中頻磁控反應(yīng)濺射沉積玫瑰金膜層的設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種中頻磁控反應(yīng)濺射沉積玫瑰金膜層的設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]玫瑰金(rose gold)是一種黃金和銅的合金，由于其具有非常時(shí)尚、靚麗的玫瑰紅色彩和迷人柔和的色調(diào)，因而廣泛用于首飾設(shè)計(jì)和加工，玫瑰金的成分為:純金+銅+銀/鋅。因?yàn)槠浜铣杀壤m中，具有延展性強(qiáng)、堅(jiān)硬度高、色彩多變等特點(diǎn)，同時(shí)融合25%的其他金屬，硬度大，不易變形或刮傷，運(yùn)用在精密細(xì)巧的金飾設(shè)計(jì)上，能盡情發(fā)揮復(fù)雜精美的設(shè)計(jì)創(chuàng)意。
[0003]最開始玫瑰金膜層是使用水電鍍方法，由于抗氧化、耐磨性能、抗變色性能不理想，又有環(huán)保問(wèn)題，逐漸被真空鍍膜所取代。
[0004]真空鍍膜制備玫瑰金是采用玫瑰金靶材制備的，抗氧化、耐磨性能、抗變色性能大大提高，但耐化學(xué)品性能不佳，此外玫瑰金使用了貴金屬黃金，成本高，黃金稀缺，因而限制了其應(yīng)用。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]為了克服現(xiàn)有技術(shù)的上述缺點(diǎn)，本實(shí)用新型提供一種中頻磁控反應(yīng)濺射沉積玫瑰金膜層設(shè)備，它采用中頻磁控反應(yīng)濺射法制備了不含金的玫瑰金，成本低，各項(xiàng)性能優(yōu)良，耐化學(xué)品性能優(yōu)異，其亮度和黃度與含真金的玫瑰金比較相近。
[0006]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:一種中頻磁控反應(yīng)濺射沉積玫瑰金膜層的設(shè)備，包括一個(gè)密封的真空腔體，該真空腔體采用左右對(duì)稱的結(jié)構(gòu)，在真空腔體30°位置處設(shè)置有小凸腔用于放置離子源，在真空腔體0°及180°位置處設(shè)置有小凸腔用于放置鈦鋁合金靶、鈦靶及鈦靶、石鋯靶，在該真空腔體內(nèi)設(shè)置有一個(gè)圓環(huán)形的工件轉(zhuǎn)架，在該工件轉(zhuǎn)架上則均勻設(shè)置有若干個(gè)工件，在工件圍成的內(nèi)圓內(nèi)設(shè)置有上下兩排呈弧形對(duì)稱排列的加熱管，在真空腔體的90°側(cè)面連有一個(gè)抽真空口，在真空腔體的270°位置開有爐門。
[0007]在所述真空腔體0°及180°位置上的凸腔旁布置有氣源管。
[0008]在所述上下兩排加熱管之間布置有氣源管。
[0009]本實(shí)用新型的有益效果是:全球玫瑰金(非金)顏色標(biāo)準(zhǔn)色辦片具有亮度高、紅度高、黃度高、膜層均勻的特點(diǎn)。工藝穩(wěn)定性及一致性較好；膜層厚度、硬度、抗氧化性能、耐腐蝕性與真金相比更加優(yōu)越。
【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖中:1-抽真空口，2-真空腔體，3-工件，4-離子源，5-鈦鋁合金靶，6-氣源管，7-鈦靶，8-鈦靶，9-鋯靶，10-工件轉(zhuǎn)架，11-加熱管。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。
[0013]參見圖1，一種中頻磁控反應(yīng)濺射沉積玫瑰金膜層的設(shè)備，包括一個(gè)密封的真空腔體2，該真空腔體采用左右對(duì)稱的結(jié)構(gòu)，在真空腔體30°位置處設(shè)置有小凸腔用于放置離子源4，用于離子清洗工件，在真空腔體0°及180°位置處設(shè)置有小凸腔用于放置放置鈦鋁合金靶5、鈦靶7及鈦靶8、石鋯靶9，在該真空腔體內(nèi)設(shè)置有一個(gè)圓環(huán)形的工件轉(zhuǎn)架10，在該工件轉(zhuǎn)架上則均勻設(shè)置有若干個(gè)工件3，在工件圍成的內(nèi)圓內(nèi)設(shè)置有上下兩排呈弧形對(duì)稱排列的加熱管11，在真空腔體的90°側(cè)面連有一個(gè)抽真空口 1，真空口用于連接真空系統(tǒng)，在真空腔體的270°位置開有爐門，用于進(jìn)出工件。
[0014]在所述真空腔體0°及180°位置上的凸腔旁設(shè)置布置有氣源管6。
[0015]在所述上下兩排加熱管之間布置有氣源管。
[0016]本實(shí)用新型設(shè)備所鍍玫瑰金膜層綜合性能優(yōu)異，各項(xiàng)性能滿足五金裝飾行業(yè)的要求，已成功用于手表、3C產(chǎn)品的外觀鍍膜裝飾保護(hù)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種中頻磁控反應(yīng)濺射沉積玫瑰金膜層的設(shè)備，包括一個(gè)密封的真空腔體，其特征是:該真空腔體采用左右對(duì)稱的結(jié)構(gòu)，在真空腔體30°位置處設(shè)置有小凸腔用于放置離子源，在真空腔體0°及180°位置處設(shè)置有小凸腔用于放置鈦鋁合金靶、鈦靶及鈦靶、石鋯靶，在該真空腔體內(nèi)設(shè)置有一個(gè)圓環(huán)形的工件轉(zhuǎn)架，在該工件轉(zhuǎn)架上則均勻設(shè)置有若干個(gè)工件，在工件圍成的內(nèi)圓內(nèi)設(shè)置有上下兩排呈弧形對(duì)稱排列的加熱管，在真空腔體的90°側(cè)面連有一個(gè)抽真空口，在真空腔體的270°位置開有爐門。2.如權(quán)利要求1所述中頻磁控反應(yīng)濺射沉積玫瑰金膜層的設(shè)備，其特征是:在所述真空腔體0°及180°位置上的小凸腔旁布置有氣源管。3.如權(quán)利要求1所述中頻磁控反應(yīng)濺射沉積玫瑰金膜層的設(shè)備，其特征是:在所述上下兩排加熱管之間布置有氣源管。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種中頻磁控反應(yīng)濺射沉積玫瑰金膜層的設(shè)備，包括一個(gè)密封的真空腔體，該真空腔體采用左右對(duì)稱的結(jié)構(gòu)，在真空腔體30°位置處設(shè)置有小凸腔用于放置離子源，在真空腔體0°及180°位置處設(shè)置有小凸腔用于放置鈦鋁合金靶、鈦靶及鈦靶、石鋯靶，在該真空腔體內(nèi)設(shè)置有一個(gè)圓環(huán)形的工件轉(zhuǎn)架，在該工件轉(zhuǎn)架上則均勻設(shè)置有若干個(gè)工件，在工件圍成的內(nèi)圓內(nèi)設(shè)置有上下兩排呈弧形對(duì)稱排列的加熱管，在真空腔體的90°側(cè)面連有一個(gè)抽真空口，在真空腔體的270°位置開有爐門。全球玫瑰金（非金）顏色標(biāo)準(zhǔn)色辦片具有亮度高、紅度高、黃度高、膜層均勻的特點(diǎn)。
【IPC分類】C23C14/14, C23C14/35
【公開號(hào)】CN204714889
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520405326
【發(fā)明人】杜旭穎, 阮志明, 王大洪, 曾德強(qiáng), 馮偉
【申請(qǐng)人】深圳市正和忠信股份有限公司
【公開日】2015年10月21日
【申請(qǐng)日】2015年6月13日