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一種臥式真空退火爐的制作方法

文檔序號:8746594閱讀:245來源:國知局
一種臥式真空退火爐的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及材料熱處理裝置,具體涉及一種臥式真空退火爐。
【背景技術】
[0002]真空熱處理是指工件在真空狀態(tài)下進行加熱、保溫或降溫的熱處理過程。真空熱處理可以實現(xiàn)幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝,但熱處理質量卻大大提高。與常規(guī)熱處理相比,真空熱處理可同時實現(xiàn)無氧化、無脫碳、無滲碳,從而達到工件表面光亮凈化的效果。
[0003]現(xiàn)有的真空退火爐由于溫度控制不精確、爐內溫度不均勻等原因,造成材料熱處理效果不好。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型的目的是提供一種臥式真空退火爐,材料熱處理效果好。
[0005]為實現(xiàn)上述目的,本實用新型的一個實施例所采取的技術方案是:
[0006]包括桶狀臥式爐體,爐體位于爐臺上,爐體內設有桶狀爐膽,爐膽下方設有料臺,料臺上部位于爐膽內,下部位于爐體下端;爐膽側面設有加熱元件,爐膽上方設有水冷裝置,水冷裝置接水冷電極;爐體一側設有爐門,另一側設有氣冷風扇,氣冷風扇連接旋轉電機;爐膽殼體設有保溫層,爐膽內設有溫度傳感器,溫度傳感器連接控制器,控制器連接旋轉電機、水冷電極和加熱元件。
[0007]優(yōu)選地,控制器連接控制面板,控制面板上設有溫度顯示裝置、溫度設定按鈕、溫度鎖定按鈕、報警指示燈和蜂鳴報警器。
[0008]優(yōu)選地,加熱元件為U形二硅化鉬加熱元件。
[0009]本臥式真空退火爐產(chǎn)生的有益效果為:爐膽內設有溫度傳感器,溫度傳感器連接控制器,控制器連接旋轉電機、水冷電極和加熱元件,能夠實現(xiàn)對爐內溫度的精確控制;爐體上設有氣冷風扇,實現(xiàn)爐內溫度均勻,材料熱處理效果好。
【附圖說明】
[0010]圖1所示為本實用新型的一種臥式真空退火爐的一個實施例的示意圖。
【具體實施方式】
[0011]為使本實用新型的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚,下面將結合本實用新型具體實施例及相應的附圖對本實用新型技術方案進行清楚、完整地描述。
[0012]參考圖1,在本實用新型的一個實施例中,包括桶狀臥式爐體10,爐體10位于爐臺I上,爐體10內設有桶狀爐膽6,爐膽6下方設有料臺2,料臺2上部位于爐膽6內,下部位于爐體10下端;爐膽6側面設有加熱元件,爐膽6上方設有水冷裝置8,水冷裝置8接水冷電極5 ;爐體一側設有爐門9,另一側設有氣冷風扇3,氣冷風扇3連接旋轉電機4 ;爐膽6殼體設有保溫層7,爐膽6內設有溫度傳感器,溫度傳感器連接控制器,控制器連接旋轉電機4、水冷電極5和加熱元件。
[0013]在本實用新型的一個實施例中,控制器連接控制面板,控制面板上設有溫度顯示裝置、溫度設定按鈕、溫度鎖定按鈕、報警指示燈和蜂鳴報警器。
[0014]在本實用新型的一個實施例中,加熱元件為U形二硅化鉬加熱元件。
[0015]上述實施方式用來解釋說明本實用新型,而不是對本實用新型進行限制,在本實用新型的精神和權利要求的保護范圍內,對本實用新型做出的任何修改和改變,都落入本實用新型的保護范圍。
【主權項】
1.一種臥式真空退火爐,其特征是,包括桶狀臥式爐體,所述爐體位于爐臺上,所述爐體內設有桶狀爐膽,所述爐膽下方設有料臺,所述料臺上部位于所述爐膽內,下部位于爐體下端;所述爐膽側面設有加熱元件,所述爐膽上方設有水冷裝置,所述水冷裝置接水冷電極;所述爐體一側設有爐門,另一側設有氣冷風扇,所述氣冷風扇連接旋轉電機;所述爐膽殼體設有保溫層,所述爐膽內設有溫度傳感器,所述溫度傳感器連接控制器,所述控制器連接旋轉電機、水冷電極和加熱元件。
2.根據(jù)權利要求1所述的退火爐,其特征是,所述控制器連接控制面板,所述控制面板上設有溫度顯示裝置、溫度設定按鈕、溫度鎖定按鈕、報警指示燈和蜂鳴報警器。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的退火爐,其特征是,所述加熱元件為U形二硅化鉬加熱元件。
【專利摘要】本實用新型公開了一種臥式真空退火爐,包括桶狀臥式爐體,爐體位于爐臺上,爐體內設有桶狀爐膽,爐膽下方設有料臺,料臺上部位于爐膽內,下部位于爐體下端;爐膽側面設有加熱元件,爐膽上方設有水冷裝置,水冷裝置接水冷電極;爐體一側設有爐門,另一側設有氣冷風扇,氣冷風扇連接旋轉電機;爐膽殼體設有保溫層,爐膽內設有溫度傳感器,溫度傳感器連接控制器,控制器連接旋轉電機、水冷電極和加熱元件。本退火爐溫度控制精確、爐內溫度均勻,材料熱處理效果好。
【IPC分類】C21D1-26, C21D1-773
【公開號】CN204455212
【申請?zhí)枴緾N201520094817
【發(fā)明人】胡靜
【申請人】四川恩科光電技術有限公司
【公開日】2015年7月8日
【申請日】2015年2月11日
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