一種掩膜版組件及其安裝方法、蒸鍍裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明實(shí)施例提供一種掩膜版組件及其安裝方法、蒸鍍裝置，涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，能夠降低掩膜版和背板貼合時(shí)掩膜版的偏移量，進(jìn)而提高產(chǎn)品的合格率。該掩膜版組件包括支撐架以及固定于支撐架上的掩膜版，掩膜版包括有效掩膜區(qū)和包圍有效掩膜區(qū)的無效掩膜區(qū)；掩膜版組件還包括固定于支撐架上的第一支撐條，第一支撐條設(shè)置于掩膜版背離支撐架一側(cè)，且第一支撐條在支撐架所在平面的投影與掩模板在支撐架所在平面的投影存在第一交疊部分，第一交疊部分位于無效掩膜區(qū)在支撐架所在平面的投影區(qū)域內(nèi)。
【專利說明】
一種掩膜版組件及其安裝方法、蒸鍍裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜版組件及其安裝方法、蒸鍍裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light Emitting D1de，簡(jiǎn)稱0LED)顯示器因其具有自發(fā)光、輕薄、功耗低、高對(duì)比度、高色域、可實(shí)現(xiàn)柔性顯示等優(yōu)點(diǎn)，已被廣泛地應(yīng)用于包括電腦、手機(jī)等電子產(chǎn)品在內(nèi)的各種電子設(shè)備中。
[0003]OLED顯示器件包括陰極層、有機(jī)材料功能層以及陽極層等，其中，有機(jī)材料功能層一般利用掩膜版，采用蒸鍍的方式將蒸鍍材料蒸鍍至蒸鍍用背板的預(yù)設(shè)位置。
[0004]如圖1a所示，在蒸鍍的過程中，為了將蒸鍍材料準(zhǔn)確的蒸鍍至蒸鍍用背板100的預(yù)設(shè)位置，需要將蒸鍍用背板100與下方的掩膜版200進(jìn)行貼合，然而，當(dāng)蒸鍍用背板100與掩膜版200貼合時(shí)，由于蒸鍍用背板100與掩膜版200相比，蒸鍍用背板100自身的重力較大，從而使得蒸鍍用背板100在沿靠近掩膜版200的方向F上具有的下垂量比掩膜版200在該方向上的下垂量大，這樣一來，當(dāng)蒸鍍用背板100和掩膜版200在接觸后會(huì)產(chǎn)生相對(duì)的滑動(dòng)，進(jìn)而會(huì)使得掩膜版200發(fā)生偏移，從而導(dǎo)致蒸鍍至蒸鍍用背板100上蒸鍍材料的位置發(fā)生偏移。此外，如圖1b所示，上述掩膜版200上的有效掩膜區(qū)201中包括多個(gè)間隔設(shè)置的遮擋條2011，當(dāng)蒸鍍用背板100和掩膜版200在接觸后產(chǎn)生相對(duì)的滑動(dòng)的過程中，背板100和遮擋條2011之間會(huì)產(chǎn)生摩擦，在該摩擦力的作用下，很容易使得遮擋條2011發(fā)生偏移和損壞，進(jìn)而造成混色等不良現(xiàn)象。
[0005]綜上所述，由于蒸鍍用背板100的下垂量比掩膜版200的下垂量大，當(dāng)蒸鍍用背板100與掩膜版200貼合時(shí)，掩膜版200以及遮擋條2011會(huì)發(fā)生偏移，從而使得蒸鍍材料不能有效的蒸鍍至蒸鍍用背板100上規(guī)定的位置，進(jìn)而降低了產(chǎn)品的合格率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的實(shí)施例提供一種掩膜版組件及其安裝方法、蒸鍍裝置，用于降低掩膜版和蒸鍍用背板貼合時(shí)掩膜版的偏移量，進(jìn)而提高產(chǎn)品的合格率。
[0007]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0008]本發(fā)明實(shí)施例一方面提供一種掩膜版組件，包括支撐架以及固定于所述支撐架上的掩膜版;所述掩膜版包括有效掩膜區(qū)和包圍所述有效掩膜區(qū)的無效掩膜區(qū)。所述掩膜版組件還包括固定于所述支撐架上的第一支撐條，所述第一支撐條設(shè)置于所述掩膜版背離所述支撐架一側(cè)，且所述第一支撐條在所述支撐架所在平面的投影與所述掩模板在所述支撐架所在平面的投影存在第一交疊部分，所述第一交疊部分位于所述無效掩膜區(qū)在所述支撐架所在平面的投影區(qū)域內(nèi)。
[0009]進(jìn)一步的，該掩膜版組件還包括固定于所述支撐架上的第二支撐條，所述第二支撐條設(shè)置于所述掩膜版靠近所述支撐架的一側(cè)，且所述第二支撐條在所述支撐架所在平面的投影與所述掩模板在所述支撐架所在平面的投影存在第二交疊部分，所述第二交疊部分位于所述無效掩膜區(qū)在所述支撐架所在平面的投影區(qū)域內(nèi)。
[0010]進(jìn)一步的，所述第一支撐條與所述第二支撐條的延伸方向相同，且具有重疊區(qū)域。
[0011]進(jìn)一步的，所述掩膜版在背離所述支撐架的一側(cè)設(shè)置有凹槽，且所述第一支撐條的至少一部分位于所述凹槽內(nèi)。
[0012]進(jìn)一步的，所述第一支撐條背離所述支撐架的表面與所述掩膜版背離所述支撐架的表面具有高度差，所述高度差的絕對(duì)值小于或等于5μπι。
[0013]進(jìn)一步的，所述第一支撐條背離所述支撐架的表面與所述掩膜版背離所述支撐架的表面平齊。
[0014]進(jìn)一步的，所述凹槽的深度占所述掩膜版無效掩膜區(qū)的厚度的百分比為40%?60%。
[0015]進(jìn)一步的，當(dāng)所述掩膜版組件包括至少兩個(gè)掩膜版時(shí)，在相鄰兩個(gè)所述掩膜版之間，且靠近所述支撐架的一側(cè)設(shè)置有固定于所述支撐架上的遮蔽條。
[0016]進(jìn)一步的，在所述掩膜版組件包括所述遮蔽條和第二支撐條的情況下，所述遮蔽條設(shè)置于所述第二支撐條靠近所述支撐架的一側(cè)。
[0017]進(jìn)一步的，所述支撐架為矩形框架;所述掩膜版的兩端分別固定于所述支撐架的第一組對(duì)邊上，所述掩膜版與所述支撐架的第二組對(duì)邊中的至少一個(gè)邊之間具有間隙區(qū)域;所述掩膜版組件還包括設(shè)置于所述間隙區(qū)域且固定于所述支撐架的第一組對(duì)邊上的對(duì)位板;所述第一支撐條的兩端分別固定于所述支撐架的第二組對(duì)邊上。
[0018]進(jìn)一步的，所述掩膜版為精細(xì)金屬掩膜版。
[0019]本發(fā)明實(shí)施例的另一方面還提供一種掩膜版組件的安裝方法，在所述掩膜版組件包括支撐架、掩膜版、第一支撐條;所述安裝方法為:將所述掩膜版固定于所述支撐架的第一組對(duì)邊上;在固定有所述掩膜版的支撐架上，將所述第一支撐條固定于所述支撐架的第二組對(duì)邊上。
[0020]進(jìn)一步的，在所述掩膜版組件還包括第二支撐條、至少兩個(gè)所述掩膜版、遮蔽條的情況下，所述安裝方法為:將所述遮蔽條固定于所述支撐架的第一組對(duì)邊上;在固定有所述遮蔽條的支撐架上，將所述第二支撐條固定于所述支撐架的第二組對(duì)邊上;在固定有所述第二支撐條的支撐架上，將所述掩膜版固定于所述支撐架的第一組對(duì)邊上;其中，相鄰的兩個(gè)所述掩膜版的間隙與所述遮蔽條的位置對(duì)應(yīng)，所述第二支撐條位于所述掩膜版的無效掩膜區(qū)；在固定有所述掩膜版的支撐架上，將所述第一支撐條固定于所述支撐架的第二組對(duì)邊上，且所述第一支撐條位于所述掩膜版的凹槽內(nèi)。
[0021]本發(fā)明的實(shí)施例的又一方面還提供一種蒸鍍裝置，包括蒸鍍?cè)匆约吧鲜龅难谀ぐ娼M件;其中，所述掩膜版組件中的掩膜版靠近所述蒸鍍?cè)匆粋?cè)。
[0022]本發(fā)明實(shí)施例提供一種掩膜版組件及其安裝方法、蒸鍍裝置，該掩膜版組件包括支撐架以及固定于支撐架上的掩膜版，掩膜版包括有效掩膜區(qū)和包圍有效掩膜區(qū)的無效掩膜區(qū)。掩膜版組件還包括固定于支撐架上的第一支撐條，第一支撐條設(shè)置于掩膜版背離支撐架一側(cè)，且所述第一支撐條在支撐架所在平面的投影與掩模板在支撐架所在平面的投影存在第一交疊部分，第一交疊部分位于無效掩膜區(qū)在支撐架所在平面的投影區(qū)域內(nèi)。
[0023]—方面，通過將第一支撐條設(shè)置于無效掩膜區(qū)能夠避免在蒸鍍過程中第一支撐條對(duì)有效掩膜區(qū)產(chǎn)生影響。
[0024]另一方面，蒸鍍過程中，蒸鍍用背板通常位于掩膜版的上方，以使得由蒸鍍?cè)凑翦兂龅牟牧夏軌蚪?jīng)過掩膜版后蒸鍍至上述蒸鍍用背板上，且蒸鍍用背板在沿靠近掩膜版的方向上的下垂量比掩膜版在該方向上的下垂量大，在此情況下，通過設(shè)置于掩膜版靠近蒸鍍用背板一側(cè)的第一支撐條，可以對(duì)上述蒸鍍用背板提供一定的支撐力，從而能夠減小蒸鍍用背板沿靠近掩膜版的方向上的下垂量，進(jìn)而減小蒸鍍用背板與掩膜版之間的擠壓力，這樣一來，使得蒸鍍用背板與掩膜版之間因上述擠壓力產(chǎn)生的摩擦力減小，從而能夠降低掩膜版以及有效掩膜區(qū)中的遮擋條發(fā)生偏移和損壞的幾率，進(jìn)而提高了蒸鍍材料蒸鍍至蒸鍍用背板上規(guī)定位置的準(zhǔn)確性，提高了產(chǎn)品的合格率。
【附圖說明】
[0025]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0026]圖1a為背板和掩膜版在貼合時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖1b為掩膜版的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖2a為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩膜版組件的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖2b為圖2a沿0-0’方向的剖視圖；
[0030]圖2c為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩膜版的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031]圖2d為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種掩膜版的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖2e為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種掩膜版組件的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖3a為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種包括第二支撐條的掩膜版組件的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖3b為圖3a沿P-P’方向的剖視圖；
[0035]圖4a為圖3b中區(qū)域A的一種局部放大圖；
[0036]圖4b為圖3b中區(qū)域A的另一種局部放大圖；
[0037]圖4c為圖3b中區(qū)域A的又一種局部放大圖；
[0038]圖5a為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種背板和掩膜版在貼合時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0039]圖5b為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種背板和掩膜版在貼合時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖6a為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種背板和掩膜版在貼合時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0041 ]圖6b為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種背板和掩膜版在貼合時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0042]圖7a為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種包括遮蔽條的掩膜版組件的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0043]圖7b為圖7a沿S-S’方向的剖視圖；
[0044]圖8a為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種包括對(duì)位板的掩膜版組件的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0045]圖8b為圖8a沿G-G’方向的剖視圖；
[0046]圖9為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩膜版組件的安裝方法流程圖；
[0047]圖10為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0048]附圖標(biāo)記:
[0049]10-掩膜版組件;20-蒸鍍?cè)?30-固定件；100-背板;200-掩膜版;201-有效掩膜區(qū)；2011-遮擋條;202-無效掩膜區(qū)；300-支撐架;301-第一支撐條;302-第二支撐條;303-凹槽；304-遮蔽條;305-對(duì)位板;3051-對(duì)位標(biāo)記。
【具體實(shí)施方式】
[0050]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0051]本發(fā)明實(shí)施例提供一種掩膜版組件，如圖2a所示，該掩膜版組件10包括支撐架300以及固定于支撐架300上的掩膜版200，其中圖2a中是以包括三個(gè)掩膜版為例進(jìn)行說明的。上述掩膜版200包括有效掩膜區(qū)201和包圍有效掩膜區(qū)201的無效掩膜區(qū)202。
[0052]此外，如圖2a沿00’方向的剖視圖2b所示，掩膜版組件10還包括固定于支撐架300上的第一支撐條301，第一支撐條301設(shè)置于掩膜版200背離支撐架300—側(cè)，且所述第一支撐條301在支撐架300所在平面的投影與掩模板200在支撐架300所在平面的投影存在第一交疊部分，該第一交疊部分位于無效掩膜區(qū)202在支撐架300所在平面的投影區(qū)域內(nèi)。其中，將第一支撐條301設(shè)置于無效掩膜區(qū)202能夠避免在蒸鍍過程中第一支撐條301對(duì)有效掩膜區(qū)201產(chǎn)生影響。
[0053]需要說明的是，上述掩膜版200的有效掩膜區(qū)201是指蒸鍍材料能夠透過該區(qū)域，并蒸鍍至位于掩膜版200上方的蒸鍍用背板100上;無效掩膜區(qū)202用于遮擋蒸鍍材料，以使得該蒸鍍材料無法透過該區(qū)域蒸鍍至蒸鍍用背板100(以下簡(jiǎn)稱為背板100)上。
[0054]另外，單個(gè)掩膜版200上可以設(shè)置多列有效掩膜區(qū)201，例如，如圖1b所示設(shè)置有三列有效掩膜區(qū)201，或者也可以如圖2a所示設(shè)置有一列的有效掩膜區(qū)201。本發(fā)明對(duì)有效掩膜區(qū)201的個(gè)數(shù)和排列方式不做限定，在實(shí)際的生產(chǎn)過程中可以根據(jù)生產(chǎn)需求進(jìn)行選擇。
[0055]在此基礎(chǔ)上，上述掩膜版200也可以為如圖2c所示小孔形態(tài)的掩膜版(SlotTypeMask);或者為如圖2(1所示的長(zhǎng)條形態(tài)的掩膜版(SI it Type Mask)，例如，通常在制作OLED顯示器時(shí)，采用的長(zhǎng)條形態(tài)的掩膜版可以如圖2a所示為FMM(Fine Metal Mask，精細(xì)金屬掩膜版)，該FMM在有效掩膜區(qū)201中的遮擋條2011的寬度僅為幾十微米左右，其抗壓強(qiáng)度較小，但是在上述第一支撐條301對(duì)該背板100提供支撐力的作用下，能夠有效的減小背板100對(duì)有效掩膜區(qū)201中窄長(zhǎng)的遮擋條2011的擠壓，進(jìn)而有效的減小了該FMM中遮擋條2011的偏移和損壞。
[0056]此處還需要說明的是，上述位于無效掩膜區(qū)202的第一支撐條301可以如圖2a所示為直線形狀，也可以如圖2e所示為彎曲形狀。然而，由于背板100的中間區(qū)域在沿靠近掩膜版200的方向F上產(chǎn)生的下垂量最大，因此掩膜版200對(duì)應(yīng)背板100的中間區(qū)域受到的擠壓力最大。因此，優(yōu)選的，如圖2a所示，將在掩膜版200的中間區(qū)域設(shè)置第一支撐條301，且該第一支撐條301為直線形狀，能夠在滿足對(duì)背板100的中間區(qū)域提供的支撐力的同時(shí)，使得第一支撐條301的用料最少。以下實(shí)施例均是以圖2a所示第一支撐條301為例，對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的解釋說明。
[0057]本發(fā)明實(shí)施例提供的掩膜版組件，包括支撐架以及固定于支撐架上的掩膜版，掩膜版包括有效掩膜區(qū)和包圍有效掩膜區(qū)的無效掩膜區(qū)，掩膜版組件還包括固定于支撐架上的第一支撐條，第一支撐條設(shè)置于掩膜版背離所述支撐架一側(cè)，且位于無效掩膜區(qū)。
[0058]蒸鍍過程中，蒸鍍用背板通常位于掩膜版的上方，以使得由蒸鍍?cè)凑翦兂龅牟牧夏軌蚪?jīng)過掩膜版后蒸鍍至上述蒸鍍用背板上，且蒸鍍用背板在沿靠近掩膜版的方向上的下垂量比掩膜版在該方向上的下垂量大，在此情況下，通過設(shè)置于掩膜版靠近蒸鍍用背板一側(cè)的第一支撐條，可以對(duì)上述蒸鍍用背板提供一定的支撐力，從而能夠減小蒸鍍用背板沿靠近掩膜版的方向上的下垂量，進(jìn)而減小蒸鍍用背板與掩膜版之間的擠壓力，這樣一來，使得蒸鍍用背板與掩膜版之間因上述擠壓力產(chǎn)生的摩擦力減小，從而能夠降低掩膜版以及有效掩膜區(qū)中的遮擋條發(fā)生偏移和損壞的幾率，進(jìn)而提高了蒸鍍材料蒸鍍至蒸鍍用背板上規(guī)定位置的準(zhǔn)確性，提高了產(chǎn)品的合格率。
[0059]為了進(jìn)一步提高對(duì)背板100的支撐力，如圖3a所示，上述掩膜版組件10還包括固定于支撐架300上的第二支撐條302，且第二支撐條302在支撐架300所在平面的投影與掩模板200在支撐架300所在平面的投影存在第二交疊部分，該第二交疊部分位于無效掩膜區(qū)202在支撐架300所在平面的投影區(qū)域內(nèi)。其中，如圖3a沿P-P’方向的剖視圖3b所示，該第二支撐條302設(shè)置于掩膜版200靠近支撐架300的一側(cè)。
[0060]這樣一來，在該第二支撐條302的支撐作用下，能夠進(jìn)一步減小背板100在沿靠近掩膜版200方向F上的下垂量，降低掩膜版200受到背板100的擠壓力，進(jìn)而降低掩膜版200的偏移量，提高蒸鍍材料蒸鍍至背板100上規(guī)定位置的準(zhǔn)確性。另外，本發(fā)明對(duì)第二支撐條302與第一支撐條301的相對(duì)位置不做限定，可以交叉設(shè)置，也可以重疊設(shè)置。
[0061 ]在此基礎(chǔ)上，為了最大程度的增加第一支撐條301和第二支撐條302對(duì)背板100的支撐力，優(yōu)選的，如圖3a所示，第一支撐條301和第二支撐條302的延伸方向相同，且第一支撐條301與第二支撐條302具有重疊區(qū)域。這樣一來，如圖3b所示，通過上述重疊區(qū)域內(nèi)的第一支撐條301和第二支撐條302能夠同時(shí)對(duì)背板100起到支撐，更大程度上降低背板100在沿靠近掩膜版200方向F上的下垂量，進(jìn)一步降低掩膜版200的偏移量。
[0062]以下對(duì)第一支撐條301與第二支撐條302具有重疊區(qū)域的設(shè)置方式做進(jìn)一步的解釋說明。
[0063]例如，可以如圖4a所示(圖3b中區(qū)域A的放大圖)，第一支撐條301中軸線M-M’與第二支撐條302的中軸線N-N’不重合，第一支撐條301與第二支撐條302具有重疊區(qū)域。
[0064]又例如，可以如圖4b所示，第一支撐條301與第二支撐條302的中軸線可以完全重合均為M-M’，第一支撐條301與第二支撐條302具有重疊區(qū)域。
[0065]由于當(dāng)背板100擠壓掩膜版200時(shí)，如果第一支撐條301與第二支撐條302的中軸線不重合時(shí)，在背板100的擠壓作用力下容易使得第一支撐條301與第二支撐條302發(fā)生錯(cuò)位，進(jìn)而會(huì)對(duì)掩膜版200的有效掩膜區(qū)201產(chǎn)生影響。因此，本發(fā)明優(yōu)選的，如圖4b所示，第一支撐條301與第二支撐條302的中軸線重合。
[0066]進(jìn)一步的，如圖4b所示，在第一支撐條301與第二支撐條302的中軸線重合的基礎(chǔ)上，一方面，為了同時(shí)增加第一支撐條301與第二支撐條302提高對(duì)背板100的支撐力，降低背板100在靠近掩膜版200方向上的下垂量;另一方面，為了進(jìn)一步提高第一支撐條301與第二支撐條302在受到擠壓力時(shí)的相對(duì)穩(wěn)定性，降低第一支撐條301與第二支撐條302發(fā)生錯(cuò)位的幾率。優(yōu)選的，可以如圖4c所示，將第一支撐條301與第二支撐條302的中軸線設(shè)置為完全重合，且第一支撐條301與第二支撐條302的寬度相等，這樣一來，能夠在提高對(duì)背板100的支撐力的同時(shí)，增加第一支撐條301與第二支撐條302在受到擠壓力時(shí)的相對(duì)穩(wěn)定性。
[0067]在此基礎(chǔ)上，在不影響掩膜版200中有效掩膜區(qū)201的基礎(chǔ)上，可以盡可能的增大設(shè)置在無效掩膜區(qū)202內(nèi)第一支撐條301與第二支撐條302的寬度，以實(shí)現(xiàn)通過第一支撐條301和第二支撐條302對(duì)背板100提供最大的支撐力，最大程度上降低背板100在沿靠近掩膜版200方向F上的下垂量。
[0068]此外，還需要說明的是，第一支撐條301和第二支撐條302—般選擇剛度較大的金屬材料，然而在蒸鍍過程中，蒸鍍腔內(nèi)具有一定的蒸鍍溫度，由于不同材質(zhì)的熱膨脹系數(shù)不同，即不同材質(zhì)在溫度發(fā)生改變時(shí)出現(xiàn)的脹縮量不同。因此，本發(fā)明優(yōu)選的，第一支撐條301和第二支撐條302的材質(zhì)與掩膜版200的材質(zhì)相同，例如不銹鋼材料，能夠給背板100提供足夠的支撐力的同時(shí)，避免在蒸鍍作業(yè)中，因第一支撐條301、第二支撐條302與掩膜版200的熱膨脹系數(shù)不同引起的脹縮量不同，使得第一支撐條301、第二支撐條302與掩膜版200相對(duì)位置發(fā)生變化，導(dǎo)致蒸鍍材料不能準(zhǔn)確的蒸鍍至背板100上規(guī)定位置的現(xiàn)象。
[0069]進(jìn)一步的，由于上述第一支撐條301設(shè)置在掩膜版200背離支撐架300的一側(cè)，這樣一來，如圖5a所示，當(dāng)背板100在下垂的過程中與掩膜版200貼合時(shí)，背板100與掩膜版200之間形成的高度差ΛΗ較大，從而會(huì)使得在蒸鍍的過程中，在掩膜版200的有效掩膜區(qū)201內(nèi)，蒸鍍材料以一定的傾角穿過該高度差ΛΗ蒸鍍至背板100上無效掩膜區(qū)202的位置，導(dǎo)致在背板100上形成的蒸鍍圖案存在蒸鍍陰影。因此，可以如圖5b所示，在掩膜版200背離支撐架300的一側(cè)設(shè)置有凹槽303，且第一支撐條301的至少一部分位于該凹槽303內(nèi)。此處第一支撐條301的至少一部分位于該凹槽303內(nèi)，可以是第一支撐條301全部位于凹槽303內(nèi)，也可以是第一支撐條301的一部分位于凹槽303內(nèi)。這樣一來，能夠在保證第一支撐條301對(duì)背板100的有效支撐力的基礎(chǔ)上，使得背板100與掩膜版200之間的高度差ΛΗ減小，進(jìn)而減小背板100上形成的蒸鍍圖案存在的蒸鍍陰影。
[0070]此處需要說明的是，上述掩膜版200背離支撐架300的一側(cè)的凹槽303可以在制作掩膜版200的過程中通過采用半透過掩膜工藝，以及曝光、刻蝕工藝形成。具體的，即在制作掩膜版200時(shí)，在用于構(gòu)成掩膜版200的金屬板上涂覆光刻膠，然后采用半透過掩膜版對(duì)上述金屬板進(jìn)行曝光，其中半透過掩膜版包括透光區(qū)域、半透光區(qū)域以及不透光區(qū)域。接下來通過刻蝕工藝，使得上述金屬板上對(duì)應(yīng)半透光區(qū)域處形成上述凹槽303。
[0071]以下對(duì)設(shè)置于凹槽303中的第一支撐條301的具體情況進(jìn)行說明。
[0072]例如，如圖6a所示，第一支撐條301背離支撐架300的表面與掩膜版200背離支撐架300的表面平齊。
[0073]需要說明的是，上述第一支撐條301背離支撐架300的表面與掩膜版200背離支撐架300的表面平齊，是指第一支撐條301背離支撐架300的表面與掩膜版200背離支撐架300的表面在同一平面內(nèi)。當(dāng)然，在具體的制作過程中，第一支撐條301背離支撐架300的表面與掩膜版200背離支撐架300在制作公差范圍內(nèi)引起的細(xì)微偏差而未完全處于同一平面內(nèi)，可以視為第一支撐條301背離支撐架300的表面與掩膜版200背離支撐架300的表面平齊。
[0074]又例如，如圖6b所示，第一支撐條301背離支撐架300的表面略低于掩膜版200背離支撐架300的表面，即第一支撐條301背離支撐架300的表面與掩膜版200背離支撐架300的表面之間存在高度差ΛΗ，由于當(dāng)該高度差ΛΗ大于5μπι時(shí)，使得背板100在沿靠近掩膜版200方向F下垂時(shí)，掩膜版200會(huì)受到擠壓向下產(chǎn)生的形變量有限而無法與第一支撐條301接觸，從而使得第一支撐條301不能給背板100提供支撐力，因此本發(fā)明優(yōu)選的，上述高度差ΛΗ小于或等于5μη?ο
[0075]在這種情況下，背板100在下垂的過程中，掩膜版200會(huì)受到擠壓向下產(chǎn)生形變，在掩膜版200向下產(chǎn)生形變后，使得背板100與第一支撐條301處于同一平面，此時(shí)，在背板100繼續(xù)下垂的過程中，處于同一平面內(nèi)的第一支撐條301能夠?qū)Ρ嘲?00起到支撐作用。這樣一來，通過第一支撐條301分擔(dān)一部分背板100對(duì)掩膜版200的擠壓力，能夠降低掩膜版200
的偏移量。
[0076]再例如，如圖5b所示，第一支撐條301背離支撐架300的表面略高于掩膜版200背離支撐架300的表面，使得背板100與掩膜版200之間存在高度差ΛΗ，由于當(dāng)該高度差ΛΗ大于5μπι時(shí)，從而會(huì)使得在蒸鍍的過程中，背板100與掩膜版200之間存在較大的間隙，進(jìn)而導(dǎo)致在背板100上形成的蒸鍍圖案存在蒸鍍陰影，因此本發(fā)明優(yōu)選的，上述高度差ΛΗ小于或等于 5ym0
[0077]在這種情況下，背板100在沿靠近掩膜版200方向F下垂時(shí)，背板100首先與第一支撐條301，從而使得第一支撐條301能夠?qū)Ρ嘲?00起到支撐作用，同時(shí)對(duì)于背板100與掩膜版200之間存在的較小高度差ΛΗ，可以通過磁力吸附設(shè)備來吸附掩膜版200，以達(dá)到消除該高度差ΛΗ的目的。
[0078]綜上所示，為了最大程度降低背板100與掩膜版200之間的高度差ΛΗ，避免在背板100上形成的蒸鍍圖案存在的蒸鍍陰影，優(yōu)選的，如圖6a所示，第一支撐條301背離支撐架300的表面與掩膜版200背離支撐架300的表面平齊。
[0079]在此基礎(chǔ)上，如圖6a所示，凹槽303的深度Dl占掩膜版200無效掩膜區(qū)202的厚度D2的百分比為40%?60%。具體的，如果該凹槽303深度Dl與無效掩膜區(qū)202的厚度D2比值小于40%，會(huì)使得設(shè)置于該凹槽303中的第一支撐條301的厚度有限，從而不能有效的起到支撐作用；如果該凹槽303深度Dl與無效掩膜區(qū)202的厚度D2比值大于60%，由于該凹槽303的深度Dl過大，會(huì)使得掩膜版200在該凹槽303位置處的強(qiáng)度降低，從而導(dǎo)致掩膜版200在該凹槽303位置容易發(fā)生損壞或者斷裂。
[0080]此外，當(dāng)掩膜版組件10包括至少兩個(gè)掩膜版200時(shí)，例如，如圖3a所示的掩膜版組件10包括三個(gè)掩膜版200，在相鄰兩個(gè)掩膜版200之間存在一定的縫隙區(qū)域C，在蒸鍍的過程中，該縫隙區(qū)域C對(duì)應(yīng)背板100的切割線區(qū)域，從而使得蒸鍍材料會(huì)通過該縫隙區(qū)域C蒸鍍至背板100上的切割線區(qū)域，在蒸鍍完成后，將背板100沿該切割線切割為不同的顯示基板時(shí)，通過上述縫隙區(qū)域C蒸鍍至背板100上的蒸鍍材料則對(duì)應(yīng)顯示基板的四周的組裝區(qū)域，由于該蒸鍍材料的存在，會(huì)使得在后續(xù)組裝過程中出現(xiàn)密封不良的現(xiàn)象。
[0081]為了解決上述技術(shù)問題，如圖7a所示，在上述相鄰兩個(gè)掩膜版200之間，且靠近支撐架300的一側(cè)設(shè)置固定于支撐架300上的遮蔽條304。這樣一來，通過在相鄰兩個(gè)掩膜版200之間設(shè)置遮蔽條304，該遮蔽條304對(duì)蒸鍍材料具有一定的遮擋作用，進(jìn)而能夠避免蒸鍍材料通過上述縫隙區(qū)域C直接蒸鍍至背板100上的切割線區(qū)域，從而避免了顯示基板在后續(xù)組裝過程中出現(xiàn)密封不良的現(xiàn)象。
[0082]在此基礎(chǔ)上，如圖7a沿S-S’方向的剖視圖7b所示，在掩膜版組件1包括遮蔽條304和第二支撐條302的情況下，遮蔽條304設(shè)置于第二支撐條302靠近支撐架300的一側(cè)。這樣一來，當(dāng)背板100在下垂的過程中，第二支撐條302比遮蔽條304更靠近背板100，第二支撐條302會(huì)先對(duì)背板100提供一定的支撐力，從而降低了背板100對(duì)遮蔽條304的擠壓力，進(jìn)而降低了遮蔽條304因擠壓發(fā)生偏移的幾率，使得遮蔽條304能夠有效的起到遮蔽有機(jī)材料的作用。
[0083]此外，如圖7a所示，當(dāng)上述支撐架300為矩形框架時(shí)，掩膜版200的兩端分別固定于該支撐架300的第一組對(duì)邊X和X’上，掩膜版200與支撐架300的第二組對(duì)邊Y和Y’中的至少一個(gè)邊之間具有對(duì)位區(qū)域B ο為了使得掩膜版200的有效掩膜區(qū)201與背板100上的蒸鍍有效區(qū)精確對(duì)位，如圖8a所示，該掩膜版組件10還包括設(shè)置于上述對(duì)位區(qū)域B且固定于支撐架300的第一組對(duì)邊X和X’上的對(duì)位板305;其中，第一支撐條301的兩端分別固定于支撐架300的第二組對(duì)邊Y和Y’上。
[0084]具體的，在背板100和對(duì)位板305上均設(shè)置有對(duì)位標(biāo)記3051，如圖8a所示，該對(duì)位標(biāo)記3051可以為圓孔形狀的標(biāo)記，也可以為T型的標(biāo)記，或者十字型的標(biāo)記，本發(fā)明對(duì)此不做限定。將掩膜版200的有效掩膜區(qū)201與背板100上的蒸鍍有效區(qū)進(jìn)行對(duì)位，例如，可以在掩膜版組件10的安裝的過程中，采用坐標(biāo)定位的方式將位于相同坐標(biāo)系中的掩膜版200和對(duì)位板305的位置進(jìn)行精確定位，然后在蒸鍍的過程中，將對(duì)位板305上的圓形對(duì)位標(biāo)記與背板100上的十字對(duì)位標(biāo)記位置相對(duì)應(yīng)，和/或，將對(duì)位板305上的T型對(duì)位標(biāo)記與背板100上的T型對(duì)位標(biāo)記位置相對(duì)應(yīng)，來精確確定背板100和對(duì)位板305的位置，從而能夠?qū)崿F(xiàn)掩膜版200的有效掩膜區(qū)201通過對(duì)位板305與背板100上的蒸鍍有效區(qū)精確對(duì)位的目的。
[0085]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種掩膜版組件的安裝方法，在該掩膜版組件10包括支撐架300(其中，圖9所示的支撐架300為矩形)、第一支撐條301、掩膜版200時(shí)，該掩膜版組件10的安裝方法包括:
[0086]首先、將掩膜版200固定于支撐架300的第一組對(duì)邊X和X’上。
[0087]然后、在固定有掩膜版200的支撐架300上，將第一支撐條301固定于支撐架300的第二組對(duì)邊Y和Y’上。
[0088]在此基礎(chǔ)上，當(dāng)上述該掩膜版組件10還包括第二支撐條302、至少兩個(gè)掩膜版200、遮蔽條304的情況下，如圖9所示，該掩膜版組件10的安裝方法包括:
[0089]以下結(jié)合圖8a和圖8b的掩膜版組件10對(duì)上述安裝方法進(jìn)行具體說明，其中，圖8b為沿圖8a中G-G’方向的剖視圖。
[0090]SlOl、將遮蔽條304固定于支撐架300的第一組對(duì)邊X和X’上。
[0091]具體的，該遮蔽條304的位置與后續(xù)預(yù)固定的相鄰兩個(gè)掩膜版200的間隙區(qū)域C相對(duì)應(yīng)，這樣一來，通過在相鄰兩個(gè)掩膜版200之間設(shè)置遮蔽條304，該遮蔽條304對(duì)蒸鍍材料具有一定的遮擋作用，進(jìn)而能夠避免蒸鍍材料通過該縫隙區(qū)域C直接蒸鍍至背板100上，從而避免了顯示基板在后續(xù)組裝過程中出現(xiàn)密封不良的現(xiàn)象。
[0092]S102、在固定有遮蔽條304的支撐架300上，將第二支撐條302固定于支撐架300的第二組對(duì)邊Y和Y’上。
[0093]具體的，在該第二支撐條302的支撐作用下，能夠減小背板100在沿靠近掩膜版200方向F上的下垂量，降低掩膜版200受到背板100的擠壓力，進(jìn)而降低掩膜版200的偏移量，提高蒸鍍材料蒸鍍至背板100上規(guī)定位置的準(zhǔn)確性。
[0094]此處需要說明的是，本發(fā)明通過先在支撐架300上固定遮蔽條304然后再固定第二支撐條302，這樣一來，第二支撐條302比遮蔽條304更靠近背板100，第二支撐條302會(huì)先對(duì)背板100提供一定的支撐力，從而降低了背板100對(duì)遮蔽條304的擠壓力，進(jìn)而降低了遮蔽條304因擠壓發(fā)生偏移的幾率，使得遮蔽條304能夠有效的起到遮蔽有機(jī)材料的作用。
[0095]S103、在固定有第二支撐條302的支撐架300上，將掩膜版200固定于支撐架300的第一組對(duì)邊X和X’上；其中，相鄰的兩個(gè)掩膜版200的間隙與遮蔽條304的位置對(duì)應(yīng)，第二支撐條302位于掩膜版200的無效掩膜區(qū)201。
[0096]此處需要說明的是，在支撐架300的第一組對(duì)邊X和X’上固定掩膜版200的同時(shí)，在掩膜版200與支撐架300的第二組對(duì)邊Y和Y’中的至少一個(gè)邊之間的對(duì)位區(qū)域B處，還將對(duì)位板305固定于支撐架300的第一組對(duì)邊X和X’上，用于將掩膜版200的有效掩膜區(qū)201通過該對(duì)位板305與背板100上的蒸鍍有效區(qū)進(jìn)行精確定位。
[0097]S104、在固定有掩膜版200的支撐架300上，將第一支撐條301固定于支撐架300的第二組對(duì)邊Y和Y’上，且第一支撐條301位于掩膜版200的凹槽303內(nèi)。具體的，通過將第一支撐條301設(shè)置于掩膜版200的凹槽303內(nèi)，能夠在保證第一支撐條301的有效支撐力的基礎(chǔ)上，使得背板100與掩膜版200之間的高度差ΛΗ減小，進(jìn)而降低背板100上形成的蒸鍍圖案的蒸鍍陰影。
[0098]此處需要說明的是，如果在將在第二支撐條302固定在支撐架300上后，再將第一支撐條301固定在第二支撐條302上，可能由于第二支撐條302出現(xiàn)松動(dòng)等異常現(xiàn)象時(shí)，導(dǎo)致第一支撐條301也出現(xiàn)松動(dòng)現(xiàn)象，因此，本發(fā)明優(yōu)選的，第一支撐條301和第二支撐條302分別直接固定在支撐架300上，以避免兩者之間相互影響。
[0099]此外，上述遮蔽條304、第一支撐條301、第二支撐條302、掩膜版200、遮蔽條304可以通過焊接的方式固定于支撐架300上，例如圖Sb所示的區(qū)域Q即為焊接點(diǎn)；還可以通過螺栓連接的方式固定于支撐架300上，本發(fā)明對(duì)此不作限定，只要能夠保證遮蔽條304、第一支撐條301、第二支撐條302、掩膜版200、遮蔽條304能夠準(zhǔn)確的固定于支撐架300上即可。
[0100]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種蒸鍍裝置，如圖10所示，該蒸鍍裝置包括蒸鍍?cè)?0以及掩膜版組件10;其中，該掩膜版組件10中的掩膜版200(圖中未示出)靠近蒸鍍?cè)?0—側(cè)，通過掩膜版組件10中的支撐架300(圖中未示出)將該掩膜版組件10固定于蒸鍍?cè)?0上方的固定件30上。
[0101]該蒸鍍裝置包括上述掩膜版組件，具有與前述實(shí)施例提供的掩膜版組件相同的結(jié)構(gòu)和有益效果。由于前述實(shí)施例已經(jīng)對(duì)該掩膜版組件的結(jié)構(gòu)和有益效果進(jìn)行了詳細(xì)的描述，此處不再贅述。
[0102]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種掩膜版組件，其特征在于，包括支撐架以及固定于所述支撐架上的掩膜版;所述掩膜版包括有效掩膜區(qū)和包圍所述有效掩膜區(qū)的無效掩膜區(qū)； 所述掩膜版組件還包括固定于所述支撐架上的第一支撐條，所述第一支撐條設(shè)置于所述掩膜版背離所述支撐架一側(cè)，且所述第一支撐條在所述支撐架所在平面的投影與所述掩模板在所述支撐架所在平面的投影存在第一交疊部分，所述第一交疊部分位于所述無效掩膜區(qū)在所述支撐架所在平面的投影區(qū)域內(nèi)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版組件，其特征在于，還包括固定于所述支撐架上的第二支撐條，所述第二支撐條設(shè)置于所述掩膜版靠近所述支撐架的一側(cè)，且所述第二支撐條在所述支撐架所在平面的投影與所述掩模板在所述支撐架所在平面的投影存在第二交疊部分，所述第二交疊部分位于所述無效掩膜區(qū)在所述支撐架所在平面的投影區(qū)域內(nèi)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜版組件，其特征在于，所述第一支撐條與所述第二支撐條的延伸方向相同，且具有重疊區(qū)域。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版組件，其特征在于，所述掩膜版在背離所述支撐架的一側(cè)設(shè)置有凹槽，且所述第一支撐條的至少一部分位于所述凹槽內(nèi)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜版組件，其特征在于，所述第一支撐條背離所述支撐架的表面與所述掩膜版背離所述支撐架的表面具有高度差，所述高度差的絕對(duì)值小于或等于5μmD6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜版組件，其特征在于，所述第一支撐條背離所述支撐架的表面與所述掩膜版背離所述支撐架的表面平齊。7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜版組件，其特征在于，所述凹槽的深度占所述掩膜版無效掩膜區(qū)的厚度的百分比為40%?60%。8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的掩膜版組件，其特征在于，所述掩膜版組件包括至少兩個(gè)掩膜版，在相鄰兩個(gè)所述掩膜版之間，且靠近所述支撐架的一側(cè)設(shè)置有固定于所述支撐架上的遮蔽條。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的掩膜版組件，其特征在于，在所述掩膜版組件包括所述遮蔽條和第二支撐條的情況下，所述遮蔽條設(shè)置于所述第二支撐條靠近所述支撐架的一側(cè)。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版組件，其特征在于，所述支撐架為矩形框架； 所述掩膜版的兩端分別固定于所述支撐架的第一組對(duì)邊上，所述掩膜版與所述支撐架的第二組對(duì)邊中的至少一個(gè)邊之間具有間隙區(qū)域； 所述掩膜版組件還包括設(shè)置于所述間隙區(qū)域且固定于所述支撐架的第一組對(duì)邊上的對(duì)位板； 所述第一支撐條的兩端分別固定于所述支撐架的第二組對(duì)邊上。11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版組件，其特征在于，所述掩膜版為精細(xì)金屬掩膜版。12.一種掩膜版組件的安裝方法，其特征在于，在所述掩膜版組件包括支撐架、掩膜版、第一支撐條;所述安裝方法為: 將所述掩膜版固定于所述支撐架的第一組對(duì)邊上； 在固定有所述掩膜版的支撐架上，將所述第一支撐條固定于所述支撐架的第二組對(duì)邊上。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的掩膜版組件的安裝方法，其特征在于，在所述掩膜版組件還包括第二支撐條、至少兩個(gè)所述掩膜版、遮蔽條的情況下，所述安裝方法為: 將所述遮蔽條固定于所述支撐架的第一組對(duì)邊上； 在固定有所述遮蔽條的支撐架上，將所述第二支撐條固定于所述支撐架的第二組對(duì)邊上； 在固定有所述第二支撐條的支撐架上，將所述掩膜版固定于所述支撐架的第一組對(duì)邊上;其中，相鄰的兩個(gè)所述掩膜版的間隙與所述遮蔽條的位置對(duì)應(yīng)，所述第二支撐條位于所述掩膜版的無效掩膜區(qū)； 在固定有所述掩膜版的支撐架上，將所述第一支撐條固定于所述支撐架的第二組對(duì)邊上，且所述第一支撐條位于所述掩膜版的凹槽內(nèi)。14.一種蒸鍍裝置，包括蒸鍍?cè)?，其特征在于，還包括權(quán)利要求1至11任一項(xiàng)所述的掩膜版組件;其中，所述掩膜版組件中的掩膜版靠近所述蒸鍍?cè)匆粋?cè)。
【文檔編號(hào)】C23C14/04GK106086782SQ201610493408
【公開日】2016年11月9日
【申請(qǐng)日】2016年6月28日
【發(fā)明人】林治明, 王震, 張健, 唐富強(qiáng), 黃俊杰
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司