiàn)象的自我發(fā)光的自發(fā)光器件,由于不需要用于向非發(fā)光器件照射光的背光,因而能夠制作輕量且薄型的平板顯示裝置。
[0003]這種利用有機發(fā)光器件的平板顯示裝置因反應速度快、觀察角度廣而正成為新一代顯示裝置。
[0004]尤其,因制作工序簡單而具有能夠比以往的液晶顯示裝置更能節(jié)約生產(chǎn)成本的優(yōu)點。
[0005]在有機電致發(fā)光器件中,作為除陽電極及陰電極的剩余構成層的空穴注入層、空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層及電子注入層等由有機薄膜形成,這種有機薄膜通過真空熱蒸鍍方法來蒸鍍于基板上。
[0006]真空熱蒸鍍方法通過如下方式實現(xiàn):向真空的腔室內(nèi)移送基板,并在所移送的基板排列形成有規(guī)定圖案的蔭罩(shadow mask)后,向裝有有機物的i甘禍施加熱量,并在基板上蒸鍍在坩禍中得到升華的有機物。
[0007]現(xiàn)有技術的真空熱蒸鍍方法存在如下問題:由于在一個腔室內(nèi)對一個基板實施蒸鍍工序,因此,在基板的移送工序和蔭罩的對齊工序中,因中斷針對基板的蒸鍍工序而增加節(jié)拍時間(tack time)。
[0008]并且,在基板的移送工序和蔭罩的對齊工序中,也因為有機物在坩禍中持續(xù)升華而存在有機物材料受損的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]本發(fā)明要解決的技術問題
[0010]本發(fā)明提供能夠在一個腔室內(nèi)對多個基板進行蒸鍍工序,而在一個基板的蒸鍍工序過程中,對其他基板進行移送工序或?qū)R工序,從而能夠減少節(jié)拍時間(tact time),并能夠減少在對基板進行移送工序或?qū)R工序的過程中發(fā)生的有機物材料的損失的蒸發(fā)源移送單元、蒸鍍裝置及利用其的蒸鍍方法。
[0011]技術方案
[0012]根據(jù)本發(fā)明的一實施方式,本發(fā)明提供如下的蒸發(fā)源移送單元:上述蒸發(fā)源移送單元配置于蒸鍍腔室的內(nèi)部,用于移送線形的蒸發(fā)源,上述蒸發(fā)源移送單元包括:下側軌道,包括線形的第一軌道、線形的第二軌道及曲線的第三軌道,上述第一軌道在一個中心點與橫穿上述蒸鍍腔室的虛擬的第一放射方向形成垂直,上述第二軌道在上述中心點與橫穿上述蒸鍍腔室的虛擬的第二放射方向形成垂直,上述第三軌道用于連接上述第一軌道和上述第二軌道;上側軌道,包括線形的第四軌道、線形的第五軌道及曲線的第六軌道,上述第四軌道與上述第一軌道相隔開來形成平行,上述第五軌道與上述第二軌道相隔開來形成平行,上述第六軌道用于連接上述第四軌道和上述第五軌道;以及移送部,上述線形的蒸發(fā)源以相對于上述下側軌道和上述上側軌道形成垂直的方式相結合,上述移送部沿著上述下側軌道和上述上側軌道進行往復移動。
[0013]上述移送部可以包括:一對第一滑動部,分別以沿著上述下側軌道和上述上側軌道移動的方式與上述下側軌道和上述上側軌道相向并相結合;以及一對第二滑動部,分別與上述一對第一滑動部相隔開,并以沿著上述下側軌道和上述上側軌道移動的方式與上述下側軌道和上述上側軌道相向并相結合,上述第一滑動部可以包括:移動塊,沿著上述下側軌道或上述上側軌道移動;以及旋轉(zhuǎn)塊,以能夠向水平方向進行旋轉(zhuǎn)的方式與上述移動塊的上側相結合,上述第二滑動部可以包括:移動塊,沿著上述下側軌道或上述上側軌道移動;旋轉(zhuǎn)塊,以能夠向水平方向進行旋轉(zhuǎn)的方式與上述移動塊的上側相結合;以及滑動桿,以相對于上述旋轉(zhuǎn)塊進行滑動的方式與上述旋轉(zhuǎn)塊相結合。
[0014]本發(fā)明還可以包括源支架,上述源支架被上述第一滑動部和上述第二滑動部支撐,上述蒸發(fā)源能夠與上述源支架相結合。
[0015]本發(fā)明還可以包括:齒軌,分別向上述下側軌道及上側軌道的外側隔開規(guī)定間隔,并沿著上述上側軌道及上述下側軌道配置;小齒輪,與上述齒軌相嚙合;以及馬達部,與上述源支架相結合,用于向上述小齒輪提供旋轉(zhuǎn)力。
[0016]根據(jù)本發(fā)明的再一實施方式,提供蒸鍍裝置,上述蒸鍍裝置包括:蒸鍍腔室,被劃分為第一蒸鍍區(qū)域和第二蒸鍍區(qū)域,第一基板在一個中心點沿著第一放射方向在上述第一蒸鍍區(qū)域進行引出引入,第二基板在上述中心點沿著第二放射方向在上述第二蒸鍍區(qū)域進行引出引入;第一基板裝載部,向上述第一放射方向裝載并放置上述第一基板;第二基板裝載部,向上述第二放射方向裝載并放置上述第二基板;蒸發(fā)源,與上述第一基板或上述第二基板相向,并噴射蒸發(fā)物質(zhì);以及蒸發(fā)源移送單元,用于移送上述蒸發(fā)源,上述蒸發(fā)源移送單元包括:下側軌道,包括線形的第一軌道、線形的第二軌道及曲線的第三軌道,上述第一軌道與上述第一放射方向形成垂直,上述第二軌道與上述第二放射方向形成垂直,上述第三軌道用于連接上述第一軌道和上述第二軌道;上側軌道,包括線形的第四軌道、線形的第五軌道及曲線的第六軌道,上述第四軌道與上述第一軌道相隔開來形成平行,上述第五軌道與上述第二軌道相隔開來形成平行,上述第六軌道用于連接上述第四軌道和上述第五軌道;以及移送部,上述線形的蒸發(fā)源以相對于上述下側軌道和上述上側軌道形成垂直的方式相結合,上述移送部沿著上述下側軌道和上述上側軌道進行往復移動。
[0017]上述移送部可以包括:一對第一滑動部,分別以沿著上述下側軌道和上述上側軌道移動的方式與上述下側軌道和上述上側軌道相向并相結合;以及一對第二滑動部,分別與上述一對第一滑動部相隔開,并以沿著上述下側軌道和上述上側軌道移動的方式與上述下側軌道和上述上側軌道相向并相結合,上述第一滑動部可以包括:移動塊,沿著上述下側軌道或上述上側軌道移動;以及旋轉(zhuǎn)塊,以能夠向水平方向進行旋轉(zhuǎn)的方式與上述移動塊的上側相結合,上述第二滑動部可以包括:移動塊,沿著上述下側軌道或上述上側軌道移動;旋轉(zhuǎn)塊,以能夠向水平方向進行旋轉(zhuǎn)的方式與上述移動塊的上側相結合;以及滑動桿,以相對于上述第一放射方向向垂直方向滑動的方式與上述旋轉(zhuǎn)塊相結合。
[0018]上述蒸鍍裝置還可以包括源支架,上述源支架被上述第一滑動部和上述第二滑動部支撐,上述蒸發(fā)源能夠與上述源支架相結合。
[0019]上述蒸鍍裝置還可以包括:齒軌,分別向上述上側軌道的外側隔開規(guī)定間隔,并沿著上述上側軌道配置;小齒輪,與上述齒軌相嚙合;以及馬達部,與上述源支架相結合,用于向上述小齒輪提供旋轉(zhuǎn)力。
[0020]根據(jù)本發(fā)明的另一實施方式,提供如下的蒸鍍方法:作為利用上述蒸鍍裝置來對蒸發(fā)物質(zhì)進行蒸鍍的方法,上述蒸鍍方法包括:向上述第一蒸鍍區(qū)域的上述上側軌道及上述下側軌道的端部移送上述移送部的步驟;向上述第一放射方向裝載上述第一基板,并在上述第一基板裝載部放置上述第一基板的步驟;使上述移送部沿著上述第一軌道及上述第三軌道移動,并在上述第一基板蒸鍍上述蒸發(fā)物質(zhì)的步驟;與在上述第一基板蒸鍍蒸發(fā)粒子的步驟一同向上述第二放射方向裝載上述第二基板,并在上述第二基板裝載部放置上述第二基板的步驟;以及使上述移送部經(jīng)過曲線的上述第三軌道及上述第五軌道,并沿著上述第二軌道及上述第四軌道移動,并在上述第二基板蒸鍍蒸發(fā)粒子的步驟。
[0021]本發(fā)明在上述第一基板蒸鍍蒸發(fā)物質(zhì)的步驟之后,還可以包括:從上述蒸鍍腔室引出已完成蒸鍍的上述第一基板,并向上述第一放射方向裝載新的第一基板,在上述第一基板裝載部放置新的第一基板的步驟。
[0022]有益效果
[0023]根據(jù)本發(fā)明的實施例,能夠在一個腔室內(nèi)對多個基板進行蒸鍍工序,而在一個基板的蒸鍍工序過程中,對其他基板進行移送工序或?qū)R工序,從而能夠減少節(jié)拍時間(tacttime),并能夠減少在對基板進行移送工序或?qū)R工序的過程中發(fā)生的有機物材料的損失。
【附圖說明】
[0024]圖1為用于說明本發(fā)明一實施例的蒸鍍裝置的結構的橫向剖視圖。
[0025]圖2為用于說明本發(fā)明一實施例的蒸鍍裝置的結構的縱向剖視圖。
[0026]圖3為簡要示出本發(fā)明一實施例的蒸發(fā)源移送單元的俯視圖。
[0027]圖4為對圖2的A部分進行放大的圖。
[0028]圖5為簡要示出本發(fā)明一實施例的蒸發(fā)源移送單元的側視圖。
[0029]圖6至圖8為用于說明本發(fā)明一實施例的蒸發(fā)源移送單元的工作過程的圖。
【具體實施方式】
[0030]本發(fā)明能夠?qū)嵤┒喾N變換,并能夠具有多種實施例,在附圖中例示特定的實施例,并在詳細說明中進行詳細的說明。但是,這并不用于將本發(fā)明限定于特定的實施形態(tài),而是應被理解為包括本發(fā)明的思想及技術范圍所包含的所有變換技術方案、等同技術方案至替代技術方案。在對本發(fā)明進行說明的過程中,在判斷對相關的公知技術的具體說明會不必要地混淆本發(fā)明的要旨的情況下,省略對此的詳細說明。
[0031]以下,參照附圖對本發(fā)明的蒸發(fā)源移送單元及蒸鍍裝置的實施例進行詳細說明,在參照附圖進行說明的過程中。對相同或相對應的結構要素賦予相同的附圖標記,并省略對此的重復說明。
[0032]圖1為用于說明本發(fā)明一實施例的蒸鍍裝置的結構的橫向剖視圖,圖2為用于說明本發(fā)明一實施例的蒸鍍裝置的結構的縱向剖視圖。而且,圖3為簡要示出本發(fā)明一實施例的蒸發(fā)源移送單元的俯視圖。
[0033]在圖1至圖3中示出了蒸發(fā)源移送單元10、蒸鍍腔室12、第一蒸鍍區(qū)域14、第二蒸鍍區(qū)域16、中心點18、第一放射方向20、第二放射方向22、轉(zhuǎn)移室24、機械臂26、第一基板裝載部28、第二基板裝載部30、第一基板32、掩膜33、第二基板34、下側軌道36、上側軌道38、蒸發(fā)源40、第一軌道42、第二軌道44、第三軌道46、第四軌道48、第五軌道50、第六軌道52、移送部54、第一滑動部56、第二滑動部58及源支架60。
[0034]本實施例的蒸鍍裝置包括:蒸鍍腔室12,被劃分為第一蒸鍍區(qū)域14和第二蒸鍍區(qū)域16,在一個中心點18中,第一基板32沿著第一放射方向20在上述第一蒸鍍區(qū)域14進行引出引入,在上述中心點18中,第二基板34沿著第二放射方向22在上述第二蒸鍍區(qū)域16進行引出引入;第一基板裝載部28,向上述第一放射方向20裝載并放置上述第一基板32;第二基板裝載部30,向上述第二放射方向22裝載并放置上述第二基板34;蒸發(fā)源40,與上述第一基板32或上述第二基板34相向,并噴射蒸發(fā)物質(zhì);以及蒸發(fā)源移送單元10,用于移送上述蒸發(fā)源40。而且,上述蒸發(fā)源移送單元10包括:下側軌道36,包括線形的第一軌道42、線形的第二軌道44及曲線的第三軌道46,上述第一軌道42與上述第一放射方向20形成垂直,上述第二軌道44與上述第二放射方向22形成垂直,上述第三軌道46用于連接上述第一軌道42和上述第二軌道44;上側軌道38,包括線形的第四軌道48、線形的第五軌道50及曲線的第六軌道52,上述第四軌道48與上述第一軌道42相隔開來形成平行,上述第五軌道50與上述第二軌道44相隔開來形成平行,上述第六軌道52用于連接上述第四軌道48和上述第五軌道50;以及移送部54,上述線形的蒸發(fā)源40以相對于上述下側軌道36和上述上側軌道38形成垂直的方式相結合,上述移送部54沿著上述下側軌道36道和上述上側軌道38進行往復移動。
[0035]蒸鍍腔室12能夠被劃分為第一蒸鍍區(qū)域14和第二蒸鍍區(qū)域16,并在一個中心點18中,第一基板32沿著第一放射方向20在第一蒸鍍區(qū)域14進行引出引入,在上述中心點18中,第二基板34沿著第二放射方向22在第二蒸鍍區(qū)域16進行引出引入。
[0036]蒸鍍腔室12作為在其內(nèi)部對基板進行蒸發(fā)物質(zhì)的蒸鍍的地方,上述蒸鍍腔室12的內(nèi)部能夠借助真空栗來維持真空狀態(tài)。在大氣壓狀態(tài)下,在形成蒸發(fā)物質(zhì)的情況下,上述蒸鍍腔室12的內(nèi)部也可以維持大氣壓狀態(tài)。蒸鍍腔室12能夠被劃分為多個蒸鍍區(qū)域,以便能夠在一個蒸鍍腔室12內(nèi)對多個基板進行蒸鍍。在此,蒸發(fā)物質(zhì)意味著在對源物質(zhì)進行加熱時發(fā)生汽化或升華后產(chǎn)生的汽狀的物質(zhì),能夠包含對有機物進行加熱來獲得的汽狀的有機物。
[0037]蒸鍍區(qū)域意味著能夠根據(jù)蒸發(fā)源40的移動來對一個基板執(zhí)行蒸發(fā)物質(zhì)的蒸鍍的虛擬空間,參照圖1,通過由圖1的一點鎖線表示的中心線,蒸鍍腔室12能夠被劃分為第一蒸鍍區(qū)域14和第二蒸鍍區(qū)域16。在第一蒸鍍區(qū)域14中,對第一基板32進行蒸發(fā)物質(zhì)的蒸鍍,而在與第一蒸鍍區(qū)域14相鄰的第二蒸鍍區(qū)域16中,對第二基板34進行蒸發(fā)物質(zhì)的蒸鍍。
[0038]第一基板32在一個中心點18沿著第一放射方向20在蒸鍍腔室12的第一蒸鍍區(qū)域14進行引入或引出,第二基板34在上述中心點18沿著第二放射方向22在蒸鍍腔室12的第二蒸鍍區(qū)域16進行引入或引出。即,第一基板32和第二基板34以相對于蒸鍍腔室12具有規(guī)定的傾斜度的方式進行引入或引出。
[0039]在群集型(clustertype)的蒸鍍系統(tǒng)中,基板能夠通過與蒸鍍腔室12相連接的轉(zhuǎn)移室24內(nèi)的機械臂26來在蒸鍍腔室12內(nèi)進行引入或引出,而在這種情況下,基板在機械臂26的旋轉(zhuǎn)中心沿著放射方向在蒸鍍腔室12進行引出引入,因此,基板能夠相對于蒸鍍腔室12具有規(guī)定的傾斜度來進行引出引入。因此,在第一基板32和第二基板34通過機械臂26來在蒸鍍腔室12進行引入或引出的情況下,相對于構成中心點18的機械臂26的旋轉(zhuǎn)中心,第一基板32沿著第一放射方向20在蒸鍍腔室12進行引出引入,第二基板34相對于構成中心點18的機械臂26的旋轉(zhuǎn)中心,沿著不同于第一放射方向20的第二放射方向22在蒸鍍腔室12進行引出引入。因此,第一放射方向20和第二放射方向22以中心點18為中心形成規(guī)定角度。
[0040]只不過,并不局限于第一基板32和第二基板34通過機械臂26來在蒸鍍腔室12進行引出引入,在第一基板32和第二基板34在蒸鍍腔室12中相互具有傾斜度來進行引出引入的情況下,可以適用本實施例的蒸鍍裝置。例如,在第一基板32和第二基板34通過兩個機械臂26來在蒸鍍腔室12進行引出引入的情況下,機械臂26的旋轉(zhuǎn)中心并不構成上述的中心點18,而是由第一基板32和第二基板34的傾斜方向所形成的虛擬的兩個傾斜線相遇的點構成中心點18。
[0041]在第一基板裝載部28及第二基板裝載部30分別裝載并放置有第一基板32和第二基板34。在本實施例中,在第一基板裝載部28及第二基板裝載部30的下部分別附著有第一基板32及第二基板34,以便從蒸發(fā)源40向上噴出蒸發(fā)物質(zhì),從而能夠在基板進行蒸發(fā)物質(zhì)的蒸鍍。
[0042]若在第一基板裝載部28及第二基板裝載部30分別裝載并放置有第一基板32和第二基板34,則在各個基板裝載部中,能夠在基板的表面配置有掩膜33,并且,基板和掩膜33能夠相互對齊。
[0043]蒸發(fā)源移送單元10與線形的蒸發(fā)源40相結合,蒸發(fā)源40借助蒸發(fā)源移送單元10來在第一蒸鍍區(qū)域14和第二蒸鍍區(qū)域16之間進行移動,并對基板進行蒸發(fā)物質(zhì)的蒸鍍。
[0044]蒸發(fā)源移送單元10包括下側軌道36和上側軌道38,上述下側軌道36包括:線形的第一軌道42,與第一放射方向20形成垂直;線形的第二軌道44,與第二放射方向22形成垂直;以及曲線的第三軌道46,用于連接第一軌道42和第二軌道44,上述上側軌道38包括:線形的第四軌道48,與第一軌道42相隔開來形成平行;線形的第五軌道50,與第二軌道44相隔開來形成平行;以及曲線的第六軌道52,用于連接第四軌道48和第五軌道50。
[0045]下側軌道36和上側軌道38相互隔開規(guī)定間隔,下側軌道36和上側軌道38能夠穩(wěn)定地支撐線形的蒸發(fā)源40。隨著進行蒸鍍的玻璃基板實現(xiàn)大型化,線形的蒸發(fā)源40也實現(xiàn)大型化,由此,蒸發(fā)源40的重量得到增加。因此,既為了穩(wěn)定地支撐變重的蒸發(fā)源40,又為了順暢地引導移動,使下側軌道36和上側軌道38成為一對。
[0046]下側軌道36的第一軌道42和上側軌道38的第四軌道48在第一蒸鍍區(qū)域14形成直線區(qū)間,下側軌道36的第二軌道44和上側軌道38的第五軌道50在第二蒸鍍區(qū)域16形成直線區(qū)間。第一蒸鍍區(qū)域14的直線區(qū)間相對于第一放射方向20形成垂直,第二蒸鍍區(qū)域16的直線區(qū)間相對于第二放射方向22形成垂直。由此,第一蒸鍍區(qū)域14的直線區(qū)間和第二蒸鍍區(qū)域16的直線區(qū)間扭曲與第一放射方向20、中心點18、第二放射方向22所形成的角度相對應的角度。因此,需要用于連接直線區(qū)間的曲線區(qū)間。即,下側軌道36的第一軌道42和第二軌道44與曲線的第三軌道46相連接,上側軌道38的第四軌道48和第五軌道50與曲線的第六軌道52相連接。此時,由于下側軌道36和上側軌道38的隔開距離,第六軌道52以大于第三軌道46的曲率半徑連接第四軌道48和第五軌道50。
[0047]在此,垂直的含義并不意味著幾何學或數(shù)學中的垂直,而是意味著考慮到加工誤差或移送誤差的垂直。
[0048]移送部54沿著下側軌道36和上側軌道38進行往復移動,線形的蒸發(fā)源40以與下側軌道36和上側軌道38形成垂直的方式與移送部54相結合。因此,若在線形的蒸發(fā)源40以與直線區(qū)間形成垂直的方式與移送部54相結合的狀態(tài)下沿著直線區(qū)間移動,則基板從單邊方向朝向相向的另一邊方向移動,并對整個基板進行蒸鍍。
[0049]移送部54在第一蒸鍍區(qū)域14的下側軌道36和上側軌道38的直線區(qū)間進行移動,并在經(jīng)過下側軌道36和上側軌道38的曲線區(qū)間后,在第二蒸鍍區(qū)域16的下側軌道36和上側軌道38的直線區(qū)間進行移動。并且,向反方向在第二蒸鍍區(qū)域16的下側軌道36和上側軌道38的直線區(qū)間進行移動,并在經(jīng)過下側軌道36和上側軌道38的曲線區(qū)間后,在第一蒸鍍區(qū)域14的下側軌道36和上側軌道38的直線區(qū)間進行移動。像這樣,移送部54沿著下側軌道36和上側軌道38反復進行往返運動。
[0050]以下,對蒸發(fā)源移送單元10的各個結構進行仔細觀察。
[0051]對利用如上所述的蒸鍍裝置來對在基板蒸鍍蒸發(fā)物質(zhì)的過程如下:首先,向第一蒸鍍區(qū)域14的上側軌道38及下側軌道36的端部移動移送部54。隨著移送部54從第一蒸鍍區(qū)域14向第二蒸鍍區(qū)域16移動,形成針對基板的蒸鍍,因此,向第一蒸鍍區(qū)域14的上側軌道38及下側軌道36的端部(參照圖3,第一蒸鍍區(qū)域14的右側端部)移動移送部54。
[0052]然后,向第一放射方向20裝載第一基板32,并放置于第一基板裝載部28。在第一基板32借助機械臂26來放置于蒸鍍腔室12的第一基板裝載部28的情況下,第一基板32針對構成中心點18的機械臂26的旋轉(zhuǎn)中心沿著第一放射方向20放置于第一基板裝載部28。在本步驟中,若第一基板32放置于第一基板裝載部28,則在第一基板32的表面配置掩膜33,從而實現(xiàn)第一基板32和掩膜33的對齊。在第一基板32的裝載過程中,還可以向第一蒸鍍區(qū)域14的上側軌道38及下側軌道36的端部移動移送部54。
[0053]然后,使移送部54沿著第一軌道42及第三軌道46移動,從而在第一基板32蒸鍍蒸發(fā)物質(zhì)。隨著使垂直地配置于直線區(qū)間的線形的蒸發(fā)源40沿著第一蒸鍍區(qū)域14的下側軌道36和上側軌道38的直線區(qū)間移動,一邊向與第一基板32的單邊方向相向的另一邊方向移動,一邊對整個基板進行蒸鍍。
[0054]若結束在第一基板32蒸鍍蒸發(fā)物質(zhì)的過程,則從蒸鍍腔室12引出完成蒸鍍的第一基板32,并向第一放射方向20裝載新的第一基板32來放置于第一基板裝載部28。
[0055]然后,與在第一基板32蒸鍍蒸發(fā)粒子的步驟一同向第二放射方向22裝載第二基板34來放置于第二基板裝載部30。在對第一基板32進行蒸鍍工序的過程中,使第二基板34放置于第二基板裝載部30,從而能夠減少節(jié)拍時間,并在對第一基板32進行蒸鍍工序的過程中,實現(xiàn)第二基板34的裝載,從而能夠減少蒸發(fā)物質(zhì)材料的損失。在本步驟中,若第二基板34放置于第二基板裝載部30,則將掩膜33配置于第二基板34的表面,并實現(xiàn)第二基板34和掩膜33的對齊。
[0056]在本實施例中,“一同”不僅意味著在時間上相同,而且還意味著針對第一基板32的蒸鍍工序和第二基板34的裝載工序以重疊的方式實現(xiàn)。
[0057]然后,使移送部54經(jīng)過曲線的第三軌道46及第五軌道50,并沿著第二軌道44及第四軌道48移動,從而使蒸發(fā)粒子蒸鍍于第二基板34。移送部54—邊經(jīng)過第一蒸鍍區(qū)域14的直線區(qū)間,一邊經(jīng)過曲線區(qū)間,并進入第二蒸鍍區(qū)域16的直線區(qū)間,使得進入第二直線區(qū)間的移送部54沿著第二蒸鍍區(qū)域16的下側軌道36和上側軌道38的直線區(qū)間移動,由此,從第二基板34的單邊方向向相向的另一邊方向移動,并實現(xiàn)對整個基板的蒸鍍。
[0058]若結束對第二基板34的蒸鍍工序,則從蒸鍍腔室12向第二放射方向22引出結束蒸發(fā)物質(zhì)的蒸鍍的第二基板34,并在第二基板裝載部30裝載并放置新的第二基板34。若在第二基板裝載部30放置新的第二基板34,則與掩膜33相對齊,并為了之后的蒸鍍工序而等待備用。
[0059]根據(jù)上述的方法,在一個腔室內(nèi)對多個基板進行蒸鍍工序,在對一個基板進行蒸鍍工序的過程中,對其他基板進行移送工序或?qū)R工序,從而能夠減少節(jié)拍時間(tacttime),并能夠減少對基板進行移送工序或?qū)R工序的過程中發(fā)生的蒸發(fā)物質(zhì)材料的損失。
[0060]以下,對蒸發(fā)源移送單元10的各結構進行仔細觀察。圖4為對圖2的A部分進行放大的圖,圖5為簡要示出本發(fā)明一實施例的蒸發(fā)源移送單元10的側視圖,圖6至圖8為用于說明本發(fā)明一實施例的蒸發(fā)源移送單元10的工作過程的圖。
[0061]在圖4至圖8中示出了下側軌道36、上側軌道38、第一軌道42、第二軌道44、第三軌道46、第四軌道48、第五軌道50、第六軌道52、移送部54、第一滑動部56、第二滑動部58、源支架60、移動塊62、68、旋轉(zhuǎn)塊64、70、滑動桿66、齒軌72、小齒輪74及馬達部76。
[0062]下側軌道36包括:線形的第一軌道42,在一個中心點18與橫穿蒸鍍腔室12的虛擬的第一放射方向20形成垂直;線形的第二軌道44,在中心點18與橫穿蒸鍍腔室12的虛擬的第二放射方向22形成垂直;以及曲線的第三軌道46,用于連接第一軌道42和第二軌道44。
[0063]上側軌道38包括:線形的第四軌道48,與第一軌道42相隔開來形成平行;線形的第五軌道50,與第二軌道44相隔開來形成平行;以及曲線的第六軌道52,用于連接第四軌道48和第五軌道50。
[0064]下側軌道36的第一軌道42和上側軌道38的第四軌道48形成直線區(qū)間,下側軌道36的第二軌道44和上側軌道38的第五軌道50在第二蒸鍍區(qū)域16形成直線區(qū)間。
[0065]由第一軌道42和第四軌道48形成的直線區(qū)間與虛擬的第一放射方向20形成垂直,由第二軌道44和第五軌道50形成的直線區(qū)間與虛擬的第二放射方向22形成垂直。由此,與第一放射方向20相垂直的直線區(qū)間和與第二放射方向22相垂直的直線區(qū)間扭曲與第一放射方向20、中心點18、第二放射方向22所形成的角度相對應的角度。因此,需要用于連接直線區(qū)間的曲線區(qū)間。即,下側軌道36的第一軌道42和第二軌道44與曲線的第三軌道46相連接,上側軌道38的第四軌道48和第五軌道50與曲線的第六軌道52相連接。此時,由于下側軌道36和上側軌道38的隔開距離,第六軌道52以大于第三軌道46的曲率半徑連接第四軌道48和第五軌道50。
[0066]曲線的第三軌道46及第六軌道52可以形成完整的曲線軌道或依次連接多個直線軌道來配置成曲線形態(tài)。
[0067]移送部54沿著與下側軌道36和上側軌道38的第一放射方向20相垂直的直線區(qū)間、曲線區(qū)間、與第二放射方向22相垂直的直線區(qū)間進行往復移動。
[0068]移送部54包括:一對第一滑動部56,分別以沿著下側軌道36和上側軌道38進行移動的方式與下側軌道36和上側軌道38相向并相結合;以及一對第二滑動部58,分別與一對第一滑動部56相隔開,并以沿著下側軌道36和上側軌道38移動的方式與下側軌道36和上側軌道38相向并相結合。
[0069]第一滑動部56包括:移動塊68,沿著下側軌道36或上側軌道38移動;以及旋轉(zhuǎn)塊,以能夠向水平方向進行旋轉(zhuǎn)的方式與移動塊68的上側相結合,第二滑動部58包括:移動塊62,沿著下側軌道36或上側軌道38移動;旋轉(zhuǎn)塊64,以能夠向水平方向進行旋轉(zhuǎn)的方式與移動塊62的上側相結合;以及滑動桿66,以相對于上述旋轉(zhuǎn)塊64進行滑動的方式與上述旋轉(zhuǎn)塊64相結合。
[0070]如圖3所示,在本實施例中提出了在每個軌道中以第一滑動部56為中心由兩個第二滑動部58配置于兩側的形態(tài)。
[0071]第一滑動部56及第二滑動部58的移動塊62、68與下側軌道36和上側軌道38相結合,并沿著各軌道移動。能夠在移動塊62、68形成有與軌道的形狀相對應的凹槽,并能夠在移動塊62、68的凹槽插入軌道來防止移動塊62、68的脫離。
[0072]第一滑動部56的旋轉(zhuǎn)塊70與第一滑動部56的移動塊68的上側相結合,并向水平方向旋轉(zhuǎn)。在移動塊68和旋轉(zhuǎn)塊70之間結合有圓形的軸承,從而能夠使旋轉(zhuǎn)塊70相對于移動塊68順暢地進行旋轉(zhuǎn)。
[0073]第二滑動部58的旋轉(zhuǎn)塊64也與第二滑動部58的移動塊62的上側相結合來向水平方向進行旋轉(zhuǎn)。
[0074]第二滑動部58的滑動桿66能夠與第二滑動部58的旋轉(zhuǎn)塊64相結合,并能夠相對于旋轉(zhuǎn)塊64向水平方向進行往返滑動。在旋轉(zhuǎn)塊64和相對于上述旋轉(zhuǎn)塊64進行滑動的滑動桿66之間設置有用于向水平方向順暢地引導直線移動的軸承,從而能夠進行穩(wěn)定的滑動。
[0075]在配置于下側軌道36和上側軌道38的第一滑動部56和第二滑動部58中,線形的蒸發(fā)源40以相對于下側軌道36和上側軌道38形成垂直的方式相結合。本實施例提出設置有額外的源支架60,并在源支架60結合蒸發(fā)源40的形態(tài)。即,屬于在配置于下側軌道36和上側軌道38的第一滑動部56和第二滑動部58結合源支架60,并在源支架60結合線形的蒸發(fā)源40的形態(tài)。
[0076]另一方面,為了使移送部54移動而用于提供驅(qū)動力的驅(qū)動部可以包括:齒軌72,分別向下側軌道36及上側軌道38的外側隔開規(guī)定間隔,并沿著上側軌道38及上述下側軌道36配置;小齒輪74,與齒軌72相嚙合;以及馬達部76,與源支架60相結合,用于向小齒輪74提供旋轉(zhuǎn)力。
[0077]齒軌72在下側軌道36和上側軌道38的外側分別沿著上側軌道38及上述下側軌道36配置,并且,各齒軌72與小齒輪74相嚙合。用于向小齒輪74提供旋轉(zhuǎn)力的馬達等馬達部76分別與源支架60的上端和下端相結合,并向小齒輪74提供旋轉(zhuǎn)力。
[0078]配置于下側軌道36的外側的驅(qū)動部用于控制源支架60的下端的移動,配置于上側軌道38的外側的驅(qū)動部用于控制源支架60的上端的移動。
[0079]參照圖6至圖8,對蒸發(fā)源移送單元10的工作過程進行說明如下:在蒸發(fā)源移送單元10的右側的直線區(qū)間中,移送部54以相同的速度在源支架60的下端和上端移動。而且,如圖6所示,將進入曲線區(qū)間,而隨著位于移送部54的前端的第二滑動部58進入曲線區(qū)間,最前端的第二滑動部58的旋轉(zhuǎn)塊64進行旋轉(zhuǎn),并由滑動桿66相對于旋轉(zhuǎn)塊64向上進行滑動。此時,下側軌道36的曲線區(qū)間以小的曲率半徑形成得較短,上側軌道38的曲線區(qū)間以大的曲率半徑形成得較長,因此,與源支架60的下端相比,源支架60的上端以快的速度移動。然后,通過移送部54的持續(xù)的移動,位于最前端的第二滑動部58的后端的第一滑動部56的旋轉(zhuǎn)塊70進行旋轉(zhuǎn),并由第一滑動部56進入曲線區(qū)間。圖7作為示出移送部54位于曲線區(qū)間的中央的狀態(tài)的圖,通過移送部54的持續(xù)的移動,最后端的第二滑動部58進入曲線區(qū)間,最后端的第二滑動部58的旋轉(zhuǎn)塊64進行旋轉(zhuǎn),并且由滑動桿66相對于旋轉(zhuǎn)塊64向上進行滑動。然后,如圖8所示,隨著移送部54的持續(xù)的移動,使得最前端的第二滑動部58進入左側的直線區(qū)間,最前端的第二滑動部58的旋轉(zhuǎn)塊64進行旋轉(zhuǎn),并由滑動桿66相對于旋轉(zhuǎn)塊64向下滑動,并返回原位置。而且,通過移送部54的持續(xù)的移動,位于最前端的第二滑動部58的后端的第一滑動部56的旋轉(zhuǎn)塊70進行旋轉(zhuǎn),并由第一滑動部56進入直線區(qū)間。而且,通過移送部54的持續(xù)的移動,最后端的第二滑動部58進入直線區(qū)間,并由最后端的第二滑動部58的旋轉(zhuǎn)塊64進行旋轉(zhuǎn),由滑動桿66相對于旋轉(zhuǎn)塊64向下滑動,并返回原位置。若完全進入左側的直線區(qū)間,則各個旋轉(zhuǎn)塊64、70和滑動桿66返回原位置,并且,移送部54沿著左側的直線區(qū)間移動。如上所述,當移送部54經(jīng)過曲線區(qū)間時,需要使移送部54的下端和上端的移動速度及移動距離變得不同,因此,分別與移送部54的下端和上端相結合的驅(qū)動部能夠調(diào)節(jié)移送部54的下端和上端的移動速度及移動距離。
[0080]以上,雖然參照本發(fā)明的特定的實施例來進行了說明,但只要是本發(fā)明所屬技術領域的普通技術人員就可以理解在不脫離發(fā)明要求保護范圍所記載的本發(fā)明的思想及技術領域的范圍內(nèi)對本發(fā)明進行多種修改及變更。
[0081]本發(fā)明的發(fā)明要求保護范圍內(nèi)存在除所述實施例之外的多個實施例。
【主權項】
1.一種蒸發(fā)源移送單元,配置于蒸鍍腔室的內(nèi)部,用于移送線形的蒸發(fā)源,上述蒸發(fā)源移送單元的特征在于,包括: 下側軌道,包括線形的第一軌道、線形的第二軌道及曲線的第三軌道,上述第一軌道在一個中心點與橫穿上述蒸鍍腔室的虛擬的第一放射方向形成垂直,上述第二軌道在上述中心點與橫穿上述蒸鍍腔室的虛擬的第二放射方向形成垂直,上述第三軌道用于連接上述第一軌道和上述第二軌道; 上側軌道,包括線形的第四軌道、線形的第五軌道及曲線的第六軌道,上述第四軌道與上述第一軌道相隔開來形成平行,上述第五軌道與上述第二軌道相隔開來形成平行,上述第六軌道用于連接上述第四軌道和上述第五軌道;以及 移送部,上述線形的蒸發(fā)源以相對于上述下側軌道和上述上側軌道形成垂直的方式相結合,上述移送部沿著上述下側軌道和上述上側軌道進行往復移動。2.根據(jù)權利要求1所述的蒸發(fā)源移送單元,其特征在于, 上述移送部包括: 一對第一滑動部,分別以沿著上述下側軌道和上述上側軌道移動的方式與上述下側軌道和上述上側軌道相向并相結合;以及 一對第二滑動部,分別與上述一對第一滑動部相隔開,并以沿著上述下側軌道和上述上側軌道移動的方式與上述下側軌道和上述上側軌道相向并相結合, 上述第一滑動部包括: 移動塊,沿著上述下側軌道或上述上側軌道移動;以及 旋轉(zhuǎn)塊,以能夠向水平方向進行旋轉(zhuǎn)的方式與上述移動塊的上側相結合, 上述第二滑動部包括: 移動塊,沿著上述下側軌道或上述上側軌道移動; 旋轉(zhuǎn)塊,以能夠向水平方向進行旋轉(zhuǎn)的方式與上述移動塊的上側相結合;以及 滑動桿,以相對于上述旋轉(zhuǎn)塊進行滑動的方式與上述旋轉(zhuǎn)塊相結合。3.根據(jù)權利要求2所述的蒸發(fā)源移送單元,其特征在于, 還包括源支架,上述源支架被上述第一滑動部和上述第二滑動部支撐, 上述蒸發(fā)源與上述源支架相結合。4.根據(jù)權利要求4所述的蒸發(fā)源移送單元,其特征在于,還包括: 齒軌,分別向上述下側軌道及上側軌道的外側隔開規(guī)定間隔,并沿著上述上側軌道及上述下側軌道配置; 小齒輪,與上述齒軌相嚙合;以及 馬達部,與上述源支架相結合,用于向上述小齒輪提供旋轉(zhuǎn)力。5.一種蒸鍍裝置,其特征在于,包括: 蒸鍍腔室,被劃分為第一蒸鍍區(qū)域和第二蒸鍍區(qū)域,第一基板在一個中心點沿著第一放射方向在上述第一蒸鍍區(qū)域進行引出引入,第二基板在上述中心點沿著第二放射方向在上述第二蒸鍍區(qū)域進行引出引入; 第一基板裝載部,向上述第一放射方向裝載并放置上述第一基板; 第二基板裝載部,向上述第二放射方向裝載并放置上述第二基板; 蒸發(fā)源,與上述第一基板或上述第二基板相向,并噴射蒸發(fā)物質(zhì);以及 蒸發(fā)源移送單元,用于移送上述蒸發(fā)源, 上述蒸發(fā)源移送單元包括: 下側軌道,包括線形的第一軌道、線形的第二軌道及曲線的第三軌道,上述第一軌道與上述第一放射方向形成垂直,上述第二軌道與上述第二放射方向形成垂直,上述第三軌道用于連接上述第一軌道和上述第二軌道; 上側軌道,包括線形的第四軌道、線形的第五軌道及曲線的第六軌道,上述第四軌道與上述第一軌道相隔開來形成平行,上述第五軌道與上述第二軌道相隔開來形成平行,上述第六軌道用于連接上述第四軌道和上述第五軌道;以及 移送部,上述線形的蒸發(fā)源以相對于上述下側軌道和上述上側軌道形成垂直的方式相結合,上述移送部沿著上述下側軌道和上述上側軌道進行往復移動。6.根據(jù)權利要求5所述的蒸鍍裝置,其特征在于, 上述移送部包括: 一對第一滑動部,分別以沿著上述下側軌道和上述上側軌道移動的方式與上述下側軌道和上述上側軌道相向并相結合;以及 一對第二滑動部,分別與上述一對第一滑動部相隔開,并以沿著上述下側軌道和上述上側軌道移動的方式與上述下側軌道和上述上側軌道相向并相結合, 上述第一滑動部包括: 移動塊,沿著上述下側軌道或上述上側軌道移動;以及 旋轉(zhuǎn)塊,以能夠向水平方向進行旋轉(zhuǎn)的方式與上述移動塊的上側相結合, 上述第二滑動部包括: 移動塊,沿著上述下側軌道或上述上側軌道移動; 旋轉(zhuǎn)塊,以能夠向水平方向進行旋轉(zhuǎn)的方式與上述移動塊的上側相結合;以及 滑動桿,以相對于上述第一放射方向向垂直方向滑動的方式與上述旋轉(zhuǎn)塊相結合。7.根據(jù)權利要求6所述的蒸鍍裝置,其特征在于, 還包括源支架,上述源支架被上述第一滑動部和上述第二滑動部支撐, 上述蒸發(fā)源與上述源支架相結合。8.根據(jù)權利要求6所述的蒸鍍裝置,其特征在于,還包括: 齒軌,分別向上述上側軌道的外側隔開規(guī)定間隔,并沿著上述上側軌道配置; 小齒輪,與上述齒軌相嚙合;以及 馬達部,與上述源支架相結合,用于向上述小齒輪提供旋轉(zhuǎn)力。9.一種蒸鍍方法,利用根據(jù)權利要求5所述的蒸鍍裝置來對蒸發(fā)物質(zhì)進行蒸鍍,上述蒸鍍方法的特征在于,包括: 向上述第一蒸鍍區(qū)域的上述上側軌道及上述下側軌道的端部移送上述移送部的步驟;向上述第一放射方向裝載上述第一基板,并在上述第一基板裝載部放置上述第一基板的步驟; 使上述移送部沿著上述第一軌道及上述第三軌道移動,并在上述第一基板蒸鍍上述蒸發(fā)物質(zhì)的步驟; 與在上述第一基板蒸鍍蒸發(fā)粒子的步驟一同向上述第二放射方向裝載上述第二基板,并在上述第二基板裝載部放置上述第二基板的步驟;以及 使上述移送部經(jīng)過曲線的上述第三軌道及上述第五軌道,并沿著上述第二軌道及上述第四軌道移動,并在上述第二基板蒸鍍蒸發(fā)粒子的步驟。10.根據(jù)權利要求9所述的蒸鍍方法,其特征在于, 在上述第一基板蒸鍍蒸發(fā)物質(zhì)的步驟之后,還包括: 從上述蒸鍍腔室引出已完成蒸鍍的上述第一基板,并向上述第一放射方向裝載新的第一基板,在上述第一基板裝載部放置新的第一基板的步驟。
【文檔編號】C23C14/24GK105874096SQ201380081651
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2013年12月16日
【發(fā)明人】尹鐘甲
【申請人】銑益系統(tǒng)有限責任公司
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