;上述導氣槽63設(shè)置在吸盤體61的頂面,導氣槽63連接吸孔62及環(huán)形吸槽64,吸孔62連接外設(shè)的真空發(fā)生器及氣泵,以便使吸附面上形成負壓,吸住待加工的晶體片。
[0031]導氣槽63由相互垂直的兩個長條狀槽體交叉形成為十字形槽體,導氣槽3的交叉點與吸孔62重疊,使吸孔62與導氣槽63連通;兩個長條狀槽體向兩側(cè)延伸至外側(cè)的環(huán)形槽體64內(nèi),以便使各環(huán)形槽體64與吸孔62連通;吸孔62的兩端分別延伸至吸盤體61的頂面及底面,吸孔62的底端設(shè)有接氣管65,接氣管65的上端與吸孔62連接,下端連接有氣管,氣管連接在外設(shè)的真空發(fā)生器及氣泵。
[0032]進一步,本實用新型通過設(shè)計一種包括工作臺、晶片固定組件及磨削組件的晶體片倒角裝置,工作臺為L型支撐結(jié)構(gòu),由橫向支撐塊及豎向支撐塊連接而成,橫向支撐塊上設(shè)置有晶體固定組件,磨削組件設(shè)置在豎向支撐塊上,晶體固定組件的第一導軌固定在橫向支撐座上,第一導軌上嵌有第一導槽,第一導槽固定在滑塊上部,滑塊的底部固定有連接塊,連接塊通過連桿連接在推塊上,推塊則連接固定在氣缸的推桿上,氣缸驅(qū)動推桿橫向運動,從而推動滑塊沿第一導軌橫向運動,滑塊上設(shè)置有晶片吸盤,晶片吸盤上吸附有待加工的晶體片,滑塊運動,以便將晶體片推至磨削組件的下方;磨削組件的第二導軌固定在工作臺的豎向支撐塊上,第二導軌上嵌有第二導槽,第二導槽沿第二導軌豎向自由運動,第二導槽固定在活動座上,活動座的上部插設(shè)有絲桿,并與絲桿螺紋連接,絲桿的上部插入在絲桿座內(nèi),絲桿座驅(qū)動絲桿旋轉(zhuǎn),以便帶動活動座沿第二導軌豎向運動,活動座上固定有電機,電機轉(zhuǎn)軸設(shè)置在電機下部,電機轉(zhuǎn)軸上設(shè)置砂輪,活動座帶動砂輪移動至待加工晶體片處,電機驅(qū)動砂輪旋轉(zhuǎn),以便打磨晶體片周緣,形成倒角。進一步,裝置工作臺內(nèi)固定有第一導軌,第一導軌上插套有一個滑塊,滑塊由氣缸推進,氣缸上固定有一塊支撐板,支撐板上固定有一個樹杈形支架,該支架是用來在氣缸輸出軸復位停止的時候,裝載晶體片時候?qū)⒕w片固定在晶體吸盤上,氣缸輸出軸端連接有推塊,推板與滑塊通過螺栓螺接,可以通過螺栓調(diào)節(jié)滑塊和氣缸之間的距離,從而能夠保證氣缸將滑塊上的晶體片精確推送到砂輪前與砂輪精確磨削,晶體吸盤通過軸承轉(zhuǎn)動連接在滑塊上,且通過步進電機驅(qū)動,砂輪也通過步進電機驅(qū)動,砂輪側(cè)邊工作臺上還設(shè)輸送冷卻液裝置,整個砂輪裝置固定在活動座上,活動座插套有第二導軌,第二滑塊通過絲桿驅(qū)動,從而調(diào)節(jié)砂輪的上下位置,根據(jù)不同的產(chǎn)品調(diào)節(jié)不同的位置。
[0033]本實用新型的實施例只是介紹其【具體實施方式】,不在于限制其保護范圍。本行業(yè)的技術(shù)人員在本實施例的啟發(fā)下可以作出某些修改,故凡依照本實用新型專利范圍所做的等效變化或修飾,均屬于本實用新型專利權(quán)利要求范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種晶體片倒角裝置,其特征在于:包括工作臺(1)、晶片固定組件及磨削組件,其中,上述工作臺(I)為L型支撐結(jié)構(gòu),工作臺(I)由橫向支撐塊及豎向支撐塊連接而成;上述晶片固定組件設(shè)置在橫向支撐塊上,晶片固定組件上放置待加工的晶片,并推動晶片橫向運動至豎向支撐塊處;上述磨削組件設(shè)置在豎向支撐塊上,磨削組件驅(qū)動砂輪(20)沿豎向支撐塊進行豎向運動,以便將砂輪(20)推至待加工的晶片處,對晶片進行磨削倒角。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶體片倒角裝置,其特征在于:所述的晶片固定組件包括第一固定座(11)、第一導軌(2)、第一導槽(3)、滑塊(4)、連接塊(5)、晶片吸盤(6)、連桿(7)、推塊(8)、推桿(9)及氣缸(10)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種晶體片倒角裝置,其特征在于:所述的第一導軌(2)固定設(shè)置在工作臺(I)的橫向支撐塊上,并沿橫向支撐塊延伸;上述第一導槽(3)嵌在第一導軌(2)內(nèi),并沿第一導軌自由運動;第一導槽(3)的上端固定在滑塊(4)上,并帶動滑塊(4)橫向運動;滑塊(4)上固定有晶片吸盤(6),晶片吸盤(6)上放置待加工的晶體片,滑塊(4)運動帶動晶片吸盤(6)運動,以便將晶體片推送至砂輪(20)的下部。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種晶體片倒角裝置,其特征在于:所述的滑塊(4)的下部固定有連接塊(5),連接塊(5)的左端固定有連桿(7),連桿(7)的左端固定在推塊(8)上,推塊(8 )的左端固定在推桿(9 )上,推桿(9 )推動推塊(8 )橫向運動。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種晶體片倒角裝置,其特征在于:所述的推桿(9)設(shè)置在氣缸(10 )內(nèi),氣缸(10 )驅(qū)動推桿(9 )橫向運動,以便依此推動推塊(8 )、連桿(7 )、連接塊(5 )及滑塊(4 )橫向運動;上述氣缸(10 )的左端固定在第一固定座(11)上,第一固定座(11)固定在工作臺(I)的橫向支撐塊上。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種晶體片倒角裝置,其特征在于:所述的磨削組件包括第二導軌(12)、第二導槽(13)、活動座(14)、絲桿(15)絲桿座(16)、第二固定座(17)、固定板(18)、電機(19)及砂輪(20)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種晶體片倒角裝置,其特征在于:所述的第二導軌(12)固定設(shè)置在上述工作臺(I)的豎向支撐塊上,并沿豎向支撐塊延伸;第二導槽(13)嵌在第二導軌(12)內(nèi),并沿第二導軌(12)自由運動,第二導槽(13)的外端固定在活動座(14)上,活動座(14)的上端插設(shè)有絲桿(15),并與絲桿(15)螺紋連接;絲桿(15)的上端插在絲桿座(16)中,絲桿座(16)驅(qū)動絲桿(15)旋轉(zhuǎn),以便帶動活動座(14)沿第二導軌(12)豎向運動;上述絲桿座(16)固定在第二固定座(17)上,第二固定座(17)固定在工作臺(I)的豎向支撐塊上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種晶體片倒角裝置,其特征在于:所述的活動座(14)的左側(cè)向外延伸形成支撐平臺,該支撐平臺上可拆卸地固定有固定板(18),固定板(18)上固定有電機(19),電機(19)的電機軸向下延伸穿過活動座(14),電機軸的下端固定有砂輪(20),電機(19)隨活動座(14)豎向運動,以便使砂輪移動至待加工的晶體片附近,電機(19)驅(qū)動砂輪(20)旋轉(zhuǎn),以便打磨晶體片周緣,進行倒角。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種晶體片倒角裝置,其特征在于:所述的晶體吸盤(6)包括吸盤體(61)、吸孔(62)、導氣槽(63)及環(huán)形吸槽(64),其中,上述吸盤體(61)為圓柱體結(jié)構(gòu),吸孔(62 )設(shè)置在吸盤體(61)上,并貫穿吸盤體(61);環(huán)形槽(64)包括至少二個,各環(huán)形槽(64)間隔設(shè)置在吸盤體(61)的頂面,并向下凹陷,形成晶體吸附面,以便吸附晶體;上述導氣槽(63)設(shè)置在吸盤體(61)的頂面,導氣槽(63)連接吸孔(62)及環(huán)形吸槽(64),吸孔(62)連接外設(shè)的真空發(fā)生器及氣泵,以便使吸附面上形成負壓,吸住待加工的晶體片。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種晶體片倒角裝置,其特征在于:所述的導氣槽(63)由相互垂直的兩個長條狀槽體交叉形成為十字形槽體,導氣槽(3)的交叉點與吸孔(62)重疊,使吸孔(62)與導氣槽(63)連通;兩個長條狀槽體向兩側(cè)延伸至外側(cè)的環(huán)形槽體(64)內(nèi),以便使各環(huán)形槽體(64 )與吸孔(62 )連通;吸孔(62 )的兩端分別延伸至吸盤體(61)的頂面及底面,吸孔(62)的底端設(shè)有接氣管(65),接氣管(65)的上端與吸孔(62)連接,下端連接有氣管,氣管連接在外設(shè)的真空發(fā)生器及氣泵。
【專利摘要】本實用新型公開了一種晶體片倒角裝置,包括工作臺、晶片固定組件及磨削組件,其中,上述工作臺為L型支撐結(jié)構(gòu),工作臺由橫向支撐塊及豎向支撐塊連接而成;上述晶片固定組件設(shè)置在橫向支撐塊上,晶片固定組件上放置待加工的晶片,并推動晶片橫向運動至豎向支撐塊處;上述磨削組件設(shè)置在豎向支撐塊上,磨削組件驅(qū)動砂輪沿豎向支撐塊進行豎向運動,以便將砂輪推至待加工的晶片處,對晶片進行磨削倒角。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單,操作方便快捷,加工精度高,生產(chǎn)效率高。
【IPC分類】B24B9-16, B24B41-02, B24B47-02
【公開號】CN204584903
【申請?zhí)枴緾N201520087516
【發(fā)明人】章仁上
【申請人】德清晶生光電科技有限公司
【公開日】2015年8月26日
【申請日】2015年2月9日