真空離子鍍膜系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種鍍膜生產(chǎn)裝置，具體地說(shuō)是一種真空離子鍍膜系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]鍍膜技術(shù)已經(jīng)應(yīng)用于人們的日常生活和工業(yè)各個(gè)領(lǐng)域，現(xiàn)有技術(shù)中制備金黃色的TiN膜、黑色的TiC膜、棕色的TiAlN膜和綠色的ZrO膜過(guò)程中，通常都需要采用真空離子鍍膜技術(shù)，現(xiàn)有的真空離子鍍膜設(shè)備一般包括爐體主機(jī)、抽氣系統(tǒng)、電控柜三部分組成，現(xiàn)有的這種結(jié)構(gòu)，生產(chǎn)效率低，生產(chǎn)過(guò)程復(fù)雜，鍍膜質(zhì)量差，設(shè)備成本以及人工成本高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)備成本低，鍍膜質(zhì)量好的真空離子鍍膜系統(tǒng)。
[0004]為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的真空離子鍍膜系統(tǒng)，包括真空鍍膜室，真空鍍膜室內(nèi)設(shè)置有離子發(fā)射源，真空鍍膜室的左右兩側(cè)分別設(shè)置有一個(gè)前密封室和一個(gè)后密封室，后密封室后方設(shè)置有保溫室，所述前密封室的前方設(shè)置有前過(guò)渡室，保溫室的后方設(shè)置有后過(guò)渡室，還包括位于前過(guò)渡室、前密封室、真空鍍膜室、后密封室、保溫室、后過(guò)渡室內(nèi)的輸送裝置，待鍍膜的板材能夠通過(guò)輸送裝置依次進(jìn)入到前過(guò)渡室、前密封室、真空鍍膜室、后密封室、保溫室、后過(guò)渡室內(nèi)；所述真空鍍膜室的一側(cè)設(shè)置有用于抽真空的真空泵。
[0005]所述離子發(fā)射源設(shè)置有5個(gè)以上。
[0006]所述前密封室和后密封室內(nèi)分別設(shè)置有密封門，各個(gè)密封門上均設(shè)置有感應(yīng)開關(guān)，所述感應(yīng)開關(guān)檢測(cè)到板材進(jìn)入進(jìn)出狀況后能夠啟閉密封室使板材進(jìn)入前密封室或送出后S封室。
[0007]采用上述的結(jié)構(gòu)后，一方面，通過(guò)離子源發(fā)射等離子體加熱膜料，使膜料成為膜料蒸汽，均勻鍍?cè)诓Ａ?，另外一方面，設(shè)置的密封室起到很好的密封作用，有利于提高鍍膜的質(zhì)量，設(shè)置的保溫室，一方面可以起到加溫作用，進(jìn)一步增強(qiáng)鍍膜強(qiáng)度，更重要的是可以在鍍完膜后出爐過(guò)程中使其具有過(guò)渡作用，有利于提高鍍膜強(qiáng)度和鍍膜質(zhì)量。
【附圖說(shuō)明】
[0008]圖1為本實(shí)用新型真空離子鍍膜系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0009]下面墊結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的真空離子鍍膜系統(tǒng)作詳盡說(shuō)明。
[0010]如圖1所示，本實(shí)用新型的真空離子鍍膜系統(tǒng)，包括真空鍍膜室，真空鍍膜室內(nèi)設(shè)置有離子發(fā)射源，真空鍍膜室的左右兩側(cè)分別設(shè)置有一個(gè)前密封室和一個(gè)后密封室，后密封室后方設(shè)置有保溫室，所述前密封室的前方設(shè)置有前過(guò)渡室，保溫室的后方設(shè)置有后過(guò)渡室，還包括位于前過(guò)渡室、前密封室、真空鍍膜室、后密封室、保溫室、后過(guò)渡室內(nèi)的輸送裝置，待鍍膜的板材能夠通過(guò)輸送裝置依次進(jìn)入到前過(guò)渡室、前密封室、真空鍍膜室、后密封室、保溫室、后過(guò)渡室內(nèi)；所述真空鍍膜室的一側(cè)設(shè)置有用于抽真空的真空泵；離子發(fā)射源設(shè)置有5個(gè)以上，前密封室和后密封室內(nèi)分別設(shè)置有密封門，各個(gè)密封門上均設(shè)置有感應(yīng)開關(guān)，所述感應(yīng)開關(guān)檢測(cè)到板材進(jìn)入進(jìn)出狀況后能夠啟閉密封室使板材進(jìn)入前密封室或送出后密封室。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種真空離子鍍膜系統(tǒng)，其特征在于:包括真空鍍膜室，真空鍍膜室內(nèi)設(shè)置有離子發(fā)射源，真空鍍膜室的左右兩側(cè)分別設(shè)置有一個(gè)前密封室和一個(gè)后密封室，所述后密封室后方設(shè)置有保溫室，所述前密封室的前方設(shè)置有前過(guò)渡室，保溫室的后方設(shè)置有后過(guò)渡室，還包括位于前過(guò)渡室、前密封室、真空鍍膜室、后密封室、保溫室、后過(guò)渡室內(nèi)的輸送裝置，待鍍膜的板材能夠通過(guò)輸送裝置依次進(jìn)入到前過(guò)渡室、前密封室、真空鍍膜室、后密封室、保溫室、后過(guò)渡室內(nèi)；所述真空鍍膜室的一側(cè)設(shè)置有用于抽真空的真空泵。
2.按照權(quán)利要求1所述的真空離子鍍膜系統(tǒng)，其特征在于:所述離子發(fā)射源設(shè)置有5個(gè)以上。
3.按照權(quán)利要求1所述的真空離子鍍膜系統(tǒng)，其特征在于:所述前密封室和后密封室內(nèi)分別設(shè)置有密封門，各個(gè)密封門上均設(shè)置有感應(yīng)開關(guān)，所述感應(yīng)開關(guān)檢測(cè)到板材進(jìn)入進(jìn)出狀況后能夠啟閉密封室使板材進(jìn)入前密封室或送出后密封室。
【專利摘要】本實(shí)用新型是一種真空離子鍍膜系統(tǒng)。包括真空鍍膜室，真空鍍膜室內(nèi)設(shè)置有離子發(fā)射源，真空鍍膜室的左右兩側(cè)分別設(shè)置有一個(gè)前密封室和一個(gè)后密封室，后密封室后方設(shè)置有保溫室，前密封室的前方設(shè)置有前過(guò)渡室，保溫室的后方設(shè)置有后過(guò)渡室，還包括位于前過(guò)渡室、前密封室、真空鍍膜室、后密封室、保溫室、后過(guò)渡室內(nèi)的輸送裝置，待鍍膜的板材能夠通過(guò)輸送裝置依次進(jìn)入到各個(gè)室內(nèi)；真空鍍膜室的一側(cè)設(shè)置有真空泵。采用上述的結(jié)構(gòu)后，使膜料成為膜料蒸汽，均勻鍍?cè)诓Ａ?，有利于提高鍍膜的質(zhì)量，設(shè)置的保溫室，起到加溫作用，進(jìn)一步增強(qiáng)鍍膜強(qiáng)度，更重要的是可以在鍍完膜后出爐過(guò)程中使其具有過(guò)渡作用，有利于提高鍍膜強(qiáng)度和鍍膜質(zhì)量。
【IPC分類】C23C14-32, C23C14-56
【公開號(hào)】CN204265833
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420729923
【發(fā)明人】石芳萍
【申請(qǐng)人】深圳市炬宇泰科技有限公司
【公開日】2015年4月15日
【申請(qǐng)日】2014年11月29日