核殼二氧化硅粒子及其作為抗細(xì)菌劑的用圖
【專利摘要】本發(fā)明提供核殼二氧化硅粒子，其中每個(gè)核殼二氧化硅粒子包含二氧化硅核，并且所述二氧化硅核的表面用I族金屬硅酸鹽蝕刻。這些核殼二氧化硅粒子具有高表面電荷密度和抗細(xì)菌活性。還提供包含核殼二氧化硅粒子的組合物、制造所述核殼二氧化硅粒子的方法以及通過(guò)施用所述核殼二氧化硅粒子或其組合物降低或抑制細(xì)菌活性的方法。
【專利說(shuō)明】核亮二氧化括粒子及其作為抗細(xì)菌劑的用途
[000。 背景
[0002] 二氧化娃(Si〇2)粒子通常在口腔護(hù)理組合物中被用作研磨劑和/或增稠劑，其通 常呈熱解法二氧化娃或沉淀二氧化娃形式。使用二氧化娃的一個(gè)益處是它的低成本。然而， 二氧化娃除了其研磨和/或增稠作用之外具有有限的功用。因此，必須將其他活性劑添加到 口腔護(hù)理組合物中W提供期望的效果(例如，添加抗細(xì)菌劑W提供抗細(xì)菌作用，添加牙垢控 制劑用于控制牙垢）。對(duì)于添加其他活性劑的需要不僅提高了當(dāng)使用其他活性劑時(shí)可能出 現(xiàn)的口腔護(hù)理組合物不能滿足調(diào)節(jié)負(fù)擔(dān)的可能性，而且提高了 口腔護(hù)理組合物不合乎組合 物使用者的需要(例如，使用者對(duì)表面活性劑十二烷基硫酸鋼(SLS)敏感、使用者厭惡鋒化 合物的味道、咸味W及使用目前的牙垢控制劑所出現(xiàn)的結(jié)晶問(wèn)題等）的可能性。此外，可能 出現(xiàn)進(jìn)一步的問(wèn)題。例如，在使用抗細(xì)菌劑下的常見(jiàn)問(wèn)題是出現(xiàn)細(xì)菌對(duì)試劑的耐藥性。
[0003] 核-殼結(jié)構(gòu)的膠態(tài)粒子已為人熟知了數(shù)十年。最有名的例子是光繞射貴蛋白石，它 是在自然環(huán)境中經(jīng)數(shù)千年緩慢地形成。其核-殼結(jié)構(gòu)是在20世紀(jì)60年代通過(guò)電子顯微鏡發(fā) 現(xiàn)的。從那時(shí)起開(kāi)始制造各種合成的核-殼膠態(tài)粒子。然而，運(yùn)類核-殼材料的合成常常是復(fù) 雜的，需要多步涂布方法（參見(jiàn)Kalele等人，"Nanoshell par ticles:syn thesis， properties and applications'',current science，第91 卷，第8其月，2006年 10月25日）。因 此，雖然核-殼技術(shù)已為人所知幾十年，但未曾在牙粉工業(yè)中應(yīng)用，可能是由于制造CSS研磨 材料的高成本。
[0004] 因此，在本領(lǐng)域中仍需要具有多功能作用但具有實(shí)現(xiàn)多功能作用所必需的最少量 成分的口腔護(hù)理組合物。還需要開(kāi)發(fā)適用于口腔護(hù)理組合物中的另外的抗細(xì)菌劑和牙垢控 制劑。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明設(shè)及核殼二氧化娃粒子，其中每個(gè)核殼二氧化娃粒子包含二氧化娃核，并 且用I族金屬娃酸鹽蝕刻二氧化娃核的表面。
[0006] 本發(fā)明還設(shè)及包含所述核殼二氧化娃粒子的組合物。
[0007] 本發(fā)明還設(shè)及用于制造核殼粒子的方法，其包括將一定量在水中的二氧化娃粒子 與一定量的堿混合W產(chǎn)生所述核殼二氧化娃粒子，其中所述堿包括I族金屬離子。
[000引本發(fā)明還設(shè)及一種減少或抑制有此需要的患者口腔中的細(xì)菌的方法，其包括將本 發(fā)明的組合物施用于患者的口腔表面。
[0009] 金屬CSS粒子是指具有適當(dāng)?shù)?1電荷的金屬，例如對(duì)于化-CSS，化是化+，對(duì)于K- CSS，K 是K+等。
[0010] 如通篇所使用，利用范圍作為用于描述每個(gè)和所有在范圍內(nèi)的值和用于描述在范 圍內(nèi)的子范圍的簡(jiǎn)略的表達(dá)方式。在范圍內(nèi)的任何值可被選為子范圍的高端。在范圍內(nèi)的 任何值可被選為子范圍的低端。
[ocm]另外，本文中引用的所有參考文獻(xiàn)、書(shū)籍、專利及專利申請(qǐng)公布據(jù)此W引用的方式 整體并入。在本公開(kāi)中的定義和引用的參考文獻(xiàn)、書(shū)籍、專利或?qū)＠暾?qǐng)公布中的定義沖突 的情況下，w本公開(kāi)為準(zhǔn)。
[0012] 除非另作說(shuō)明，對(duì)周圍溫度或室溫的提及是指20-25°C的溫度范圍。
[0013] 除非另作說(shuō)明，否則在本文和說(shuō)明書(shū)的其他地方表達(dá)的所有百分比和量應(yīng)被理解 為是指基于組合物總重量的重量百分比。
[0014] 例如，在選項(xiàng)A和/或選項(xiàng)B的情況下，如本文所用的短語(yǔ)"和/或"包括（i)選項(xiàng)A; (i i)選項(xiàng)B;及(i i i)選項(xiàng)A加選項(xiàng)B的單獨(dú)的實(shí)施方案。
[0015] 應(yīng)當(dāng)理解，每當(dāng)在本文中用詞語(yǔ)"包含"描述實(shí)施方案時(shí)，還提供按照"由……組 成"和/或"基本上由……組成"描述的其他類似實(shí)施方案。
[0016] 當(dāng)本發(fā)明的方面或?qū)嵤┓桨赴凑振R庫(kù)什組或可替代的其他組加W描述時(shí)，本發(fā)明 不僅包括總體上所列的整個(gè)組，而且包括組的每個(gè)成員和主組的所有可能的亞組，W及缺 少一個(gè)或多個(gè)組成員的主組。本發(fā)明還設(shè)想在要求保護(hù)的發(fā)明中明確排除任何一個(gè)或多個(gè) 組成員。
[0017] 除非在本文中另有陳述或另外與上下文明顯矛盾，否則本文所述的各種要素的所 有組合都在本發(fā)明范圍內(nèi)。
[0018] 從下文提供的詳細(xì)說(shuō)明中可W明顯地看到本發(fā)明的其他可應(yīng)用領(lǐng)域。應(yīng)理解，詳 細(xì)說(shuō)明W及特定實(shí)施例僅僅是用于示例目的，而不意圖限制本發(fā)明的范圍。
[0019] 附圖簡(jiǎn)述
[0020] 圖1示出了本發(fā)明的核殼二氧化娃粒子的示意圖。
[0021] 圖2示出了核殼二氧化娃粒子的示意圖，其顯示在W下段落[0141]中所述的光散 射模型中限定的參數(shù)。
[0022] 圖3示出了本發(fā)明的核殼二氧化娃粒子的示意圖，其中二氧化娃核的內(nèi)表面用金 屬娃酸鹽蝕刻。
[0023] 發(fā)明詳述
[0024] W下對(duì)一個(gè)或多個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案的描述在本質(zhì)上僅是示例性的且絕不旨在限制 本發(fā)明及其應(yīng)用或使用。
[0025] 核殼二氧化娃粒子的說(shuō)明
[00%]本發(fā)明提供核殼二氧化娃粒子，其中每個(gè)核殼二氧化娃粒子包含二氧化娃核，并 且用I族金屬娃酸鹽蝕刻二氧化娃核的表面。
[0027]核殼二氧化娃粒子通過(guò)用堿蝕刻二氧化娃（Si〇2) W形成核（二氧化娃)-殼（金屬 娃酸鹽)結(jié)構(gòu)的膠體來(lái)制備。例如，使用化0H作為堿形成核(Si〇2 )-殼(化2Si〇3 )結(jié)構(gòu)的膠體。 反應(yīng)如下：
[002引
[0029] 在膠態(tài)核-殼二氧化娃粒子表面上的化2Si〇3分子（為2個(gè)化+反離子貢獻(xiàn)2個(gè)負(fù)電 荷)。
[0030] 用金屬娃酸鹽蝕刻二氧化娃核的表面。術(shù)語(yǔ)"蝕刻"意指二氧化娃核的表面溶解并 且在二氧化娃核的頂部上形成I族金屬娃酸鹽。用于制造本發(fā)明的核殼二氧化娃(CSS)粒子 的方法包括蝕刻原始二氧化娃W便形成化2Si〇3。二氧化娃粒子與堿的反應(yīng)造成二氧化娃粒 子直徑的減小W形成二氧化娃核，并且在二氧化娃核的頂部上形成I族金屬娃酸鹽。Na2Si〇3 層不是在二氧化娃的原始表面上涂布的附加層。
[0031] 通過(guò)用娃酸鹽涂布二氧化娃形成粒子的方法描述在現(xiàn)有技術(shù)中（例如，Kalele等 人，（'Nanoshel 1 particles ： synthesis ,properties and applications'' , current science，第91卷，第8期，2006年10月25日）。然而，制備二氧化娃/娃酸鹽粒子的運(yùn)些方法比 本申請(qǐng)中描述的方法更為復(fù)雜、昂貴并且不同于蝕刻。
[0032] 金屬娃酸鹽通常包含式M2Si化.X此0,其中M是I族金屬，且X為0至10。金屬娃酸鹽 可為無(wú)水的，即x = 0,或可為水合的。優(yōu)選地，M為Na或K。
[0033] 二氧化娃核的表面可為二氧化娃核的外表面(參見(jiàn)圖1A)。
[0034] 作為替代或另外，二氧化娃核的表面可為二氧化娃核的內(nèi)表面(參見(jiàn)圖2)。
[0035] 在一個(gè)實(shí)施方案中，每個(gè)粒子的外部lOnm深處包含0.1至10、任選地0.1至2重量％ M2Si03.址 2〇。
[0036] 在一個(gè)實(shí)施方案中，每個(gè)粒子的外部lOnm深處具有通式：
[0037] (Si〇2)p[00*M+mH\0H-j] .q出0
[0038] 其中0*為呈娃酸鹽形式的氧;M為I族金屬離子;9、〇、111、11〇及9為每個(gè)組分的原子 百分比（P為Si化的原子百分比，0為呈娃酸鹽形式的氧的原子百分比，m為I族金屬的原子百 分比，h為H+的原子百分比，j為or的原子百分比，且q為出0的原子百分比）；并且每個(gè)核殼二 氧化娃粒子的總電荷為零。
[0039] 除化外的每個(gè)組分的原子百分比通常通過(guò)化學(xué)分析電子光譜法化SCA)來(lái)測(cè)定。
[0040] 任選地，每個(gè)粒子的外部lOnm深處具有W下組成中的一個(gè)：
[0041] (Si〇2)3〇'3〇Na〇'4i.8.70H2〇
[0042] (Si〇2)3〇.67Nao.36.7.63H2〇
[004；3] (Si〇2)23.25[0*11.73 血).26Nai3.20].5.33 出 0
[0044] 粒子的d(0.5)或d50是W-半群體超過(guò)且一半群體低于此直徑來(lái)分割分布的直徑 (通常W微米計(jì)）。注意到此參數(shù)為粒子群的值，且單個(gè)粒子的直徑可比本文所述的d(0.5) 值更大或更小。Dv50 (或DvO. 5)是體積分布的中值，Dn50用于數(shù)量分布，且化50用于表面分 布。在本上下文中，d(0.5)將用于指代對(duì)于體積分布的中值粒度。
[0045] 在一個(gè)實(shí)施方案中，CSS粒子的d(0.5)值為5nm至50皿。
[0046] 在另一實(shí)施方案中，CSS粒子的d(0.5)值可為26WI1至40WI1。具有在此范圍內(nèi)的d (0.5)值的粒子通常是半透明的。半透明的粒子是允許光穿過(guò)的那些粒子，但是不能看到穿 過(guò)粒子的圖像。運(yùn)不同于透明的組合物，其允許光穿過(guò)并且可W看到穿過(guò)組合物的圖像。用 于測(cè)定粒度的方法在本領(lǐng)域中是眾所周知的。例如，可使用光散射方法，如使用 Mastersizer 2000，Hy化0 2000S，Malve;rn Instruments Limited測(cè)定粒度。
[0047] 在另一實(shí)施方案中，CSS粒子的d(0.5)值可為1如m至25mi。具有在此范圍內(nèi)的d (0.5)值的粒子通常是半透明的。
[004引在另一實(shí)施方案中，CSS粒子的d(0.5)值可為10M1至15WI1。具有在此范圍內(nèi)的d (0.5)值的粒子通常是不透明的。
[0049] 在另一實(shí)施方案中，CSS粒子的d(0.5)值可為如m至15皿。
[(K)加]在另一實(shí)施方案中，CSS粒子的d(0.5)值可為2.5皿至4.5皿。
[0化1] 在另一實(shí)施方案中，CSS粒子的d(0.5)值可為5nm至20nm。
[0化2] 在另一實(shí)施方案中，CSS粒子的d(0.5)值可為lOnm至15nm。
[0053] CSS粒子的d(O.l)值是WlO%的群體低于且90%的群體超過(guò)此直徑來(lái)分割分布的 直徑。
[0化4] CSS粒子的d(0.9)值是W90%的群體低于且10%群體超過(guò)此直徑來(lái)分割分布的直 徑。
[0055] 用于描述粒度分布的分布寬度的值是跨度:跨度= (d(0.9)-d(0.1))/d(0.5)
[0056] 根據(jù)本發(fā)明的核殼二氧化娃粒子的跨度通常是1.5至3。
[0化7] 在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，CSS具有10至13皿的d(0.1)、30至33皿的d(0.5)、W及61 至64皿的d(0.9)。
[0化引在另一優(yōu)選實(shí)施方案中，CSS具有6至9WI1的d(0.1)、18至21WI1的d(0.5)、W及41至 45 皿的 d(0.9)。
[0059] 在又一優(yōu)選實(shí)施方案中，CSS具有3至扣m的d(0.1)、ll至14皿的d(0.5)、W及33至 36 皿的 d(0.9)。
[0060] 在優(yōu)選實(shí)施方案中，CSS粒子的d(0.5)值小于人牙本質(zhì)小管的平均直徑。運(yùn)允許 CSS粒子進(jìn)入牙本質(zhì)小管，其可能使保護(hù)性釉質(zhì)層遭受損害。在人的牙齒中，靠近牙本質(zhì)-釉 質(zhì)界處的牙本質(zhì)小管平均直徑是0.9WI1，牙本質(zhì)小管的中截面具有約1.2WI1的直徑且靠近牙 髓的直徑為約2.5皿。
[0061] 在本發(fā)明的另一實(shí)施方案中，選擇二氧化娃源W產(chǎn)生CSS粒子，將該CSS粒子配合 到牙本質(zhì)小管(例如，Aerosil液200-熱解法二氧化娃(合成的無(wú)定形二氧化娃），具有0.012 WI1的d(0.5))中。在本發(fā)明的另一實(shí)施方案中，CSS粒子的d(0.5)值小于0.9WI1。在本發(fā)明的 仍另一實(shí)施方案中，CSS粒子具有在0.01 Own-小于0.9WI1范圍內(nèi)的d(0.5)。在本發(fā)明的另一 實(shí)施方案中，本發(fā)明的CSS粒子還可插塞、堵住釉質(zhì)中的孔。
[0062] CSS粒子可為球狀，或基本上球狀的，然而，應(yīng)當(dāng)理解粒子可具有其他形狀，例如桿 狀、針狀或楠圓體形狀。粒子可具有不規(guī)則形狀。粒子還可形成較大尺寸的聚集物。
[0063] M2Si〇3.址2〇可包含多個(gè)M2Si化.址2〇的單層。單層的數(shù)量可為2至100、2至40、2至12 或12至40個(gè)單層。
[0064] 粒子可包含2、4、16、32或36個(gè)表面M2Si化.X出0單層。
[00化]二氧化娃優(yōu)選地選自由W下組成的組:沉淀的二氧化娃、熱解法二氧化娃及烙融 的二氧化娃。
[0066] 核殼二氧化娃粒子優(yōu)選地具有高表面電荷密度和離子交換容量。任選地，核殼二 氧化娃粒子具有0.5至5. Omeq/g的總陽(yáng)離子交換容量。
[0067] 在一個(gè)實(shí)施方案中，使用0.20mm石英UV光學(xué)池在300至800nm的波長(zhǎng)下，所述核殼 二氧化娃粒子具有0.0至0.2的濁度。運(yùn)些粒子可被描述為半透明或透明的。
[0068] 在另一實(shí)施方案中，使用0.20mm石英UV光學(xué)池在300至800nm的波長(zhǎng)下，所述核殼 二氧化娃粒子具有0.8至1.6的濁度。運(yùn)些粒子可被描述為半透明的。
[0069] 在又一實(shí)施方案中，使用0.20mm石英UV光學(xué)池在300至800nm的波長(zhǎng)下，所述核殼 二氧化娃粒子具有1.8至2.4的濁度。運(yùn)些粒子可被描述為不透明的。
[0070]另一方面，本發(fā)明提供一種包含如上所述的核殼二氧化娃粒子的組合物。
[0071 ]所述組合物可為粉末研磨劑。此組合物不包含濕潤(rùn)劑。
[0072] 組合物可包含如上所定義的核殼二氧化娃粒子和載體。
[0073] 優(yōu)選地，組合物為口腔護(hù)理組合物且進(jìn)一步包含口腔可接受的載體。
[0074] 所述口腔護(hù)理組合物呈固體、漿糊、凝膠組合物或液體組合物的形式。所述組合物 可采取適用于口服的任何劑型。運(yùn)些劑型的說(shuō)明性例子包括但不限于潔牙劑，例如牙膏、牙 凝膠、牙齒乳膏或牙粉;漱口水、口腔沖洗劑或口噴劑；口服漿料或液體潔牙劑；口香糖或其 他糖果;糖錠;牙線或牙帶;預(yù)防糊劑或粉劑;單層或多層口服膜劑或凝膠條，例如牙齒條或 呼吸條，優(yōu)選使用生物可降解或口服可消耗的膜劑或凝膠;功能性膜劑或凝膠薄片或功能 性毫米、微米或納米粒子;包含前凝膠或前聚合物的成膜組合物，例如成膜潔牙劑、牙齒涂 料;牙齒硬化劑;或在口腔、例如正牙器械或植入物上的包衣。
[0075] 口腔可接受的載體優(yōu)選為水。
[0076] 對(duì)于固體潔牙劑如牙膏，組合物中水的量選自由小于10重量％、小于5重量％、小 于1重量％組成的量。在運(yùn)些量的每個(gè)中，水量的下限是0%或不超過(guò)0.1%水。
[0077] 口腔可接受的載體可進(jìn)一步包含濕潤(rùn)劑。所述濕潤(rùn)劑可為乙醇；多元醇，包括但不 限于甘油、乙二醇、環(huán)己六醇、麥芽糖醇、甘露醇、山梨糖醇、木糖醇、丙二醇、聚丙二醇 (PPG)、聚乙二醇(PEG)及其混合物；W及糖類，包括但不限于果糖、葡萄糖、薦糖及糖類的混 合物(例如蜂蜜）。
[007引在組合物的一個(gè)實(shí)施方案中，核殼二氧化娃粒子W組合物的重量計(jì)WO.lwt%至 35wt%的量存在。在組合物的另一實(shí)施方案中，CSS粒子W0.1%至1%的量存在。在組合物 的另一實(shí)施方案中，CSS粒子W0.5wt. %至20wt. %的量存在，在組合物的另一實(shí)施方案中， CSS粒子WIwt. %至lOwt. %的量存在。
[0079] 在包含載體的組合物的一個(gè)實(shí)施方案中，核殼二氧化娃粒子的折射率在載體折射 率的±0.1單位內(nèi)。
[0080] 載體可包括但不限于水或其他水性溶劑系統(tǒng)。
[0081] 所述口腔護(hù)理組合物可進(jìn)一步包含抗細(xì)菌劑。可能的抗細(xì)菌劑包括但不限于=氯 生(5-氯代-2-(2,4-二氯苯氧基)苯酪）；8-徑基哇嘟及其鹽、鋒及亞錫離子源如巧樣酸鋒、 硫酸鋒、甘氨酸鋒、巧樣酸鋒鋼及焦憐酸亞錫;銅（II)化合物，如氯化銅（II )、氣化銅、硫酸 銅及氨氧化銅;鄰苯二甲酸及其鹽，如鄰苯二甲酸儀氨鐘;血根堿;季錠化合物，如氯化烷基 化晚(例如氯化十六烷基化晚(CPCKCPC與鋒和/或酶的組合、氯化十四烷基化晚、及N-十四 烷基-4-氯化乙基化晚）；二脈，如氯己定二葡糖酸鹽、?？颂嫱?、奧替尼晚、阿立西定；面化 雙酪化合物，如2，2/亞甲基雙-(4-氯代-6-漠苯酪）；苯扎氯錠;水楊酷替苯胺、度米芬;艦； 橫酷胺;二雙脈;酪類;贓晚子基衍生物如地莫匹醇和辛贓醇;木蘭提取物;廳香草酪;下子 香酪;薄荷醇;香葉醇;香芹酪;巧樣醒;按樹(shù)腦;兒茶酪;4-締丙基兒茶酪;己基間苯二酪;水 楊酸甲醋;抗生素如奧格口汀、徑氨節(jié)青霉素、四環(huán)素、強(qiáng)力霉素、米諾環(huán)素、甲硝化挫、新霉 素、卡那霉素和氯林肯霉素;及其混合物。
[0082] 有用的抗細(xì)菌劑的進(jìn)一步說(shuō)明性列表提供于美國(guó)專利號(hào)5,776,435中，該專利W 引用的方式并入本文。鋒離子源的進(jìn)一步說(shuō)明性列表包括但不限于鋒鹽，包括但不限于乙 酸鋒、棚酸鋒、下酸鋒、碳酸鋒、氯化鋒、巧樣酸鋒、甲酸鋒、葡糖酸鋒、甘油酸鋒、徑乙酸鋒、 乳酸鋒、氧化鋒、憐酸鋒、化晚甲酸鋒、丙酸鋒、水楊酸鋒、娃酸鋒、硬脂酸鋒、酒石酸鋒、^^一 締酸鋒及其混合物。
[0083] 在一些實(shí)施方案中，抗細(xì)菌劑是在選自由W下組成的組的濃度下存在:0.001重 量％至3重量％、0.05重量％至2重量％、及0.075重量％至1.5重量％。
[0084] 在一個(gè)實(shí)施方案中，除本發(fā)明的核殼二氧化娃粒子之外不存在另外的抗細(xì)菌劑。
[0085] 組合物可進(jìn)一步包括抗離齒劑、脫敏劑、粘度調(diào)節(jié)劑、稀釋劑、表面活性劑、乳化 劑、泡沫調(diào)節(jié)劑、P的周節(jié)劑、研磨劑、口感劑、甜味劑、調(diào)味劑、著色劑、防腐劑、氨基酸、抗氧 化劑、抗牙結(jié)石劑、氣離子源、增稠劑、用于預(yù)防或治療口腔的硬或軟組織的病狀或病癥的 活性劑、及粘合劑、增白劑及其組合。
[0086] 應(yīng)當(dāng)理解，每種上述類別的材料的一般屬性可不同，可存在一些共同屬性并且在 兩種或更多種運(yùn)類材料內(nèi)的任何給定的材料可用于多個(gè)目的。優(yōu)選地，就與組合物的其他 成分的相容性來(lái)選擇載體。
[0087] 組合物的一個(gè)實(shí)施方案任選地包含氨基酸。合適的氨基酸包括但不限于精氨酸、 半脫氨酸、亮氨酸、異亮氨酸、賴氨酸、丙氨酸、天冬酷胺、天冬氨酸鹽、苯丙氨酸、谷氨酸鹽、 谷氨酸、蘇氨酸、谷氨酷胺、色氨酸、甘氨酸、鄉(xiāng)氨酸、脯氨酸、絲氨酸、酪氨酸及組氨酸、及其 兩種或更多種的組合。氨基酸可包括3-和心形式及其鹽形式。氨基酸(及其鹽形式)還可包 括氨基酸的酸醋和/或脂肪酷胺衍生物(例如，乙基月桂酷基精氨酸鹽酸鹽化LAH))。
[0088] 組合物的一個(gè)實(shí)施方案任選地包含抗氧化劑?？墒褂萌魏慰谇豢山邮艿目寡趸?劑，包括下徑基大茵香酸(BHA)、下基化徑基甲苯(冊(cè)T)、維生素 A、類胡蘿h素、維生素 E、類黃 酬、多酪、抗壞血酸、草藥抗氧化劑、葉綠素、稱黑激素及其混合物。
[0089] 組合物的一個(gè)實(shí)施方案任選地包括抗牙結(jié)石(牙垢控制)劑。合適的抗牙結(jié)石劑包 括但不限于憐酸鹽和多憐酸鹽(例如焦憐酸鹽）、聚氨基丙烷橫酸(AMPS)、六偏憐酸鹽、巧樣 酸鋒=水合物、多膚、聚締控橫酸鹽、聚締控憐酸鹽、二憐酸鹽。抗牙結(jié)石劑W約0.1%至約 30%存在?？谇唤M合物可包含不同抗牙結(jié)石劑的混合物。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，使用焦憐 酸四鋼（TSPP)和S憐酸鋼（STPP)。抗牙結(jié)石劑包含約1 -2 %的TSPP和約7 %至約10 %的 STPPo
[0090] 組合物的一個(gè)實(shí)施方案任選地包含氣離子的至少一個(gè)口腔可接受的來(lái)源?？墒褂?任何已知的或在本領(lǐng)域中有待開(kāi)發(fā)的來(lái)源。氣離子的合適的來(lái)源包括氣化物、氣化亞錫、氣 化鋼、氣化鐘、氣化胺、氣化錠、單氣憐酸亞錫、單氣憐酸鋼、單氣憐酸鐘、單氣憐酸胺、單氣 憐酸錠、氣娃酸亞錫、氣娃酸鋼、氣娃酸鐘、氣娃酸胺、氣娃酸錠及其混合物。一種或多種釋 放氣離子的化合物任選地W提供總共約100至約20,000ppm、約200至約5,0(K)ppm、或約500 至約2，50化pm氣離子的量存在。
[0091] 組合物的一個(gè)實(shí)施方案任選地包含調(diào)節(jié)組合物的流變性能和口感的各種潔牙劑 成分，如表面活性劑、增稠劑或膠凝劑等。
[0092] 組合物的一個(gè)實(shí)施方案任選地包含亞錫離子或亞錫離子源。合適的亞錫離子源包 括但不限于氣化亞錫、其他面化亞錫如氯化亞錫二水合物、焦憐酸亞錫、有機(jī)簇酸亞錫如甲 酸亞錫、乙酸亞錫、葡糖酸亞錫、乳酸亞錫、酒石酸亞錫、草酸亞錫、丙二酸亞錫及巧樣酸亞 錫、乙二醇亞錫（stannous ethylene glyoxide)等等。一個(gè)或多個(gè)亞錫離子源任選地且示 例性地W約0.01 %至約10%，例如約0.1 %至約7%或約1 %至約5%的總量存在。
[0093] 組合物的一個(gè)實(shí)施方案任選地包括表面活性劑（surface active agent/ su計(jì)actant)。合適的表面活性劑包括但不限于C8-C2日烷基硫酸鹽的水溶性鹽、C8-C20脂肪酸 的橫化單酸甘油醋、肌氨酸鹽、牛橫酸鹽、十二烷基硫酸鋼、挪油基單酸甘油醋橫酸鋼、月桂 基肌氨酸鋼、月桂基徑乙橫酸鋼、月桂基酸簇酸鋼及十二烷基苯橫酸鋼、及挪油酷氨基丙基 甜菜堿。
[0094] 組合物的一個(gè)實(shí)施方案任選地包含增稠劑?？墒褂萌魏慰谇豢山邮艿脑龀韯?，包 括但不限于卡波姆，又名簇基乙締基聚合物；角叉菜膠，又名愛(ài)爾蘭薛且更具體地說(shuō)是卡拉 膠（t-卡拉膠）、高分子量聚乙二醇（如Carbowax⑩，可獲自llie Dow化emical Company)、 纖維素聚合物如徑乙基纖維素、簇甲基纖維素(CMC)及其鹽，例如CMC鋼、天然樹(shù)膠如卡拉牙 膠、黃原膠、阿拉伯膠及黃巧膠、膠態(tài)娃酸儀侶、及膠態(tài)和/或熱解法二氧化娃及它們的混合 物。一種或多種增稠劑任選地W約0.1 %至約90%，例如約1 %至約50%或約5%至約35%的 總量存在。
[00M] 組合物的一個(gè)實(shí)施方案任選地包含調(diào)味劑、甜味劑、著色劑、泡沫調(diào)節(jié)劑、口感劑 并且如果需要的話，組合物中可包括其他添加劑。
[0096] 組合物的一個(gè)實(shí)施方案任選地包含一種或多種其他活性材料，其可操作W便預(yù)防 或治療口腔的硬或軟組織的病狀或病癥、預(yù)防或治療生理病癥或病狀、或提供美容益處。運(yùn) 類其他活性成分的例子包括催誕劑或唾液刺激劑、抗牙菌斑劑、抗炎劑和/或脫敏劑。
[0097] 粘合增強(qiáng)劑也可添加到口腔護(hù)理組合物中，包括但不限于蠟(包括蜂蠟在內(nèi)）、礦 物油、塑性凝膠(礦物油與聚乙締的共混物）、礦脂、白礦脂、蟲(chóng)膠、versageK液體石蠟的共 混物，下締/乙締/苯乙締氨化共聚物）、聚乙締蠟、微晶蠟、聚異下締、聚乙締基化咯燒酬/乙 酸乙締醋共聚物、W及不溶性的聚丙締酸醋共聚物。
[0098] 作為粘合增強(qiáng)劑同樣有效的是液體親水性聚合物，包括聚乙二醇、具有W下通式 的環(huán)氧乙燒的非離子聚合物:H0C此(C此0C出)niC此0H，其中nl表示氧乙締基的平均數(shù)目?？?獲自Dow化emical的聚乙二醇是由數(shù)值如200、300、400、600、2000來(lái)命名，運(yùn)些數(shù)值表示具 有下式的環(huán)氧乙燒和環(huán)氧丙烷的聚合物W及非離子嵌段共聚物的近似平均分子量：H0 (C2H4〇)al(C3也0)61侶出0)。出。優(yōu)選地(關(guān)于al、bl和cl)選擇嵌段共聚物W使得環(huán)氧乙燒成 分占共聚物分子重量的約65至約75%，并且共聚物具有約2,000至約15,000的平均分子量， 其中共聚物在液體牙齒增白組合物中W使得該組合物在室溫下呈液體的濃度存在。
[0099] 用于本發(fā)明實(shí)踐中的一個(gè)特別理想的嵌段共聚物可從BASF商購(gòu)獲得并且命名為 Pluraflo L1220(PEG/PPG 116/66)，其具有約9,800的平均分子量。親水性聚(環(huán)氧乙燒)嵌 段平均為聚合物重量的約65%。
[0100] 合成的陰離子聚簇酸鹽也可作為任何抗細(xì)菌劑、抗牙垢劑或潔牙劑組合物內(nèi)的其 他活性劑的功效增強(qiáng)劑用于本發(fā)明的口腔組合物。運(yùn)類陰離子聚簇酸鹽一般W其游離酸形 式或優(yōu)選部分地或更優(yōu)選完全中和的水溶性堿金屬(例如鐘且優(yōu)選是鋼)或錠鹽形式使用。 優(yōu)選是1:4至4:1的馬來(lái)酸酢或酸與另一可聚合的締鍵式不飽和單體的共聚物，優(yōu)選是具有 約30,000至約1，800,000、最優(yōu)選約30,000至約700,000的分子量(1.胖.）的甲基乙締基酸/ 馬來(lái)酸酢。運(yùn)些共聚物的例子可W商品名稱GANTREZ液（甲基乙締基酸/馬來(lái)酸酢)獲自 GAF Co巧oration,例如，AN 139(M.W.500,000)、AN 119(M.W.250,000) ;S-97藥物級(jí) (M. W.700,000)、AN 169(M.W. 1,200,000-1,800，000)及AN 179(M.W.超過(guò) 1,800，000);其中 優(yōu)選共聚物是S-97藥物級(jí)(M.W.700,000)。
[0101] 當(dāng)存在時(shí)，陰離子聚簇酸鹽是W有效實(shí)現(xiàn)任何抗細(xì)菌劑、抗牙垢劑或口腔組合物 內(nèi)的其他活性劑的功效的所需增強(qiáng)的量使用。一般而言，陰離子聚簇酸鹽在口腔組合物內(nèi) W約0.05重量％至約4重量％，優(yōu)選地約0.5重量％到約2.5重量％存在。
[0102] 在本發(fā)明的不同實(shí)施方案的組合物中采用的粘合增強(qiáng)劑是W約0至約20重量％的 量存在。優(yōu)選地，粘合增強(qiáng)劑是W約2至約15重量％的量存在。
[0103] 組合物的一個(gè)實(shí)施方案任選地包含增白劑，包括但不限于過(guò)氧化物化合物，如過(guò) 氧化氨、堿和堿±金屬的過(guò)氧化物、有機(jī)過(guò)氧化合物、過(guò)氧酸、其藥學(xué)上可接受的鹽、及其混 合物。堿和堿±金屬的過(guò)氧化物包括過(guò)氧化裡、過(guò)氧化鐘、過(guò)氧化鋼、過(guò)氧化儀、過(guò)氧化巧、 過(guò)氧化領(lǐng)及其混合物。有機(jī)過(guò)氧化合物包括過(guò)氧化脈(又名尿素過(guò)氧化氨）、甘油基過(guò)氧化 氨、烷基過(guò)氧化氨、二烷基過(guò)氧化物、烷基過(guò)氧酸、過(guò)氧醋、二酷基過(guò)氧化物、過(guò)氧化苯甲酯、 及單過(guò)氧鄰苯二甲酸鹽、及其混合物。過(guò)氧酸及其鹽包括有機(jī)過(guò)氧酸，如烷基過(guò)氧酸、和單 過(guò)氧鄰苯二甲酸鹽及其混合物；W及無(wú)機(jī)過(guò)氧酸鹽，如堿和堿±金屬(如裡、鐘、鋼、儀、巧及 領(lǐng)）的過(guò)硫酸鹽、二過(guò)硫酸鹽、過(guò)碳酸鹽、過(guò)憐酸鹽、過(guò)棚酸鹽及過(guò)娃酸鹽、及其混合物。在各 種實(shí)施方案中，過(guò)氧化物化合物包括過(guò)氧化氨、過(guò)氧化脈、過(guò)碳酸鋼及其混合物。
[0104] 在一些實(shí)施方案中，可提供非過(guò)氧化物增白劑。在本文中有用的增白劑包括非過(guò) 氧化合物，如二氧化氯、亞氯酸鹽及次氯酸鹽。亞氯酸鹽和次氯酸鹽包括堿和堿±金屬如 裡、鐘、鋼、儀、巧及領(lǐng)的那些亞氯酸鹽和次氯酸鹽。非過(guò)氧化物增白劑還包括著色劑，如二 氧化鐵和徑憐灰石、顏料或染料。在一些實(shí)施方案中，將增白劑與水性載體分離。在一些實(shí) 施方案中，通過(guò)增白劑的包被將增白劑與水性載體分離。
[0105] 另一方面，本發(fā)明提供一種用于制造如上所定義的核殼二氧化娃粒子的方法，其 包括將一定量在水中的二氧化娃粒子與一定量的堿混合W產(chǎn)生核殼二氧化娃粒子，其中所 述堿包括I族金屬離子。
[0106] 所述堿并無(wú)特別限制，只要其包含I族金屬離子。所述堿通常是強(qiáng)堿。優(yōu)選地，所述 堿選自由W下組成的組:氨氧化鋼、氨氧化鐘、碳酸鋼、碳酸鐘、憐酸=鋼、憐酸氨二鋼、憐酸 鐘、憐酸氨二鐘、焦憐酸四鋼及焦憐酸四鐘。所述堿可具有在0.1至3范圍內(nèi)的地b值。例如， 氨氧化鋼具有0.2的地b，并且氨氧化鐘具有0.5的地b。
[0107] 在組合物的一個(gè)實(shí)施方案中，組合物包含約65 % -99.9 %的載體且進(jìn)一步包括成 分，即W下一種或多種:抗離齒劑、脫敏劑、粘度調(diào)節(jié)劑、稀釋劑、表面活性劑、乳化劑、泡沫 調(diào)節(jié)劑、抑調(diào)節(jié)劑、研磨劑、口感劑、甜味劑、調(diào)味劑、著色劑、防腐劑、氨基酸、抗氧化劑、抗 牙結(jié)石劑、氣離子源、增稠劑、用于預(yù)防或治療口腔的硬或軟組織的病狀或病癥的活性劑、 增白劑及其組合。在組合物的另一實(shí)施方案中，組合物包含約80%-99.5%的載體且進(jìn)一步 包括成分。在組合物的另一實(shí)施方案中，組合物包含約90%-99%的載體且進(jìn)一步包括成 分。
[0108] W上任選成分的描述也意在包括運(yùn)些成分的任何組合。
[0109] 用于形成CSS粒子的組分
[0110] 如上所述，二氧化娃優(yōu)選地選自由W下組成的組:沉淀的二氧化娃、熱解法二氧化 娃及烙融的二氧化娃。二氧化娃可為合成的無(wú)定形沉淀二氧化娃，如Zeodexit駁114或 Zeodei沁霞|165(J.M.Huber Corp)、Absil 100 C或MFIL P(Ma化U Silica)。二氧化娃可為 熱解法二氧化娃，如Aerosil 20(KEvon化）。在另一實(shí)施方案中，二氧化娃是烙融二氧化娃， 其包括但不限于由化bot Corporation生產(chǎn)的CAB-0-S.IL@'HP-60、由C-E Minerals生產(chǎn) 的TECO-SI.L"'1〇和TECO-S化/ 44css、W及由 Japanese Glass Co制造的Spheron PlSOOo
[0111] 適用于本發(fā)明中的二氧化娃還包括膠態(tài)二氧化娃(增稠二氧化娃），具有如氣凝膠 S}doid 244和266(可獲自W.R.Grace CompanyKAerosiK可獲自DeGussa Co.)W及W商品 名稱Cab-〇-Sils(可獲自Cabot Coloration)出售的熱解二氧化娃。Tixosil 333和 Tixosil 43B(可獲自I^iodia Ltda.)、Zeodent 165(可獲自J.M.Huber Coloration)。
[0112] 其他適用于本發(fā)明中的二氧化娃包括二氧化娃研磨劑，其又包括二氧化娃凝膠和 沉淀無(wú)定形二氧化娃。運(yùn)些二氧化娃是膠體粒子/顆粒，當(dāng)W5重量％漿料測(cè)量時(shí)其具有在 約3微米至約12微米、且更優(yōu)選地在約5至約10微米之間范圍內(nèi)的平均粒度和在4至10、優(yōu)選 地6至9范圍內(nèi)的pH。適用于本發(fā)明實(shí)踐中的說(shuō)明性二氧化娃研磨劑由Davison化emical Division of W.R.Grace&Co.，Baltimore，Md.21203W商品名稱Sylodent XWA出售。 Sylodent 650 XWA二氧化娃水凝膠由具有29重量％的含水量的膠態(tài)二氧化娃顆粒構(gòu)成，其 平均直徑為約7至約10微米。
[0113] 適用于本發(fā)明中的其他類型的二氧化娃研磨劑包括具有高達(dá)約20微米的平均粒 度的沉淀二氧化娃，如由J.M.Huber Qiemicals Division,化vre de Grace,Md.21078出售 的Zeodent 115、或由Davison Chemical Division of W. R. Grace&Company 出售的 Sylodent 783。
[0114] 所述方法可在17°C至90°C范圍內(nèi)的溫度下進(jìn)行。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述方法在 室溫下，即20至26°C下進(jìn)行。在另一實(shí)施方案中，所述方法在70至90°C的溫度下進(jìn)行。當(dāng)W 工業(yè)規(guī)模制備核殼二氧化娃粒子時(shí)，用于混合反應(yīng)物的混合器，如Lee混合器化ee Industries)優(yōu)選不被加熱。
[0115] 在一個(gè)實(shí)施方案中，堿是氨氧化鋼且所述方法在70至90°C的溫度下進(jìn)行。溫度優(yōu) 選為80至90 °C。堿優(yōu)選為50 %氨氧化鋼水溶液。
[0116] 在另一實(shí)施方案中，所述堿為氨氧化鐘。當(dāng)使用氨氧化鐘時(shí)，所述方法可在室溫下 進(jìn)行。使用氨氧化鐘是優(yōu)選的，因?yàn)榘毖趸姷妮^高反應(yīng)性(與氨氧化鋼相比）意味著避免 了對(duì)加熱的需要，且反應(yīng)可在室溫下進(jìn)行。室溫。室溫，有時(shí)稱為周圍溫度，通常是從20至26 °C，且是當(dāng)不使用反應(yīng)混合物的外部加熱時(shí)實(shí)現(xiàn)的溫度。當(dāng)W工業(yè)規(guī)模制備核殼二氧化娃 粒子時(shí)，用于混合反應(yīng)物的混合器，如Lee混合器化ee Industries)通常不能被加熱。
[0117] 反應(yīng)是；
[011 引
[0119] 核殼二氧化娃粒子的形成通常在2小時(shí)之后完成。
[0120] 堿(例如50 %化0H水溶液）的量與二氧化娃粒子的量的重量比通常為1:1至1:20。 在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，堿(例如50%化0H)的量與二氧化娃粒子的量的重量比為1:1至1: 6，任選為約1:4。在一個(gè)典型實(shí)例中，使用20 %高清潔二氧化娃和4.5 %Na0H(50 % )，且比率 是4.5% :20% = 1:4.44)。此比率可用于牙膏組合物。
[0121] 核殼二氧化娃粒子的濁度通常通過(guò)提高堿的量與二氧化娃粒子的量的重量比來(lái) 減小。對(duì)于透明核-殼二氧化娃(css)，堿(例如50 %化OH)量與二氧化娃粒子量的重量比大 于0.5:1且所有二氧化娃粒子都已溶解。對(duì)于半透明CSS粒子，50%化0H與二氧化娃的重量 比為0.45至0.49。對(duì)于半透明和不透明的CSS粒子，50 %化0H與二氧化娃的重量比為0.20至 0.45。對(duì)于典型的CSS牙膏組合物，使用1:4.44 = 0.225:1的比率。
[0122] 在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，二氧化娃粒子與堿的反應(yīng)造成二氧化娃粒子的d(0.5)值 減少1至15nmW形成二氧化娃核，并且M2Si化.X此0在二氧化娃核的頂部上形成。通常，隨著 堿的量與二氧化娃粒子的量的重量比的增加，二氧化娃粒子的d(0.5)值有更大的減小（參 見(jiàn)表1)。
[0123] 表1
[0124]
[0125] 二氧化娃粒子的d (0.5)值的減小可為1皿至6皿。蝕刻掉的二氧化娃的量取決于二 氧化娃粒子的BET比表面積。具有更大表面面積的粒子，例如多孔粒子如無(wú)定形牙齒二氧化 娃研磨劑:高清潔二氧化娃Zeodent 105;規(guī)則的二氧化娃如Zeodent 114、增稠二氧化娃如 Zeodent 165將被蝕刻較淺。剛性二氧化娃粒子將具有更大的蝕刻深度。
[0126] 由于Si化網(wǎng)狀物的共價(jià)鍵被轉(zhuǎn)化為在化+與Si化之間的離子鍵，所W表面變成偏 振的并且吸附水和濕潤(rùn)劑W產(chǎn)生核殼二氧化娃粒子。隨著反應(yīng)繼續(xù)進(jìn)行，核殼二氧化娃粒 子還可變得較不透明和更不透明，且反應(yīng)溶液的P啡華低。
[0127] 濕潤(rùn)劑的量與水的重量比可選自由W下比率組的組:4:1至1:4;3:1至1:3;2:1至1 :2; W及5:3至3:5。
[0128] 在一個(gè)實(shí)施方案中，通過(guò)所述方法形成的核殼二氧化娃粒子的d(0.5)值比二氧化 娃起始材料的d(0.5)值大至少5%。注意到雖然二氧化娃粒子的直徑在方法期間減小，形成 較小的二氧化娃核，但包括娃酸鹽層的全CSS粒子的直徑常常大于原始二氧化娃粒子。
[0129] 核殼粒子的形成可通過(guò)測(cè)定反應(yīng)混合物的抑來(lái)監(jiān)控。當(dāng)反應(yīng)混合物的抑與反應(yīng)物 的初始混合物的抑相比減小了至少0.5個(gè)抑單位時(shí)形成所述核殼二氧化娃粒子。通常，當(dāng)反 應(yīng)混合物的pH與反應(yīng)物的初始混合物的抑相比減小了至少0.8個(gè)抑單位時(shí)形成所述核殼二 氧化娃粒子。在另一實(shí)施方案中，當(dāng)反應(yīng)混合物的抑與反應(yīng)物的初始混合物的抑相比減小 了至少0.8-1.5個(gè)抑單位且不展現(xiàn)更進(jìn)一步的抑減小時(shí)，得到方法的終點(diǎn)。核殼二氧化娃粒 子的形成通常當(dāng)抑為約11時(shí)完成。
[0130] 核殼粒子的形成還可通過(guò)測(cè)定反應(yīng)混合物的導(dǎo)電率來(lái)監(jiān)控。當(dāng)反應(yīng)混合物的導(dǎo)電 率減小了至少250微西口子/cm(iiS/cm)時(shí)得到方法的終點(diǎn)，因?yàn)殡姾蓮母咭苿?dòng)性離子 (化0H)轉(zhuǎn)移到移動(dòng)性低得多的二氧化娃表面(移動(dòng)性>0)。在又一實(shí)施方案中，當(dāng)反應(yīng)混合 物的導(dǎo)電率減小了250-40化S/cm時(shí)得到方法的終點(diǎn)。通常，當(dāng)反應(yīng)混合物的導(dǎo)電率減小了 至少2毫西口子/cm(mS/cm)時(shí)形成核殼二氧化娃粒子。通常，當(dāng)反應(yīng)混合物的導(dǎo)電率減小了 至少5mS/cm時(shí)形成核殼二氧化娃粒子。
[0131] 熱解法二氧化娃
[0132] 熱解二氧化娃(有時(shí)稱為熱解法二氧化娃或娃粉)是二氧化娃的極細(xì)顆?；蚰z態(tài) 形式。其通過(guò)在富氧的控火焰中燃燒SiCl擬產(chǎn)生Si化的"煙霧"來(lái)制備。二氧化娃粒子彼此 融合形成分支的、=維鏈樣聚集物。
[0133] SiCl4+2出+化一 Si〇2+4肥 1.
[0134] 沉淀的二氧化娃
[0135] 無(wú)定形二氧化娃(硅膠)是通過(guò)娃酸鋼溶液的酸化產(chǎn)生。然后洗涂最初形成的凝膠 狀沉淀，接著脫水W產(chǎn)生無(wú)色微孔二氧化娃。示出了設(shè)及=娃酸鹽和硫酸的理想化方程式：
[0136] Na2Si3〇7+出 S〇4 一 3Si 化+Na2S〇4+出 0
[0137] 在大多數(shù)娃酸鹽中，Si原子示出了四面體配位，其中4個(gè)氧原子包圍中屯、的Si原 子。最常見(jiàn)的例子見(jiàn)于二氧化娃Si化的石英晶形中。在二氧化娃的大多數(shù)熱力學(xué)穩(wěn)定晶形 的每一個(gè)中，平均起來(lái)，Si〇4四面體的全部4個(gè)頂角（或氧原子)都是彼此共享的，得到凈化 學(xué)式:Si〇2。除無(wú)定形形式之外，Si〇2還具有許多不同的晶形（多晶型物）。除超石英和纖維性 二氧化娃外，所有晶形都設(shè)及四面體Si化單元，它們是通過(guò)共享的頂角W不同的排列連接 在一起。
[013引娃酸鋼
[0139] 娃酸鋼是具有式化2(Si化)nO的化合物的普通名稱。此系列的一個(gè)眾所周知的成員 是偏娃酸鋼化2Si〇3。運(yùn)些材料又名水玻璃或液體玻璃，其可W水溶液和固體形式獲得。當(dāng)烙 融時(shí)碳酸鋼和二氧化娃反應(yīng)形成娃酸鋼和二氧化碳：
[0140] Na2C〇3+Si〇2 一 Na2Si〇3+C〇2
[0141] 無(wú)水娃酸鋼含有鏈聚合陰離子，其是由拐角共享的{Si〇4}四面體而非離散的 8王〇32^離子組成。除無(wú)水形式之外，還存在具有式化251〇3 ? 11此0(其中11 = 5、6、8、9)的水合 物，其含有具有水合水的離散的、近似四面體的陰離子Si化(0H)22^。例如，可商購(gòu)獲得的娃 酸鋼五水合物化2Si〇3 ?甜2〇被配制成化2Si〇2(OH)2 ? 4此0且九水合物化2Si〇3 ? 9此0被配制 成Na2Si〇2(OH)2 ?細(xì)2〇。
[0142] 在工業(yè)中，各種等級(jí)的娃酸鋼的特征是Si化:Na2〇重量比（重量比可通過(guò)乘W1.032 轉(zhuǎn)換成摩爾比），其可在2:1與3.75:1之間變化。具有低于2.85:1的此比率的等級(jí)被稱為'堿 性'。具有更高的Si化:化2〇比率的那些等級(jí)被描述為'中性'。
[0143] 在另一實(shí)施方案中，二氧化娃是沉淀的二氧化娃，包括但不限于Zeodent? 114和 Ze日dent?' 165(由j .M.Huber生產(chǎn)的沉淀的二氧化娃粒子-化學(xué)名稱:合成的無(wú)定形二氧化 娃）、由W.R.Grace生產(chǎn)的Sylodent液783、由 Ineos(PQ Co巧.）生產(chǎn)的S〇l'b〇sU@AC-43。
[0144]在另一實(shí)施方案中，二氧化娃是烙融二氧化娃，其包括但不限于由Cabot Corporation生產(chǎn)的CAB-O-SII/HP-60、由C-E Minerals生產(chǎn)的TECO-SIL/10和 TECO-S.1L;; i4css、W及由Japanese Glass Co制造的Spheron P1500。
[0145] 在一個(gè)實(shí)施方案中，如下氨氧化鋼與Si化粒子的表面反應(yīng)W蝕刻化2Si〇3層的殼：
[0146] Si〇2+2 化 0H 一化 2Si〇3+出 0
[0147] 如可從反應(yīng)流程中看出，化0聞尋會(huì)使二氧化娃產(chǎn)生變化，而在另一個(gè)極端情況下， 2摩爾NaOH與1摩爾二氧化娃的完全反應(yīng)將導(dǎo)致完全轉(zhuǎn)化成Na2Si〇3。為了獲得本發(fā)明的核殼 粒子，反應(yīng)過(guò)程必須受到控制W便不獲得包含適當(dāng)比例的NasSi化的粒子。
[0148] 核殼二氧化娃當(dāng)例如通過(guò)風(fēng)干部分地干燥時(shí)具有粘合特性，因?yàn)樗系幕?Si〇3是 粘合劑(水玻璃）。
[0149] 在一個(gè)實(shí)施方案中，當(dāng)至少1-6%的每種二氧化娃粒子起始材料已用一個(gè)或多個(gè) 化2Si〇3單層蝕刻時(shí)，形成本發(fā)明的核殼二氧化娃粒子。在另一實(shí)施方案中，當(dāng)至少2.5-5% 的每種二氧化娃粒子起始材料已用一層或多層化2Si〇3蝕刻時(shí)，形成本發(fā)明的核殼二氧化娃 粒子。在另一實(shí)施方案中，當(dāng)至少3.5-4%的每種二氧化娃粒子起始材料已用一層或多層 Na2Si〇3蝕刻時(shí)，形成本發(fā)明的核殼二氧化娃粒子。
[0150] 如上所述的本發(fā)明的核殼二氧化娃粒子的形成可通過(guò)操縱所用的堿的量和類型、 所用的二氧化娃的量、所用的濕潤(rùn)劑量W及改變反應(yīng)溫度來(lái)實(shí)現(xiàn)。
[0151] 在一個(gè)實(shí)施方案中，所述方法進(jìn)一步包括將二氧化娃粒子和堿與濕潤(rùn)劑混合。在 一個(gè)實(shí)施方案中，所述方法進(jìn)一步包括在4:1至1:4之間的濕潤(rùn)劑的量與水量的重量比。在 一個(gè)實(shí)施方案中，所述方法進(jìn)一步包括3:1至1:3;2:1至1:2;或5:3至3:5的濕潤(rùn)劑的量與水 量的重量比。在一個(gè)實(shí)施方案中，濕潤(rùn)劑包含兩種或更多種單獨(dú)的濕潤(rùn)劑的混合物。在一個(gè) 實(shí)施方案中，所述方法進(jìn)一步包括干燥所產(chǎn)生的產(chǎn)物W便除去一部分出0的步驟。
[0152] 在一個(gè)實(shí)施方案中，所述方法進(jìn)一步包括使一定量的Si化粒子與一定量的化0H和 濕潤(rùn)劑在50°C至140°C下反應(yīng)。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述方法進(jìn)一步包括使一定量的Si化粒 子與一定量的化0H在70°C至100°C下反應(yīng)。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述方法進(jìn)一步包括使一定 量的Si化粒子與一定量的化0H在70°C至90°C下反應(yīng)。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述方法進(jìn)一步 包括使一定量的Si化粒子與一定量的化0H在70°C至80°C下反應(yīng)。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述 方法進(jìn)一步包括使一定量的Si化粒子與一定量的化0H在74°C至76°C下反應(yīng)。在一個(gè)實(shí)施方 案中，所述方法進(jìn)一步包括使一定量的Si化粒子與一定量的化0H在75°C下反應(yīng)。
[0153] -般而言，濕潤(rùn)劑在反應(yīng)過(guò)程中的使用允許在如上所述范圍內(nèi)的更高溫度的使 用。
[0154] 除對(duì)反應(yīng)混合物采樣并測(cè)試所形成的核殼二氧化娃粒子直到形成具有關(guān)于層形 成和電荷密度的必需特性的CSS粒子之外，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員還可確定本發(fā)明的核殼二 氧化娃粒子在何時(shí)通過(guò)若干手段獲得。
[0155] 在一個(gè)實(shí)施方案中，當(dāng)通過(guò)所述方法形成的核殼二氧化娃粒子的平均粒徑比二氧 化娃(Si〇2)起始材料的平均粒徑大至少5%時(shí)，得到方法的終點(diǎn)。在另一實(shí)施方案中，核殼 二氧化娃粒子在直徑上比二氧化娃起始材料的平均粒徑大5%-10%。
[0156] 在一個(gè)實(shí)施方案中，所述方法進(jìn)一步包括將產(chǎn)生的核殼二氧化娃粒子與載體混合 W得到組合物。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述方法進(jìn)一步包括調(diào)節(jié)組合物的pHW獲得7-9的pH 值，所述調(diào)節(jié)可根據(jù)需要使用酸或堿完成。在一個(gè)實(shí)施方案中，使用酸完成抑調(diào)節(jié)。
[0157] 另一方面，本發(fā)明提供一種可通過(guò)如上所定義的方法獲得的核殼二氧化娃粒子。
[0158] 又一方面，本發(fā)明提供一種減少或抑制口腔中的細(xì)菌的方法，其包括向有此需要 的患者的口腔表面施用如上所定義的口腔護(hù)理組合物。
[0159] 最后一方面，本發(fā)明提供一種減少或抑制患者的可拆卸口腔裝置中的細(xì)菌的離體 方法，其包括向可拆卸口腔裝置的表面施用如上所述的口腔護(hù)理組合物。優(yōu)選地，可拆卸口 腔裝置是牙托、托盤、咬口器、正牙牙套及保持器。
[0160] 本發(fā)明的另一實(shí)施方案是一種使用核殼二氧化娃粒子來(lái)減少或抑制有此需要的 患者的口腔中的細(xì)菌的方法，其包括向患者的口腔表面施用本發(fā)明的組合物。
[0161] 用于減少或抑制細(xì)菌的方法的另一實(shí)施方案包括向有此需要的患者、向患者的可 拆卸口腔裝置離體施用核殼二氧化娃粒子。在本發(fā)明的上下文中，可拆卸口腔裝置包括但 不限于牙托、托盤、咬口器、正牙牙套及保持器。
[0162] 在方法的一個(gè)實(shí)施方案中，所述患者是哺乳動(dòng)物，包括但不限于人和動(dòng)物（例如 狗、貓、馬、牛、綿羊、美洲駝等）
[0163] 本發(fā)明的另一實(shí)施方案是核殼二氧化娃粒子制成組合物來(lái)減少或抑制有此需要 的患者的口腔中的細(xì)菌的用途，其包括向患者的口腔表面施用本發(fā)明的組合物或用于減少 或抑制細(xì)菌，包括向有此需要的患者、向患者的可拆卸口腔裝置離體施用核殼二氧化娃粒 子。
[0164] 本發(fā)明的實(shí)施方案在W下實(shí)施例中進(jìn)一步描述。運(yùn)些實(shí)施例僅是說(shuō)明性的且不W 任何方式限制如所述并要求保護(hù)的本發(fā)明的范圍。 實(shí)施例
[01化]實(shí)施例1
[0166] 表2中所示的組成被用于生產(chǎn)核殼二氧化娃粒子。說(shuō)0舶nt?ll4和Ze〇den.t?i65 是由J.M.化ber生產(chǎn)的沉淀二氧化娃粒子(化學(xué)名稱:合成的無(wú)定形二氧化娃）。
[0167] 表2:實(shí)施例1中使用的成分。
[016 引
[0169] 實(shí)施例2
[0170] 將本發(fā)明的核殼粒子與其他基于二氧化娃的粒子相比較。所用的組成示于表3中。
[0171] 表3:實(shí)施例2中使用的成分
[0172]
[0173] 不希望受理論約束，據(jù)信在對(duì)照#1中產(chǎn)生的粒子由于缺乏濕潤(rùn)劑(例如山梨糖醇） 將水保持在二氧化娃粒子上而不具有粘合特性，運(yùn)是使Si化離子化的優(yōu)選條件。
[0174] 不希望受理論約束，在對(duì)照#2中產(chǎn)生的粒子因?yàn)椴淮嬖诨?聞尋一些Si化轉(zhuǎn)化為覆 蓋其余Si化核的Na2Si〇3層而同樣不具有粘合特性。相比之下，在實(shí)施例2中產(chǎn)生的核殼二氧 化娃粒子具有類似于W上實(shí)施例1的粘合特性。運(yùn)些比較顯示需要化0H，并且水和/或濕潤(rùn) 劑是優(yōu)選的W獲得本發(fā)明的核殼粒子。
[0175] 實(shí)施例3
[0176] 在另一對(duì)比實(shí)施例中，用甘油取代山梨糖醇作為濕潤(rùn)劑組分，并且W兩個(gè)不同的 重量比添加到水中。制備的組合物示于表4中。對(duì)照#3類似于實(shí)施例1，但是使用甘油代替山 梨糖醇作為濕潤(rùn)劑并且使用8g 50%NaOH代替4g固體NaOH。
[0177] 表4:在對(duì)照#3和實(shí)施例3中使用的成分和相應(yīng)的重量。
[017 引
[0179] 不希望受理論約束，在對(duì)照#3中產(chǎn)生的粒子不具有粘合特性，運(yùn)可能是因?yàn)樗?量不足W將Si化轉(zhuǎn)化成Na2Si〇3。相比之下，在實(shí)施例3中產(chǎn)生的核殼二氧化娃粒子具有粘合 特性。
[0180] 實(shí)施例4
[0181] 使Si化研磨劑與化0田容液反應(yīng)W生成核-殼粒子。
[0182] 該反應(yīng)是：
[0183] 將0.8%化0H(50%溶液）用于澄清的二氧化硅膠體中（參見(jiàn)表5)。當(dāng)化0H與過(guò)量的 Si化反應(yīng)時(shí)，P聞尋超出11，隨后逐漸降至低于10.0(對(duì)于牙膏應(yīng)用，其需要在6與10之間的pH 范圍）。在室溫下的轉(zhuǎn)換時(shí)間是6-24小時(shí)，但是加熱至更高溫度如75°C可能要短得多。膠體 的光學(xué)性質(zhì)在反應(yīng)期間變化，從透明的變?yōu)椴煌该鞯摹?br>[0184] 表5制造核-殼二氧化硅膠體(模型膠體）
[0185]
[0186] 光學(xué)外觀變化是因?yàn)檎凵渎试跉ど系淖兓?。運(yùn)是有意義的，因?yàn)橐阎猄i化能夠與 化0H(或化2〇)3或其他強(qiáng)堿）反應(yīng)形成化2Si〇3,且與Si02(1.44-1.45)匹配的折射率變得錯(cuò) 配，因此透明度消失。
[0187] 本
【發(fā)明人】推測(cè)化細(xì)+Si化的產(chǎn)物是水合的化2Si〇3(折射率比Si02低，或郵<1.44)。 為了證實(shí)此假設(shè)，將更高折射率的非結(jié)晶山梨糖醇（折射率= 1.455-1.465)用于增加水溶 液(包圍二氧化娃粒子）的折射率W匹配核殼二氧化娃的折射率。其變回成完全透明的膠 體。運(yùn)個(gè)簡(jiǎn)單的實(shí)驗(yàn)證明殼是由低折射率的水合化2Si〇3組成，其連接在二氧化娃核上。本發(fā) 明者發(fā)現(xiàn)了同屯、剛性非多孔球狀粒子光散射的物理模型W解釋膠體為什么從不透明變?yōu)?透明的反應(yīng)物。
[018引實(shí)施例5
[0189] 核-殼（同屯、)粒子光散射的物理模型
[0190] 此模型是基于"light Scattering by Small Particles"，H.C. van de Hulst， 2003,第67-77 頁(yè)。
[0191] 散射強(qiáng)度與介電常數(shù)a成比例。
[0192] 對(duì)于簡(jiǎn)單的球狀粒子：
[0193]
[0194] 其中；
[0195] ? m=npAim，其中np和皿是粒子和包圍粒子的含水介質(zhì)(水+山梨糖醇+鹽)的折射 率
[0196] .a是粒子半徑
[0197] 對(duì)于圖1B中所示的同屯、粒子：
[0198] 對(duì)于核粒子，nl是折射率，qa是半徑(q是核與殼之間的半徑比）。
[0199] 對(duì)于殼，n2是折射率，a是半徑
[0200] 其中折射率(n)如下所定義：
[0201] n = nl 對(duì)于 0<r<qa
[0202] n = n2 對(duì)于 qa<;r<a
[0203] n = l對(duì)于r>a(在此情況下是空氣）
[0204] 運(yùn)種核-殼（同屯、)粒子的介電常數(shù)是：（僅取決于4個(gè)參數(shù):nl、n2、和q、a)
[0205]
[0206] 可見(jiàn)介電常數(shù)或光散射強(qiáng)度對(duì)于簡(jiǎn)單的球狀和同屯、粒子是不同的。
[0207] 實(shí)施例6
[0208] 多個(gè)單層:經(jīng)由ESCA、滴定數(shù)據(jù)、拉曼光譜學(xué)及質(zhì)量的計(jì)算指示粒子的殼包含多個(gè) 娃酸鋼單層。獲得2、4、16、32及36個(gè)殼單層值。
[0209] 核殼二氧化娃(CSS)粉末的ESCA分析
[0210] ESCA(化學(xué)分析電子光譜法)被用于確定在含水介質(zhì)中從Si〇2和NaOH制備的CSS粉 末的表面組成。ESCA僅分析樣品表面的外部lOnm，因此對(duì)于檢測(cè)二氧化娃粉末表面上的娃 酸鹽來(lái)說(shuō)運(yùn)是理想的方法。分析的樣品包括運(yùn)樣干燥的粉末W及用去離子水簡(jiǎn)單沖洗=次 W從表面除去任何可溶性殘余物。CSS粉末的ESCA表面組成數(shù)據(jù)示于表6中。 表6:來(lái)自Si〇2(Zeodent 105)的核殼二氧化娃(CSS)粒子的ESCA分析。
[0212]
[0213]數(shù)據(jù)顯示相對(duì)于二氧化娃，鋼的顯著增加在運(yùn)樣干燥的材料的表面上出現(xiàn)。另外， 還在數(shù)據(jù)中觀察到特征為娃酸鹽(〇Si03)的低強(qiáng)度氧峰。對(duì)于Si化沒(méi)有觀察到此峰。化和娃酸 鹽氧峰的檢測(cè)強(qiáng)烈地支持二氧化娃粉末的表面上娃酸鋼的形成。用去離子水沖洗運(yùn)樣干燥 的CSS粉末稍微減少化和娃酸鹽氧，表明表面娃酸鹽具有低水溶性。因此，娃酸鋼主要保持 在含水介質(zhì)中的二氧化娃表面上。
[0214] 還通過(guò)ESCA研究已經(jīng)歷l%CaCl2溶液的CSS粉末W測(cè)定材料對(duì)Ca的攝取。運(yùn)樣干 燥的材料的ESCA結(jié)果清楚地顯示化存在于CSS的表面上。還觀察到相對(duì)于運(yùn)樣干燥的CSS， Na的減小，表明化代替化存在于CSS表面上。對(duì)于化C12處理過(guò)的樣品還檢測(cè)到低濃度的C1， 提示殘留的化C12也可存在于材料上。樣品的去離子水沖洗除去C1，然而大多數(shù)化被保留。 因此，數(shù)據(jù)顯示CSS能夠從水溶液中吸附和保留化離子。此結(jié)果支持如上所述的化離子攝取 數(shù)據(jù)，并且支持CSS充當(dāng)牙垢控制劑的可能性。
[0215] 實(shí)施例7
[0216] 中紅外和偏振分析
[0217] 中紅外光譜學(xué)被用于證實(shí)在核二氧化娃殼層上存在娃酸鹽。在所有測(cè)量中，=個(gè) (多個(gè))反射ATR(衰減全反射)附件被用于增強(qiáng)樣品的吸收光譜。運(yùn)些附件僅允許光穿透到 樣品中1-2微米，由此增強(qiáng)與疏松基材相比來(lái)自表面組分的信號(hào)。為了進(jìn)一步提高信噪比， 測(cè)量32個(gè)掃描并且為每次測(cè)量取平均值。
[0218] 二氧化娃與娃酸鹽的中紅外指紋指紋相當(dāng)不同并且被很好地分辨。純二氧化娃的 特征是具有靠近l〇74cm-l的對(duì)稱的SiO振動(dòng)和由于SiOH鍵的伸縮振動(dòng)造成的約960cnfi的譜 帶。另一方面，娃酸鹽具有在1200cnfi與1 lOOcnfi之間的突出的不對(duì)稱肩振動(dòng)。另外，發(fā)現(xiàn)從 二氧化娃轉(zhuǎn)移來(lái)的強(qiáng)不對(duì)稱伸縮靠近lOOOcnfi。
[0219] 核殼二氧化娃糊劑的ATR光譜指紋受折射率作用的極大影響，折射率因?yàn)橄裨诙?氧化娃和娃酸鹽中的Si-0伸縮的固有的強(qiáng)吸收而較大。在透射中，Si-0譜帶靠近llOOcnfi， 但在ATR中其通常為約lOeOcnfi。譜帶也不是完全對(duì)稱的。因?yàn)檫\(yùn)些糊劑吸收是寬的并且潛 在地含有無(wú)定形/結(jié)晶材料兩者。
[0220] 除規(guī)則ATR測(cè)量之外，還添加偏振附件W深化認(rèn)識(shí)并證實(shí)存在表面娃酸鹽物質(zhì)。偏 振測(cè)量的益處在于其給出了關(guān)于樣品分子結(jié)構(gòu)設(shè)及結(jié)晶度或分子定向的附加信息。在此應(yīng) 用中，由于平面偏振光沿著樣品平面定向，所W二氧化娃與娃酸鹽的比率將變化。測(cè)試的偏 振角是：0、30、60、90、120、150及180度。計(jì)算娃酸鹽（1022畑1-1)與二氧化娃（1074畑1-1)的光 譜比值W證明存在殼娃酸鹽。表7示出了來(lái)自Na-CSS分析的結(jié)果。
[0221] 表7 r〇222l
[0223] 該分析示出了當(dāng)平面偏振光定位在0度時(shí)娃酸鹽的最佳濃度，表明娃酸鹽的偶極 矩變化位于ATR表面的水平方向上。
[0224] 實(shí)施例8 [02巧]動(dòng)力學(xué)
[0。6]進(jìn)行動(dòng)力學(xué)研究W確定現(xiàn)場(chǎng)制造Na+-CSS膠體所需的時(shí)間。使用基于Na+-CSS牙膏 配方(#85CSS牙膏）的W下配方。
[0227] 表8Na+-CSS膠體配方 rn99Ri
[02巧]工序:在反應(yīng)容器中添加水、化0H及甘油。緩慢添加Zeodent 105高清潔二氧化娃 到含水混合物中。使用蒸汽水浴鍋加熱混合物W維持反應(yīng)溫度在80-90°C范圍內(nèi)。反應(yīng)6小 時(shí)。每小時(shí)采集樣品W測(cè)量當(dāng)冷卻至室溫時(shí)的抑和導(dǎo)電率。數(shù)據(jù)列出如下：
[0230]表9-動(dòng)力學(xué)數(shù)據(jù) 「A0041

[0232] 從表9可見(jiàn)，抑和導(dǎo)電率在第一個(gè)小時(shí)中急劇下降，且接著在2小時(shí)之后呈平穩(wěn)狀 態(tài)。形成CSS的反應(yīng)在大約2小時(shí)內(nèi)完成。此動(dòng)力學(xué)研究是重要的，因?yàn)楸仨毷寡栏嗯现圃?時(shí)間減至最短。
[0233] 鐘核殼二氧化娃化-CSS)膠體是基于W下配方：
[0234] 表10K+-CSS膠體配方 「〇八引
[0236] 工序:在反應(yīng)容器中添加熱水(75°C)、45%K0H及甘油。緩慢添加Zeodent 105高清 潔二氧化娃到含水混合物中。讓反應(yīng)在周圍溫度下進(jìn)行6小時(shí)，而沒(méi)有額外加熱。在反應(yīng)期 間取樣W測(cè)量溫度、pH及導(dǎo)電率。動(dòng)力學(xué)數(shù)據(jù)列出如下：
[0237] 表UK+-CSS膠態(tài)樣品的動(dòng)力學(xué)數(shù)據(jù)
[023引
[0239] 表11顯示導(dǎo)電率在第一個(gè)小時(shí)中急劇降低，且接著在2小時(shí)之后呈平穩(wěn)狀態(tài)。因 此，CSS反應(yīng)在周圍（室)溫度下在大約2小時(shí)之后完成。
[0240] 通過(guò)將45%KOH/Si〇2從101. lg/220g減至303.2g/1321g改變W上膠體配方來(lái)制造 K-CSS牙膏并且再次進(jìn)行動(dòng)力學(xué)測(cè)量：
[0241] 表12 K+-CSS膠體配方(減小KOH:Si〇2比率） 「no/iol
[0246] 從表13可見(jiàn)，導(dǎo)電率在第一個(gè)半小時(shí)中急劇地降低并且在2小時(shí)之后呈平穩(wěn)狀態(tài)。 因此，可在沒(méi)有任何外部加熱下，在周圍溫度下在大約2小時(shí)內(nèi)制成K-CSS牙膏的K-CSS膠體 (參見(jiàn)表14中的K-CSS牙膏）。此動(dòng)力學(xué)研究是重要的，因?yàn)楸仨毷寡栏嗯现圃鞎r(shí)間減至最 短。
[0247] 表 14-K-CSS 牙膏
[024引 [0249]
[0巧0] K-CSS牙膏具有7.7的抑和8.06的10 %抑(10 % pH是通過(guò)將lOg牙膏添加于90g水中 的10%牙膏溶液的抑(對(duì)于牙膏，10%pH應(yīng)在6與10之間）。注意，1布氏粘度單位是10,000厘 泊。
[0巧1 ] ESCA光譜法被用于量化K-CSS粒子中的K元素。
[0巧2]表 15 在K-CSS牙膏中K和Zn(2.25%KOH/2%HaP〇4)的ESCA數(shù)據(jù)
[0 巧 3]
[0254]從表15可見(jiàn)，K見(jiàn)于CSS研磨表面上。概括地說(shuō)，可使用K0H作為堿W在室溫下制造 K-CSS牙膏。
[0巧5] 實(shí)施例9
[0256] 在室溫下制造 K-CSS的方法
[0257] 在室溫下制造 K-CSS的示例性方案闡述如下：
[0巧引在75°C下添加試驗(yàn)工場(chǎng)水至lee混合器中，接著添加甘油。添加Si02(Zeodent 105)。添加K0H。混合成分。每隔一定時(shí)間移除樣品并且測(cè)試pH和導(dǎo)電率W確定何時(shí)形成K- CSS。添加曲P化-反應(yīng)混合物形成凝膠。取樣并在Lee混合器中添加化F、糖精和水，并且混合 10分鐘。在PEG 600溶液中分散CMC/黃原膠。在Lee混合器中添加W上樹(shù)膠溶液?；旌?。緩慢 添加Zeodent 165增稠二氧化娃。施加25英寸真空持續(xù)一段時(shí)間。移除真空，并添加調(diào)味劑、 染料和云母。打開(kāi)刮料機(jī)和攬拌器，顏色顯示出淡藍(lán)色，在添加化S之前粘度相當(dāng)稀薄。在真 空下混合lOmin。停止真空/混合。添加化S。施加真空，緩慢混合，形成具有厚度一致但仍較 薄的產(chǎn)物。最終產(chǎn)物的測(cè)量密度是1.279。產(chǎn)物具有淡藍(lán)色。靜置2小時(shí)之后，測(cè)量的初始粘 度= 156600cp。布氏粘度= 150600cp，在1加侖罐中幾乎不可流動(dòng)。
[0巧9] 實(shí)施例10 [0260] 透明的CSS
[0%1] Si化研磨劑在高溫(70-90°C)下與化0田容液反應(yīng)W生成核-殼粒子。反應(yīng)是：
[0%2]
惦63] 先前，通過(guò)過(guò)量的Si〇2與化0H(Si〇2:50%化0H = 20% : 4.5% =4.44:1重量百分?jǐn)?shù) 比）反應(yīng)制成不透明的牙膏。W此方式，Si〇2粒子僅一小部分(表面）與化0H反應(yīng)。不知道有 多少百分比的Si化與化0H反應(yīng)，因?yàn)镾i化與NaOH的比率基于上述反應(yīng)是n: 2 (n是未知）。 [0264]希望使用CSS材料制造透明的或半透明的漱口水產(chǎn)品。必須知道需要多少化0H才 能完全溶解Si02W便制造透明的CSS。通過(guò)使Si化與50%化0H的比率最小化由W下配方制 造透明的CSS膠體W便實(shí)現(xiàn)最大的粒子電荷密度。
[02化]表16透明的Na-CSS膠體 「OMAl
[0267]在85C下將Si化完全溶于化OH中持續(xù)4小時(shí)，形成透明液體。當(dāng)計(jì)算其摩爾濃度時(shí)， Si化與化0H的摩爾比（4.662摩爾：2.925摩爾）= 1.593:1 (摩爾比）。然而，如果假設(shè)W下反 應(yīng)：
[0%引
[0269] Si〇2:化0H=1:2摩爾比，僅2.925摩爾/2的51〇2溶解，或者溶解的81〇2/總51〇2 = (2.925)/2摩爾/(4.662摩爾）=0.3138。因此，大多數(shù)Si化沒(méi)有溶解。運(yùn)與所觀察到的是矛 盾的:所有二氧化娃明顯溶解，形成透明的溶液。此計(jì)算指示反應(yīng)(2)是無(wú)效的而反應(yīng)(1)更 適當(dāng)。如果所有二氧化娃都溶解，那么n>2x 1.593 = 3.186。
[0270] 為了進(jìn)一步證實(shí)此發(fā)現(xiàn)，可從PQ Co巧.商購(gòu)獲得的37.5%化2Si〇3在此研究中被用 作對(duì)照樣品。對(duì)于此商購(gòu)的透明化2Si03液體樣品，Si〇2:化2〇重量比=3.220:1或摩爾比= 3.323:1。運(yùn)等效于51〇2:胞(^=3.323:2 = 1.662:1。化25103/總51〇2=(1/2)摩爾/(1.662摩 爾）=30.08%。因此，對(duì)于商購(gòu)的船251〇3溶液，11>3.323。
[0271] 通過(guò)光散射和ESCA分析樣品W確定在透明的膠體中是否存在一些小納米粒子。基 于表16中的上述配方，微調(diào)Si化與50%化0H的比率并制備W下配方：
[0272] 表17用于制造不透明的、半透明的、及透明的Na-CSS膠體的配方
[0273]
[0274] 當(dāng)Si〇2與50 %NaOH重量比=2.028:1或摩爾比=2.700:1時(shí)，發(fā)現(xiàn)半透明的化-CSS 膠體。因此，當(dāng)n《2.700X2 = 5.400時(shí)，所有二氧化娃將完全溶解。使用0.20mm厚的石英UV光 學(xué)池測(cè)量W上5個(gè)樣品的UV-可見(jiàn)光譜(參見(jiàn)圖3)。從來(lái)自PQ Co巧.的37.5%化2Si〇3商業(yè)產(chǎn) 品制備的14.6 %Na2Si03溶液被用作對(duì)照樣品。
[0275] 可見(jiàn)半透明的（#152)和透明的（#148和#149)膠體具有與對(duì)照樣品類似的濁度譜： 在300與8(K)nm之間的可見(jiàn)光譜區(qū)中不存在散射，運(yùn)可能是因?yàn)椴淮嬖赟i化粒子或者如果二 氧化娃粒子存在的話，它們是極少的，并且在200與300nm之間的UV區(qū)中有一些散射或吸收。 由于更多的二氧化娃用于所述配方中，所W半透明的(#151)和不透明的(#150)樣品顯示在 可見(jiàn)光和UV區(qū)中來(lái)自Si化粒子的高得多的散射背景。
[0276] ESCA 分析：
[0277] 表 18-Na-CSS#152 的 ESCA 分析
[027引
[0279] 基于上述ESCA數(shù)據(jù)，半透明的樣品（#152)含有(基于化數(shù)據(jù))化2Si〇3% =37.5%X 2.53/13.20 = 7.19%。從#152配方可見(jiàn)，如果所有化OH與二氧化娃反應(yīng)，那么得到6.84% Na2Si〇3，運(yùn)非常接近于由W上ESCA數(shù)據(jù)計(jì)算的值(7.19 % )。
[0280] 下表19顯示如通過(guò)光散射測(cè)定的二氧化娃和CSS粒子的粒度分布。表19示出了 W 下各物的粒度分布:熱解法二氧化娃、化-CSS膠體、Zeodent愈105沉淀二氧化娃、不透明的 Na-CSS(#150)、半透明的Na-CSS(#151) W及半透明的Na-CSS(#152)。
[0281] 表19
[0282]
[0283] 由于高表面面積(能量），所W小粒子可形成更大的簇。運(yùn)可從商購(gòu)的熱解法二氧 化娃樣品(平均粒徑據(jù)報(bào)告為12nm)中看出，通過(guò)光散射法，其平均粒度為51.90WIUSEM圖片 也顯示熱解法二氧化娃粒子形成更大的簇。從粒度分布可見(jiàn)：（1)在與NaOH反應(yīng)之后的粒度 分布比商購(gòu)的Zeodent 105高清潔粉末(對(duì)照)要窄；（2)較小粒子在較大尺寸的部分之前溶 解。
[0284] 將蝕刻的CSS粒子與完全形成的金屬娃酸鹽(例如化2Si〇3)區(qū)分的一個(gè)其他手段是 比較粘度。37.5 %化2Si〇3在pH 11.3時(shí)固化。當(dāng)幾乎lOx稀釋至3.32%化2Si〇3時(shí)，溶液仍在 約9的抑下固化。相比之下，本發(fā)明的CSS粒子在運(yùn)些濃度和pH下保持在溶液中。因而，本發(fā) 明的另一實(shí)施方案是形成CSS粒子，其在抑6-10的整個(gè)10%抑(通過(guò)將lOg牙膏添加于90g 水中的10%牙膏溶液的pH)范圍上保持可流動(dòng)的膠態(tài)形式（即非固化），運(yùn)可與其他完全形 成的金屬娃酸鹽區(qū)分開(kāi)，其他金屬娃酸鹽將在約大于或等于抑9的抑下固化。
[0285] 實(shí)施例11
[02化]通過(guò)NaOH進(jìn)行的二氧化娃蝕刻
[0287] CSS可由任何種類的二氧化娃材料制成，例如剛性二氧化娃粒子、或多孔二氧化娃 粒子如無(wú)定形牙齒二氧化娃研磨劑：高清潔二氧化娃Zeodent 105;規(guī)則二氧化娃如 Zeodent 114、增稠二氧化娃如Zeodent 165。
[0288] 蝕刻掉的二氧化娃的量取決于二氧化娃粒子的肥T比表面積-具有更大表面面積 的粒子將被蝕刻較淺深度。蝕刻的量還取決于二氧化娃與堿的比率。發(fā)現(xiàn)當(dāng)Zeodent 105二 氧化娃對(duì)50%化0田容液的重量比=2.02(終點(diǎn)）時(shí)，所有二氧化娃溶解。當(dāng)制造化-CSS牙膏 時(shí)，使用20%高清潔二氧化娃(Zeodent 105)和4.5%的50%化0H。因此，Si〇2:50%化0H的 比率=4.44:1。因?yàn)槿芙獾腟i化：50%化0H=2.02:1，所W在反應(yīng)之后剩余的Si02與化0H (50% ) = (4.44-2.02) :1 = 2.42:1。因此，剩余Si02對(duì)初始Si02 = 2.42/4.44 = 54.55%，或 體積變化（A V/V) = 54.55 % -100 % = -45.45 %。注意用于溶解所有二氧化娃材料的終點(diǎn)可 能在Si化與Si化之間是不同的（不同二氧化娃可具有不同終點(diǎn)，因此例如對(duì)于熱解法二氧化 娃的終點(diǎn)可能不是2.02:1)。
[0289] 由邸化k表面積的計(jì)算
[0290]對(duì)于所有Si化(包括剛性和多孔粒子兩者)都使用肥T比表面積(S/W)來(lái)計(jì)算。對(duì)于 高清潔二氧化娃(例如Zeodent 105，S/W=35mVg且密度d = 2.2g/cm3)，在粒徑（AX)上的變 化是由下式給出： 陶]AX=[(AV/V)/(S/W)]x 1/d
[0巧2] AX= (-0.4545/35X l〇W/g)x( 1/2.2g/cm^)
[0 巧 3] AX = -5.90x 1〇-7畑1
[0 巧 4] AX = -590nm(-0.590皿）
[02M]由粒徑的計(jì)算
[0296] 對(duì)于單分散、剛性、球狀粒子可利用替代的計(jì)算。因?yàn)榱Ｗ油獗砻婷娣e極?。ㄅc微 孔粒子相比），所W剛性粒子將具有更高程度的蝕刻。
[0297] 求導(dǎo)數(shù)：
[0298；
[0299；
[0300；
[0301] 對(duì)于12nm熱解法二氧化娃(例如Aeorsil 200)，如果通過(guò)假定與高清潔二氧化娃 (例如Zeodent 105)相同的相對(duì)體積變化，dV/V = -0.4545，那么粒徑的變化AD = -0.1515X 12皿=-1.8皿。此直徑的變化（12皿二氧化娃是-1.8皿)成比例地大于高清潔二氧化娃（1化 m二氧化娃的-0.590皿=5.9 % )。
[0302] 實(shí)施例12
[0303] 使用ESCA數(shù)據(jù)的二氧化娃表面上的Na2Si〇3層數(shù)的模型
[0304] ESCA(化學(xué)分析電子光譜法-又名或X射線光電子光譜學(xué))可從表面向下穿透到 10皿深。1層二氧化娃或化2Si03是大約1 A(〇.l皿）。對(duì)于化2Si化分子:化/Si = 2:l。因此對(duì) 于 100 單層，化= 0.02:1。但來(lái)自 ESCA 數(shù)據(jù):Na/Si = 0.084:1。因此，存在0.084/0.02 = 4.2>4 層的 Na2Si03。
[0305] 實(shí)施例13
[0306] 使用拉曼光譜學(xué)的二氧化娃表面上的Na2Si〇3層數(shù)的模型
[0307]
[030引
[0309]
[0310]
[0311]
[0312]
[0313]
[0314]
[0315]
[0316] 實(shí)施例14
[0317] CSS粒子的噴霧干燥合成 [031引合成工序；
[0319] 在反應(yīng)容器中添加水和50%化0H。用機(jī)械攬拌器(約200RPM)保持?jǐn)埌?。使?00°C 蒸汽水浴加熱水溶液W控制溫度在80-90°C。緩慢添加Zeodent 105(高清潔二氧化娃粉末） 到溶液中。保持?jǐn)埌?。在約85°C下反應(yīng)4小時(shí)W制造化+-CSS膠體。停止加熱并冷卻至室溫。 保持?jǐn)埌柽^(guò)夜。使用濾紙W在真空下過(guò)濾W上膠體。收集過(guò)濾的液體。使用水洗涂化+-CSS 濕固體W除去可溶性金屬離子。通過(guò)噴霧干燥干燥化+-CSS膠體W獲得干燥的化-CSS研磨 劑。計(jì)算產(chǎn)率(接近100%)，其產(chǎn)率稍微超過(guò)100%，因?yàn)樵诠腆w中存在一些水分而在干燥期 間沒(méi)有完全蒸發(fā)。
[0320] 實(shí)施例15
[0321] 冷凍干燥工序
[0322] 或者，將實(shí)施例14的過(guò)濾液體接著與DI水混合，水與化-CSS的質(zhì)量比為約1:1。冷 凍混合物直到其變成固體。打開(kāi)冷凍干燥器W冷卻室。當(dāng)室溫下降到-47°C時(shí)，將冷凍樣品 加載到室中并打開(kāi)真空持續(xù)足W形成干燥的CSS粉末的一段時(shí)間。
[0323] 實(shí)施例16
[0324] 使用刃天青抗細(xì)菌測(cè)試測(cè)定就抗細(xì)菌活性對(duì)本發(fā)明的核殼二氧化娃(CSS)粒子進(jìn) 行測(cè)試，其中刃天青的減少是細(xì)菌生長(zhǎng)減少的量度。
[0325] 使用具有用于口腔護(hù)理產(chǎn)品評(píng)價(jià)中的恒化器接種物（與粘性放線菌 (A.viscosus)、口腔鏈球菌（S . oral is)、小韋榮氏球菌（V . parvula)、干酪乳酸桿菌 (L. case i)及核粒梭桿菌(F. nucleatum)的細(xì)菌混合物）的刃天青微測(cè)定就細(xì)菌活力測(cè)量所 有溶液。刃天青(7-徑基-3H-吩嗦-3-酬10-氧化物)是用作氧化還原反應(yīng)的藍(lán)色染料，其由 色彩感知與呼吸反應(yīng)作用量化細(xì)菌活力。
[0326] 分別使用TSB肉湯（膜酶解酪蛋白大豆肉湯）和乙醇，用與粘性放線菌、口腔鏈球 菌、小韋榮氏球菌、干酪乳酸桿菌及核粒梭桿菌的活的和死的細(xì)菌混合物進(jìn)行每個(gè)實(shí)驗(yàn)并 且將其W適當(dāng)?shù)谋嚷侍砑覹生成在總共12個(gè)點(diǎn)收集的從100%活細(xì)菌混合物至100%死細(xì) 菌混合物的標(biāo)準(zhǔn)曲線。
[0327] 使用來(lái)自1ml恒化器接種物的細(xì)菌沉淀進(jìn)行測(cè)定并且在化pendorf管中暴露于1:1 比率的1/4濃度的膜酶解酪蛋白大豆肉湯：測(cè)試溶液。在1小時(shí)培養(yǎng)之后，通過(guò)在適當(dāng)?shù)幕旌?下添加1ml D/E肉湯去活化進(jìn)一步的細(xì)菌生長(zhǎng)并且用1ml TSB肉湯沖洗收集的沉淀W完全 除去D/E肉湯(D/E = Dey-Engley)。將最后的沉淀再懸浮于1.5ml TSB肉湯中并且將100化的 量轉(zhuǎn)移到具有于96孔板中的1(K)化刃天青染料溶液的96孔板中。在37°C下培養(yǎng)3-5min之后 用刃天青測(cè)定方案完成OD測(cè)量W實(shí)現(xiàn)理想的染料反應(yīng)。
[0328] 從生物學(xué)方面考慮到每天細(xì)菌中的差異，每天一次進(jìn)行微測(cè)定持續(xù)4-5天。最終的 細(xì)菌活力％代表平均值。本發(fā)明的成分濃度被設(shè)定為牙膏配方中的實(shí)際濃度。
[0329] 表20:刃天青抗細(xì)菌測(cè)試(活力水平） 「03301
'[0331]如從表20中的數(shù)據(jù)可見(jiàn)，核殼二氧化娃粒子提供比氯化鋒(ZnCb，一種已知的抗 細(xì)菌劑)更高的抗細(xì)菌活性。
[0332]如本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解，可在不背離本發(fā)明的精神下對(duì)本文所述的實(shí)施方案做 出許多改變和修改。意圖是所有此類修改均屬于所附權(quán)利要求書(shū)的范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 核殼二氧化硅粒子，其中每個(gè)核殼二氧化硅粒子包含二氧化硅核，并且所述二氧化 硅核的表面用I族金屬硅酸鹽蝕刻。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的核殼二氧化娃粒子，其中所述金屬娃酸鹽包含式M2Si〇3 .xH2〇， 其中Μ是I族金屬，且x為0至10。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的核殼二氧化硅粒子，其中Μ是Na或Κ。4. 根據(jù)任一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的核殼二氧化硅粒子，其中所述二氧化硅核的表面是 所述二氧化硅核的外表面。5. 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的核殼二氧化硅粒子，其中所述二氧化硅核的表面 是所述二氧化硅核的內(nèi)表面。6. 根據(jù)任一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的核殼二氧化硅粒子，其中每個(gè)粒子的外部10nm深處 包含 0.1 至 10 重量 ％M2Si03.xH20。7. 根據(jù)任一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的核殼二氧化硅粒子，其中每個(gè)粒子的外部10nm深處 具有通式： (Si〇2)P[0〇*M+Jl+hOH-j] .qH20 其中0*是硅酸鹽形式的氧;Μ是I族金屬離子;？、〇、111、11、」及卩是每個(gè)組分的原子百分比； 并且每個(gè)核殼二氧化硅粒子的總電荷是零。8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的核殼二氧化硅粒子，其中每個(gè)粒子的外部10nm深處具有以下 組成中的一個(gè)： (Si〇2)3〇.3〇Nao.4i · 8 · 70H2〇 (Si〇2)30.67Na〇.36 · 7 · 63H2〇 (Si〇2)23.25[O*11.73Hl0.26Nai3.20] · 5 · 33H2O9. 根據(jù)任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的核殼二氧化娃粒子，其中所述粒子的d(0.5)值是5nm至 50μπι〇10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的核殼二氧化硅粒子，其中所述粒子的d(0.5)值是26μπι至40μ m〇11. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的核殼二氧化硅粒子，其中所述粒子的d(0.5)值是18μπι至25μ m〇12. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的核殼二氧化硅粒子，其中所述粒子的d(0.5)值是ΙΟμπ?至15μ m〇13. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的核殼二氧化娃粒子，其中所述粒子的d (0.5)值是5nm至12nm。14. 如任一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的核殼二氧化娃粒子，其中d (0.5)值小于人釉質(zhì)小管 的平均直徑。15. 如任一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的核殼二氧化硅粒子，其中所述M2Si03. χΗ20包含多個(gè) 單層 M2Si〇3.xH2〇。16. 如權(quán)利要求15所述的核殼二氧化硅粒子，其中單層的數(shù)量為2至100、2至40、2至12 或12至40層。17. 如任一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的核殼二氧化娃粒子，其中所述二氧化娃選自由以下 組成的組:沉淀的二氧化硅、熱解法二氧化硅及熔融的二氧化硅。18. 如任一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的核殼二氧化娃粒子，其具有0.5至5. Omeq/g的總陽(yáng)離 子交換容量。19. 如任一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的核殼二氧化硅粒子，使用0.20mm石英UV光學(xué)池在300 至800nm的波長(zhǎng)下其具有0 · 0至0 · 2的濁度。20. 如權(quán)利要求1至18中任一項(xiàng)所述的核殼二氧化硅粒子，使用0.20mm石英UV光學(xué)池在 300至800nm的波長(zhǎng)下其具有0 · 8至1 · 6的濁度。21. 如權(quán)利要求1至18中任一項(xiàng)所述的核殼二氧化硅粒子，使用0.20mm石英UV光學(xué)池在 300至800nm的波長(zhǎng)下其具有1.8至2.4的濁度。22. -種組合物，其包含任一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的核殼二氧化硅粒子。23. 根據(jù)權(quán)利要求22所述的組合物，其是粉末研磨劑。24. -種組合物，其包含如權(quán)利要求1-21中任一項(xiàng)所述的核殼二氧化硅粒子和載體。25. 如權(quán)利要求24所述的組合物，其中所述組合物是口腔護(hù)理組合物且進(jìn)一步包含口 腔可接受的載體。26. 如權(quán)利要求25所述的口腔護(hù)理組合物，其中所述口腔護(hù)理組合物呈固體、糊劑、凝 膠組合物或液體組合物形式。27. 如權(quán)利要求25-26中任一項(xiàng)所述的口腔護(hù)理組合物，其中所述口腔可接受的載體是 水。28. 如權(quán)利要求25-27中任一項(xiàng)所述的口腔護(hù)理組合物，其中所述口腔可接受的載體進(jìn) 一步包含濕潤(rùn)劑。29. 如權(quán)利要求25-28中任一項(xiàng)所述的口腔護(hù)理組合物，其進(jìn)一步包含抗細(xì)菌劑。30. 如權(quán)利要求25-29中任一項(xiàng)所述的口腔護(hù)理組合物，其中除本發(fā)明的核殼二氧化硅 粒子之外不存在另外的抗細(xì)菌劑。31. 如權(quán)利要求25-30中任一項(xiàng)所述的口腔護(hù)理組合物，其中所述組合物進(jìn)一步包含抗 齲齒劑、脫敏劑、粘度調(diào)節(jié)劑、稀釋劑、表面活性劑、乳化劑、泡沫調(diào)節(jié)劑、pH調(diào)節(jié)劑、研磨劑、 口感劑、甜味劑、調(diào)味劑、著色劑、防腐劑、氨基酸、抗氧化劑、抗牙結(jié)石劑、氟離子源、增稠 劑、用于預(yù)防或治療口腔的硬或軟組織的病狀或病癥的活性劑、粘合劑、增白劑及其組合。32. -種用于制造如任一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的核殼二氧化硅粒子的方法，其包括將 一定量在水中的二氧化硅粒子與一定量的堿混合以產(chǎn)生所述核殼二氧化硅粒子，其中所述 堿包括I族金屬離子。33. 根據(jù)權(quán)利要求32所述的方法，其中所述堿呈固體或水溶液形式。34. 根據(jù)權(quán)利要求32或33所述的方法，其中所述堿選自由以下組成的組:氫氧化鈉、氫 氧化鉀、碳酸鈉、碳酸鉀、磷酸三鈉、磷酸氫二鈉、磷酸鉀、磷酸氫二鉀、焦磷酸四鈉及焦磷酸 四鉀。35. 如權(quán)利要求32至34中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述二氧化硅選自由以下組成的組： 沉淀的二氧化硅、熱解法二氧化硅及熔融的二氧化硅。36. 根據(jù)權(quán)利要求34或35所述的方法，其中所述堿是氫氧化鈉且所述方法在70至90°C 的溫度下進(jìn)行。37. 根據(jù)權(quán)利要求34或35所述的方法，其中所述堿是氫氧化鉀且所述方法在室溫下進(jìn) 行。38. 根據(jù)權(quán)利要求32至37中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述核殼二氧化硅粒子的形成在2 小時(shí)之后完成。39. 根據(jù)權(quán)利要求32至38中任一項(xiàng)所述的方法，其中堿的量與二氧化硅粒子的量的重 量比為1:1至1:20。40. 根據(jù)權(quán)利要求39所述的方法，其中所述堿的量與所述二氧化硅粒子的量的所述重 量比為1:1至1:6。41. 根據(jù)權(quán)利要求39或40所述的方法，其中所述核殼二氧化硅粒子的濁度通過(guò)提高所 述堿的量與所述二氧化硅粒子的量的所述重量比來(lái)減小。42. 根據(jù)權(quán)利要求32至41中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述堿是50 %氫氧化鈉水溶液。43. 根據(jù)權(quán)利要求32至42中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述二氧化硅粒子與堿的反應(yīng)造 成二氧化娃粒子的d(0.5)值減少1至15nm以形成二氧化娃核，并且M2Si〇3.xH2〇在所述二氧 化硅核的頂部上形成。44. 根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法，其中隨著所述堿的量與所述二氧化硅粒子量的所述 重量比的增加，二氧化硅粒子的d (0.5)值有更大的減小。45. 根據(jù)權(quán)利要求32至44中任一項(xiàng)所述的方法，其是在濕潤(rùn)劑存在下發(fā)生。46. 如權(quán)利要求45所述的方法，其中濕潤(rùn)劑的量與水的重量比選自由以下比率組成的 組:4:1至1:4;3:1至1:3 ;2:1至1:2;以及5:3至3:5。47. 如權(quán)利要求32至46中任一項(xiàng)所述的方法，其中通過(guò)所述方法形成的核殼二氧化硅 粒子的d (0.5)值超過(guò)二氧化娃起始材料的d (0.5)值的至少5 %。48. 如權(quán)利要求32至47中任一項(xiàng)所述的方法，其中當(dāng)反應(yīng)混合物的pH與反應(yīng)物的初始 混合物的pH相比減小了至少0.5個(gè)pH單位時(shí)形成所述核殼二氧化娃粒子。49. 如權(quán)利要求48所述的方法，其中當(dāng)反應(yīng)混合物的pH與反應(yīng)物的初始混合物的pH相 比減小了至少0.8個(gè)pH單位時(shí)形成所述核殼二氧化娃粒子。50. 如權(quán)利要求48或49所述的方法，其中當(dāng)pH為約11時(shí)完成所述核殼粒子的形成。51. 如權(quán)利要求32至50中任一項(xiàng)所述的方法，其中當(dāng)反應(yīng)混合物的導(dǎo)電率減小了至少 2mS/cm時(shí)形成所述核殼二氧化娃粒子。52. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的方法，其中當(dāng)反應(yīng)混合物的導(dǎo)電率減小了至少5mS/cm時(shí)形 成所述核殼二氧化娃粒子。53. -種核殼二氧化硅粒子，其可通過(guò)權(quán)利要求32至52中任一項(xiàng)所述的方法獲得。54. -種減少或抑制有此需要的患者口腔中的細(xì)菌的方法，所述方法包括向所述患者 的口腔表面施用如權(quán)利要求25至31中任一項(xiàng)所述的口腔護(hù)理組合物。55. -種在患者可拆卸的口腔裝置中減少或抑制細(xì)菌的離體方法，其包括向所述可拆 卸的口腔裝置的表面施用如權(quán)利要求25至31中任一項(xiàng)所述的口腔護(hù)理組合物。56. 如權(quán)利要求55所述的離體方法，其中所述可拆卸的口腔裝置是牙托、托盤、咬口器、 正牙牙套及保持器。
【文檔編號(hào)】A61Q11/00GK106062248SQ201480073669
【公開(kāi)日】2016年10月26日
【申請(qǐng)日】2014年12月18日
【發(fā)明人】潘桂生, 蘇曼·喬普拉
【申請(qǐng)人】高露潔-棕欖公司